【課題】医薬品などの生理活性物質の合成中間体または原体として有用な光学活性スルホキシド化合物を、高い光学純度で製造する方法を提供する。
【解決手段】アルミニウム−サラレン錯体を光学活性金属錯体触媒としてチオアニソールで代表されるスルフィド化合物を、過酸化水素等の酸化剤を用いメタノール等の溶媒を用い液相酸化することによる、メチルフェニルスルホキシド等の光学活性スルホキシド化合物の製造方法および光学活性金属錯体の提供。 （もっと読む）

【課題】 半導体装置製造のリソグラフィ−工程においてフォトレジストの下層に使用される下層膜を形成するためのリソグラフィ−用下層膜形成組成物を提供する。
【解決手段】 ケイ素含有ポリマー（ａ）、及び多核フェノール（ｂ）を含む半導体装置製造のリソグラフィー工程に用いるレジスト下層膜形成組成物。ケイ素含有ポリマー（ａ）が、ポリシロキサン（ａ１）、ポリシラン（ａ２）、ポリカルボシラン（ａ３）、又はそれらの組み合わせである。多核フェノール（ｂ）が、分子内に２乃至３０個のフェノール性水酸基を有する化合物である。多核フェノール（ｂ）が、分子内に２乃至１０個のフェノール基を有する化合物である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、既存の高活性アルコール酸化触媒1-methyl-AZADOと同等の酸化触媒活性を有し、効率性、操作性、経済性に優れた方法で製造可能な有機酸化触媒を提案する。
【解決手段】安価なアセトンジカルボン酸、グルタルアルデヒド、アンモニア水を基礎原料として、３工程、総収率42％、１度の精製操作のみでN-オキシル基をビシクロ[3.3.1]
ノナン骨格上に組み込んだABNOの大量供給を可能とする方法の開発に成功した。そして、この化合物は1-methyl-AZADOと同様、TEMPOでは酸化が困難であった立体的に複雑な構造
を有する２級アルコールをも高効率に酸化できることに加え、１級アルコールに対してTEMPO以上の高い触媒回転率を示す有機酸化触媒となることを見出し本発明を完成するに至
った。 （もっと読む）

【課題】混合原子価錯体修飾ハイパーブランチポリマーを提供する。
【解決手段】ハイパーブランチポリマーに混合原子価錯体をイオン結合で固定化した高分子錯体を提供することで、スピンコート等による薄膜化が可能となり、混合原子価錯体の幅広い産業応用を可能とする。 （もっと読む）

【課題】基板方向（電極間方向）に高いイオン伝導性を示す新規な電解質組成物及びその製造方法並びにこれを用いた電気化学素子を提供する。
【解決手段】一対の配向膜付き基板を、配向膜の配向軸を一致させかつ一定の間隔を空けて配向膜面を対向させたセルを作製し、このセルを下記式（Ｉ）に示す液晶単量体と電解質塩と重合開始剤とを含む混合組成物の等方相転移温度以上に加熱した後、この混合組成物をセルに注入し、所望の液晶相を発現する温度までセルを冷却する。
Ｒ−α-Ｘｍ-β−Ａ-γ−Ｙｎ−ω ・・・（Ｉ）（Ｒはアクリル基、メタクリル基、エポキシ基、ビニル基、アリル基を示す。Ｘは−ＣＨ_２−を示し、ｍは１〜２０の整数を示す。Ａはメソゲン基を示す。Ｙは−ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ−または−ＣＨＣＨ_３ＣＨ_２Ｏ−を示し、ｎは１〜２０の整数を示す。α、β及びγは酸素原子あるいは酸素原子無し、ωは水素原子あるいはメチル基を示す） （もっと読む）

【課題】 １,３,４−トリメチルピラゾール−5−カルボン酸エステル類の新規製造方法の提供
【解決手段】
【化１】


式（１）：(但し、RはC_1-4アルキル基を表す)で表されるメチルヒドラジノ酢酸化合物とジアセチルを反応させることにより生じる式（２）で表されるヒドラジノ酸エステル誘導体を塩基存在下に反応させることを特徴とする式（３）で表される１,３,４−トリメチルピラゾール−５−カルボン酸エステルの製造方法。および、式（２）で表されるヒドラジノ酸エステル誘導体。 （もっと読む）

【課題】 Ｃａ／Ｚｎ系安定剤で、押出し成型時においてビルドアップ現象やプレートアウト現象が少なく成形加工性に優れ、しかも鉛系安定剤と同程度に表面の艶があり外観の優れた成形体が得られる塩化ビニル樹脂組成物及び塩化ビニル樹脂用安定剤を提供する。
【解決手段】 塩化ビニル樹脂１００質量部に対して、ヒドロキシ脂肪酸塩と脂肪酸塩とを質量比率で１：９〜９：１で、かつ、ヒドロキシ脂肪酸塩と脂肪酸塩との合計添加量が０．０５〜２．０質量部に含む硬質押出用塩化ビニル樹脂組成物、及びヒドロキシ脂肪酸塩と脂肪酸塩とが質量比率で１：９〜９：１に、ヒドロキシ脂肪酸塩と脂肪酸塩とを含む硬質押出用塩化ビニル樹脂用安定剤からなる。 （もっと読む）

【課題】 ２００℃以下の焼成でもラビング時に膜剥がれや傷が発生せず、かつ良好な液晶配向性が得られる液晶配向膜用材料を提供すること、２００℃以下の焼成で作製可能であり、ラビング時に膜剥がれや傷が発生せず、かつ良好な液晶配向性が得られる液晶配向膜、およびこの液晶配向膜を使用した液晶表示素子を提供すること。
【解決手段】 ジアミン成分と、テトラカルボン酸二無水物成分とを重合反応させることにより得られるポリアミック酸、又はこのポリアミック酸を脱水閉環して得られるポリイミドの、少なくとも一方のポリマーを含有する液晶配向剤であって、該ジアミン成分中には下記式［３］で表されるジアミンが含まれていることを特徴とする液晶配向剤。
【化１】


（ｎは１〜２０の整数であり、Ｒ_３は水素原子又はメチル基である） （もっと読む）

【課題】 新規な植物病害の防除方法を提供する。
【解決手段】 ３−（３−ブロモ−６−フルオロ−２−メチルインドール−１−イルスルホニル）−Ｎ，Ｎ−ジメチル−１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−１−スルホンアミド、シアゾファミド、フルアジナム、エタボキサムおよびベンチアバリカルブの中から選ばれる殺菌活性化合物の１種以上を植物種子に付着させること、または該殺菌活性化合物の１種以上を播種前から覆土後に栽培土壌に施用することを特徴とする植物病害の防除方法。 （もっと読む）

【課題】
半導体デバイス製造工程における銅配線、バリア層、及び絶縁膜層を含有した基板の平坦化工程に用いる二次研磨剤を提供する。
【解決手段】 （Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分、（Ｄ）成分、（Ｅ）成分、及び（Ｆ）成分を含む研磨用組成物であって、（Ａ）成分が水溶性高分子、（Ｂ）成分がポリカルボン酸（Ｂ１）、その塩（Ｂ２）又はそれらの混合物、（Ｃ）成分が縮合リン酸（Ｃ１）、その塩（Ｃ２）又はそれらの混合物、（Ｄ）成分が砥粒、（Ｅ）成分が酸化剤、及び（Ｆ）成分が水であり、そして５〜９のｐHを有する半導体デバイス製造における金属層、バリア層又は絶縁層の研磨に用いる研磨用組成物。研磨用組成物中の上記（Ａ）成分の含有量が０．０５〜５．０質量％、上記（Ｂ）成分の含有量が０．０１〜５．０質量％、上記（Ｃ）成分の含有量が０．５〜５．０質量％である。 （もっと読む）