【課題】紫外光を用いた基板処理装置において、成膜の膜厚再現性を向上する半導体製造装置を提供する。
【解決手段】紫外光を照射する紫外光照射部１１０と、基板を処理する反応室１３０と、材料ガス及びエッチングガスを反応室に供給する供給部と、紫外光照射部と反応室を仕切る窓１２０とを有し、前述の窓は、成膜されている状態である基板処理装置１００。 （もっと読む）

【課題】基地局装置１と端末装置４１〜４６、５１〜５６とが無線により通信する無線通信システムで、端末装置の周波数の偏差を補正して、送受信周波数のずれを最小限に留める。
【解決手段】構内の所定の場所６１、６２に保管される端末装置と、構内に設けられる基地局装置及び所定の場所に設けられて基地局装置からの送信波を有線を介して入力するアンテナ２１、３１を有する。基地局装置では、基地局発生器１１が原振信号を発生し、送信波出力手段１２、１３が原振信号を用いて所定の未使用チャネルを使用して送信波を有線を介してアンテナへ出力する。端末装置では、端末発生器が原振信号を発生し、受信手段がアンテナからの送信波を受信し、差検出手段が当該原振信号と受信された送信波に基づく原振信号との差を検出し、制御手段が差が小さくなるように端末発生器の原振信号を制御する。 （もっと読む）

【課題】ノイズの影響を受けずにレギュレータＩＣを制御でき、デバイスへの供給電源電圧を一定範囲内に保持できる可変出力電圧レギュレータを提供する。
【解決手段】リニアレギュレータＩＣ２１の出力電圧値Ｖoutを帰還回路抵抗Ｒ１、Ｒ２により分圧して電圧値ＶfbをリニアレギュレータＩＣ２１に帰還すると共に帰還回路抵抗Ｒ２の両端間に電圧制御部３０を接続する。電圧制御部３０は、ＭＯＳ ＦＥＴ３１、３２、調整用抵抗素子Ｒ３、電圧監視回路３３からなり、ＭＯＳ ＦＥＴ３１と調整用抵抗素子Ｒ３の直列回路を帰還回路抵抗Ｒ２に並列に接続する。電圧監視回路３３をデバイスの近傍に配置してデバイスへの供給電圧を監視し、監視電圧値Ｖdetに応じてＭＯＳ ＦＥＴ３２、３１をオン／オフ制御し、調整用抵抗素子Ｒ３を帰還回路抵抗Ｒ２から分離又は並列に接続してリニアレギュレータＩＣ２１の出力電圧値Ｖoutを調整する。 （もっと読む）

【課題】石英部品を床置きした場合、床の汚れがシール面に付着して炉内に持ち込まれることによる炉内の汚染を防止できる熱処理装置を提供する。
【解決手段】石英からなるアウタチューブ１４とインナチューブからなる反応管と、前記アウタチューブと石英からなるマニホールド５０との間を気密に接合する第1の接合面と、前記マニホールドと石英からなるシールカバー３１との間を気密に接合する第２の接合面と、前記シールカバーとシールキャップ３０との間を気密に接合する第３の接合面と、を有する熱処理装置であって、前記第１または第２または第３の接合面の少なくとも１つの接合面にはＯリング５３が設けられており、前記接合面のＯリング部より外側に突起を設ける構成としたことを特徴とする熱処理装置。 （もっと読む）

【課題】従来の試験装置での測定は、操作者が試験装置の操作マニュアルを見なければ測定が困難であった。
本発明の目的は、測定装置の操作者が測定装置の操作マニュアルを見なくても被試験器の調整が行え、かつ被試験器の測定を行えることである。
【解決手段】本発明の測定装置は、電子機器の調整項目に応じて調整手順を表示する表示手段と、電子機器から出力する出力信号を測定する測定手段と、測定手段で測定した測定値の良否を判定する判定手段と、鳴音発生手段を備え、判定手段は、測定値の良否結果を表示手段に表示すると共に鳴音発生手段から鳴音させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】アンテナ９から混入した他キャリアなどの干渉波によって歪補償が誤動作をすることを防止するため、方向性結合器５とサーキュレータ７の間にアイソレータが挿入されている。方向性結合器５とサーキュレータ７の間の経路において接続不良または機器などの故障が発生したときには、この故障を検出する手段が備わっていないので、故障を検出することができないという問題があった。
【解決手段】送信データ１５をアップコンバートした送信高周波信号を電力増幅器４により増幅し、アンテナ９より出力する歪み補償増幅装置１において、増幅器４とアンテナ９の送信経路に挿入された方向性結合器５、第１サーキュレータ６、及び第２サーキュレータ７と、方向性結合器５、第１サーキュレータ６、及び第２サーキュレータ７の、反射波が取り出されるポートに接続された反射波検出回路１２〜１４とを備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】各工程で使用する薬液に乾燥残留後に問題となる有機物等が大気中から混入することによる洗浄工程内でのウエハへの有機汚染物質の付着を防ぐことができる基板洗浄装置を提供する。
【解決手段】基板を薬液により洗浄する処理室と、前記処理室内で基板を支持する支持具と、前記処理室内の前記基板に対して薬液を供給する配管と、前記基板に対して供給する前記薬液を収容する容器と、前記容器内または前記容器内の前記薬液液面上方の空間を排気する排気配管内に有機物非含有ガスを導入する有機物非含有ガス供給系とを有する。
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【課題】 サポート部と輪郭部とを備えたモデルを形成する光造形方法において、短時間で精度の高い光造形モデルを造形することができる光造形方法を提供する。
【解決手段】 三次元モデルの輪郭外周部１ｂのみを描画して硬化させた層を１層又は複数層形成した上に、サポート部２と輪郭内部１ａと輪郭外周部１ｂとを描画して硬化させた層を１層形成することを繰り返して積層すると共に、サポート部２と輪郭内部１ａの描画時には、輪郭外周部１ｂのみが描画されている層の深さまで樹脂を硬化させる強度を持つ光で描画を行う光造形方法としており、造形精度及びモデルの強度を損なうことなく、造形工程における描画時間を大幅に短縮することができるものである。 （もっと読む）

【課題】監視エリアを監視カメラで撮影しモニタに表示する場合において、天候不良や夜間に撮影した時の画像が不鮮明となり画像を識別ができないことがあり、災害、事故、及び事件への対応が遅れてしまうため、撮影された画像を鮮明にする方法を提供する。
【解決手段】
図１に示すように監視エリアに監視カメラ装置１００を設置し、監視カメラ装置１００は監視エリアの被写体１０１を撮影し、この撮影画像２０１と撮影位置情報をネットワークを経由して監視員の監視装置２に送信する。次に、監視装置２は、監視カメラ装置１００から撮影画像２０１と撮影位置情報を受信すると、撮影画像２０１と、撮影位置情報に対応する記憶画像２０２を合成し合成画像３を作成する。記憶画像２０２は、事前に撮影画像２０１と同じ監視エリアを撮影した静止画像を編集して作成されたものである。次に、監視装置２は、作成した合成画像３を監視装置２のモニタ４００に表示する。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成で膜厚を均一にすることが可能な半導体製造装置を提供する。
【解決手段】上記課題を解決するために、紫外光を照射する紫外光照射部１１０と、基板を処理する反応室１３０と、前記紫外光照射部１１０と向かい合う面に基板１３１を載置する基板載置部１３２と、鉛直方向において前記紫外光照射部１１０と前記基板載置部１３２との間に、基板の周囲から材料ガスを供給するガス供給部１３４とを有する基板処理装置１００を提供する。 （もっと読む）