【課題】水ジェットにより汚染土壌を切削し、切削により形成された空洞に非汚染土壌を注入することにより、汚染土壌と非汚染土壌とを置換する原位置置換方法において、置換された非汚染土壌の再汚染を防止して、施工部を長期に亘り清浄に維持する。
【解決手段】浄化剤５Ａを含む非汚染土壌５を用いて汚染土壌を置換する。非汚染土壌と共に浄化剤を空洞１〜４に注入するため、取り残した汚染土壌や周辺に存在した汚染物質Ｘが、浄化処理後の非汚染土壌中に拡散してきた場合でも、浄化剤５Ａにより汚染物質を分解し、長期に亘り、浄化領域の土壌を清浄に維持することができる。 （もっと読む）

【課題】有機物含有水を濾過した分離膜を膜洗浄することにより濾過性能が確実かつ十分に回復する膜分離装置及び膜分離方法を提供する。
【解決手段】膜モジュール３を逆洗するときには、ポンプ２を停止し、バルブ２ａ，４を閉、バルブ７，１１を開とし、ポンプ９を作動させる。これにより、濾過水槽５内の濾過水が配管８，３を介して膜モジュール３の２次側３ｂに供給され、膜を逆方向に浸透し、配管１０から逆洗排水として排出される。原水槽１内に有機物濃度センサ１３が設置されており、その検出値が制御器１４に入力されている。上記逆洗に際しては、所定の濾過水供給速度となるようにポンプ９の回転速度が制御される。膜洗浄時の洗浄流体の供給速度を被処理水中の有機物濃度に応じて制御する。有機物濃度と洗浄流体供給速度とを直線的に比例させてもよく、有機物濃度が高くなるのに従って洗浄流体供給速度を段階的に増加させてもよい。 （もっと読む）

【課題】 半導体ウェハのレジストを細部に亘って効果的に洗浄することを可能にする。
【解決手段】 過硫酸溶液を洗浄液として被洗浄材１を洗浄する洗浄装置と、電解反応により硫酸イオンから過硫酸イオンを生成して過硫酸溶液を再生する電解反応装置１７、２７、３７と、洗浄装置と電解反応装置との間で溶液を循環させる循環ライン１３、２３、３３、１５、２５、３５、送液ポンプ１４、２４、３４を有し、洗浄装置には被洗浄材を順次洗浄する複数段の洗浄槽１０、２０、３０を有し、前記洗浄槽の洗浄液の硫酸濃度が下段ほど低くなるように設定されている。好適には、第１段目の洗浄槽の硫酸濃度を１７Ｍ以上、第２段目以降の硫酸濃度を８Ｍ〜１５Ｍの範囲内とする。前段側の洗浄槽で洗浄効果の高い濃硫酸で効果的にレジストなどの汚染物を除去し、細部については後段の粘性の低い硫酸で効果的に汚染物を除去する。 （もっと読む）

【課題】 半導体ウエハなどの被洗浄材を効果的に洗浄する。
【解決手段】 過硫酸溶液を洗浄液として被洗浄材を洗浄する洗浄装置１と、電解反応により溶液に含まれる硫酸イオンから過硫酸イオンを生成して過硫酸溶液を再生する電解反応装置２０と、洗浄装置１と電解反応装置２０との間で溶液を循環させる循環ライン４、５、６、１０、１１と、溶液中のＳＳを除去するＳＳ捕捉フィルタ１３を備えるＳＳ除去装置１２とを有する。ＳＳ除去装置は、複数の洗浄槽の内、最初の洗浄順位の洗浄槽１ａの循環ライン１０に介設する。最初の洗浄順位の洗浄槽１ａは独立して洗浄液を循環可能とし、後側洗浄順位の洗浄槽１ｂ、１ｂは直列にして洗浄液を循環可能にする。過硫酸溶液を電解反応装置によって再生して洗浄に使用できる。また、システムで生成されるＳＳは、ＳＳ除去装置で効果的に除去される。 （もっと読む）

【課題】ＴＯＣ成分を含むフッ素含有水の処理において、フッ素のカルシウム化合物による処理に及ぼすＴＯＣ成分の悪影響を防ぎ、フッ素を効率よく除去してフッ素濃度の低い処理水を得ることができるＴＯＣ成分を含むフッ素含有水の処理方法および処理装置を提供する。
【解決手段】ＴＯＣ成分（スケール防止能を有し、分子量が９０以上の多価有機物）を含むフッ素含有水のカルシウム化合物による処理方法および処理装置において、予めＴＯＣ成分除去工程を設けてＴＯＣ成分を除去した後、カルシウム化合物を添加して効率よくフッ素化合物を沈殿させる。ＴＯＣ成分除去工程として、活性炭や疎水性吸着剤、イオン交換樹脂およびカルシウム化合物以外の無機凝集剤のいずれかの手段が採用される。 （もっと読む）

【課題】固液分離効率に優れた沈殿槽を提供する。
【解決手段】原水はフィードウェル１２内に供給され、主として放射方向に流れた後、槽体内周壁面１１ｂに沿って上昇し、溢流堰１５を溢流し、清澄水排出管１６より排出される。この槽体内周壁面１１ｂに沿って周方向に配設された配管１４の下向きの流出孔１４ａから凝集剤が流出する。内壁面１１ｂに沿って上昇する水に凝集剤が万遍なく添加されるので、効率良く沈降分離処理がなされる。沈降物は、内周壁面１１ｂから槽体底面１１ａに沿って流れ、ピット状の排出部１３に流れ込み、ここから槽体１１外へ排出される。 （もっと読む）

【課題】ダストを少ない洗浄水量で効率的に脱塩洗浄する。
【解決手段】ダストに洗浄水を添加しスラリー化して、ダスト中の可溶性成分を溶出させ、スラリーを固液分離する。上澄水の６０％以上を溶出工程の洗浄水として循環し、沈殿物を脱水、洗浄する。この洗浄水として新水を添加し、洗浄排水を溶出工程の洗浄水として循環する。ダスト中の可溶性成分を、ダストに対して１０〜１００重量倍という十分量の洗浄水により効率的に溶出させて、塩素等の可溶性成分が十分に除去された沈殿物を得る。上澄水の６０％以上を溶出工程に循環するため、新水使用量を低減することができる。沈殿物を脱水、洗浄することにより可溶性成分を十分に除去する。この洗浄水として新水を用いるため、脱水ケーキ中に残留する塩素含有量を十分に洗浄除去して高い脱塩洗浄効果を得ることができる。ここで用いる新水は、ダストに対して０．１〜４．０倍量という比較的少ない量で足りる。 （もっと読む）

【課題】ポンプ内部に気体が溜まることを防止する。
【解決手段】ポンプ１０は、ケーシング１４内にインペラ４６を設け、シャフト４０でインペラ４６を回転させることにより被送液を吸込口２８から吸込んで昇圧し、吐出口３０から吐出する遠心ポンプである。エキスペラリング２２のうちエキスペラ５４の後面部に気体の抜き孔６２が設けられ、この抜き孔６２に導管６４が接続されている。エキスペラ５４の背後側に空気などの気体が溜まった場合、この気体は抜き孔６２及び導管６４を介して排出される。 （もっと読む）

【課題】
臭気ガスや揮発性有機化合物を含む排気ガスなどの汚染ガスを、光触媒を利用して効率よく分解処理すること。
【解決手段】
汚染物質を含む被処理ガスＧを、光触媒が担持された充填材が配設された充填材部３３へ光を照射する光照射部３５が配置されている反応部３へ導入し、この反応部３へ供給された酸化助剤（Ｆ）が存在する雰囲気中で、前記被処理ガスＧと前記充填材表面に液膜を形成して流れるスクラバー水Ｗとを接触させ、前記光触媒の酸化反応によって被処理ガスＧ中の汚染物質を分解する。 （もっと読む）

【課題】 汚泥の発生量、流量、汚泥性状等が変化した場合でも、脱水ケーキの低含水率を維持することおよび凝集不良による処理率低下の防止並びに汚泥脱水処理の安定化と共に凝集槽を有しない汚泥脱水機への適用が可能な汚泥の脱水方法および脱水装置を提供する。
【解決手段】 汚泥脱水機から分離される脱水ろ液の濁度を測定し、濁度の経時的変化分に基づいて注入する凝集剤の量を制御するようにした。 （もっと読む）