【課題】微細パターンを有する製品のパターン計測を含めた検査のために照明光によるパターン画像を撮像する方式の検査装置において、簡便に検査領域外からの光の外乱影響を除去する検査装置を提供すること。
【解決手段】平面基板２ａを載置するステージ１と、このステージに載置された平面基板の被検査物２ｂを照明する光源７と、被検査物を撮像する撮像装置８とを備えるパターン検査装置であって、平面基板に略平行に近接して設けられた液晶シャッター４を備え、この液晶シャッターが、被検査物の検査対象領域３に応じて、遮光領域５と透光領域６とを可変分割形成できるものである。 （もっと読む）

【課題】耐候性、耐熱性、耐湿性、寸法安定性に優れ、反りやシワの発生が防止され、しかも高い生産性で製造できる太陽電池用裏面保護シートを提供する。
【解決手段】本発明の太陽電池用裏面保護シート１０は、繊維基材および熱硬化性樹脂の硬化物を含有する複合材料層１１と、複合材料層１１の一方に設けられた第１の機能層（Ｉ）（導体層１２）と、複合材料層１１の他方の面に設けられた第２の機能層（II）（保護層１３）とを有する。 （もっと読む）

【課題】従来よりも厚い塗布膜厚で印刷することが可能な印刷用版胴および印刷装置を提供する。
【解決手段】自身の中心軸周りに回転可能で側面に多数個の微細な穴を有する円筒状の外管と、前記外管の内部に配設された円筒状の内管と、前記内管を支えて固定する内管軸と、前記外管の内壁と前記内管の外壁で囲まれた空間に液状体を供給する液状体供給手段と、前記内管軸と前記外管の内壁との間に配置され、前記外管の内壁と前記内管の外壁で囲まれた空間から前記液状体が漏れないようにするシール手段とを有することを特徴とする印刷用版胴、およびこの印刷用版胴を用いた印刷装置。 （もっと読む）

【課題】本発明は、レジスト剥離処理時に硫酸過水を使用したことでマスク表面に残留する硫酸イオンを好適に除去するフォトマスク用ブランクの提供及び該フォトマスクブランクに好適なフォトマスクの製造方法の提供を目的とした。
【解決手段】基板と、前記基板上に形成され、露光光を吸収する遮光膜と、前記遮光膜上に形成され、アンモニア過水による洗浄工程で除去される上層吸着膜と、前記遮光膜と基板との間に形成され、前記遮光膜の露光転写パターン形成の際に行われるドライエッチングに対して耐性を有し、且つ、アンモニア過水による洗浄工程で除去される下層吸着膜と、を有することを特徴とするフォトマスク用ブランクである。 （もっと読む）

【課題】ロール状基材の薬液処理工程においては、ロール状基材は高速で搬送されているため、基材に対する目視での水切り状態や、水しみの発生の有無などの監視は困難である。代替的にニップロールの幅の圧を確認し、ニップロールに洗浄液がたまっていないかを確認することで水きり状態を判断することができるが、洗浄液が完全に切れているかを確認することは困難である。
【解決手段】ロール状基材を薬液処理するための、薬液処理手段、薬液洗浄手段、洗浄液切り手段、乾燥手段を備えた薬液処理装置であって、洗浄液切り手段と乾燥手段の間に、温度監視手段を備えていることを特徴とする薬液処理装置とする。 （もっと読む）

【課題】Ｗｅｔ処理装置（洗浄装置あるいは現像装置等液体を用いるプロセス処理機）内の基板搬送にも適用可能で、配管系の不要なコンパクトな基板吸着装置の提供を目的とした。
【解決手段】少なくとも、基板を気密に吸着するためのラッパ状の吸着口を備えるゴムパッド８と、前記ゴムパッドの基部を膜保持ハウジング３０を介して気密に被覆するダイアフラム膜７と、前記ダイアフラム膜７を変形させるための圧力制御ブロック３と、を有することを特徴とする基板吸着装置である。 （もっと読む）

【課題】湿潤膜厚が５０μｍを超えるような厚膜塗工において、容易に安定して所定の膜厚が得られ、更に安定した品質の塗膜が得られる塗工方法及び塗工装置を提供する。
【解決手段】塗液をグラビアロールに塗布した後、ドクターブレードで余分な塗液を掻き落とし、基材に塗工するグラビア塗工方法であって、湿潤膜厚が５０μｍを超える塗工において、グラビア版の中心軸とグラビア版の最下部を結ぶ線とドクター角度が９０度以内であり、且つ、ドクターブレードの下部に乾燥窒素ガスを噴きつけることを特徴とする塗工方法。 （もっと読む）

【課題】本発明にあっては、高いコントラストでありながら、強い擦傷性を有し、ぎらつきを強いレベルで抑制した防眩フィルム、およびそれを用いた透過型液晶ディスプレイを提供するものである。
【解決手段】透明基材と、その一方の面上に防眩層を備える防眩フィルムであって、防眩層のヘイズが５％以下であること、防眩層表面の十点平均高さが０．１５μｍ以上１．０μｍ以下であること、防眩層の粒子が存在する凸部と、粒子がなくバインダマトリックスのみの凹部の凹凸表面を備え、凹凸の平均間隔が１０μｍ以上１５０μｍ以下であること、防眩層がバインダマトリックス中に粒子を含み、且つ、粒子の屈折率（ｎ_Ａ）とバインダマトリックスの屈折率（ｎ_Ｍ）の屈折率差（｜ｎ_Ａ−ｎ_Ｍ｜）が０．００以上０．０４以下である。 （もっと読む）

【課題】プリフォームを延伸ブロー成形した容器の注出口に該当する部位に、別途に射出成形した注出口部を融着して得られる２パーツ方式の注出口付き延伸ブロー成形容器であって、容器の膜厚制御や容器の底隅部の形状制御が容易に成形できる延伸ブロー成形容器を提供することにある。
【解決手段】
プラスチック樹脂にて射出成形された筒状の注出口部Ｂと、該プラスチック樹脂と同種の樹脂にて射出成形された有底プリフォームＡを用いて延伸ブロー成形された有底筒状の胴体部Ｄとから構成され、前記注出口部Ｂの開口下端部と胴体部Ｄの開口上端部とが各々接合部にて溶融接着している。 （もっと読む）

【課題】画素内での厚膜化を抑制でき、発光効率や寿命の低減を向上させ、かつ非発光領域を減らすことで開口率を向上できる有機ＥＬパネル及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板と、基板の一方の面に形成された画素に対応してパターニングされた第１電極と、第１電極の端部を被覆して形成された第１絶縁層及び第１絶縁層上に形成された第２絶縁層を含む隔壁と、第１電極及び隔壁上に形成された有機発光層と、有機発光層を覆うように形成された第２電極と、を備え、有機発光層を形成する際に、有機発光層の端部から第１電極の中心までの幅をそれぞれＬ１、Ｌ２（Ｌ１＞Ｌ２）とし、Ｌ２側の有機発光層の端部は第２絶縁層上にあり、第２絶縁層の幅をＤとした場合、Ｄ／４≦｜Ｌ１−Ｌ２｜＜Ｄ／２の範囲になるように形成されることを特徴とする有機ＥＬパネル。 （もっと読む）