日産化学工業株式会社により出願された特許
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チタン触媒、有機チタン反応試剤及びそれらの製造法並びにそれらを用いた反応方法
【課題】炭素−炭素不飽和結合と求電子官能基を有する化合物又は求電子試剤との反応に用いることができる、チタン触媒及びその製造法並びに有機チタン反応試剤及びその製造法を提供すること。
【解決手段】式(1)
TiX1X2X3X4 (1)〔X1,X2,X3,X4はハロゲン原子、炭素数1〜20のアルコキシ基、アラルキルオキシ基、アリールオキシ基又は−NRxRy基(Rx,Ryは炭素数1〜20のアルキル基等を表す)を示す。〕で表されるチタン化合物と、このチタン化合物の1〜10倍モル量の式(2) R1MgX5 (2)〔R1はβ位に水素原子を有する炭素数2〜10のアルキル基を、X5はハロゲン原子を示す。〕で表されるグリニャール試剤とから調製される、炭素−炭素不飽和結合と求電子官能基を有する化合物又は求電子試剤との反応用チタン触媒。
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置換ジアミン化合物および農園芸用殺菌剤
【課題】 新規殺菌剤の提供
【解決手段】
式(1):
【化1】
[式中、R1、R2、R4およびR5はそれぞれ水素原子を表し、R3およびR6は各々独立に、水素原子またはC2〜C6アルキル基を表し(ただし、R3およびR6どちらも同時に水素原子ではない)、Ar1およびAr2は各々独立に、置換されていてもよいフェニル基または置換されていてもよい5〜7員ヘテロ環を表し、Raは各々独立に、ハロゲン原子、シアノ基、C1〜C4アルキル基等を表し、X1およびX2は各々独立に酸素原子または硫黄原子である。]で示される置換ジアミン化合物またはその農薬として許容される塩、それらから選ばれる一種以上を有効成分として含有する農薬、殺菌剤。
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ジアルキルシクロブタン酸二無水物及びその製造法
【課題】紫外線領域に吸収がなく、光透過性が高く、さらに溶媒溶解性が改善された液晶配向膜や光通信用光導波路等の光学材料用ポリイミドの原料モノマーとなり得る脂環式テトラカルボン酸二無水物およびその製造法を提供することを課題とする。
【解決手段】式[1]
【化1】
(式中、Rは炭素数2〜10のアルキル基を表す。)
で表されるジアルキルシクロブタン−1,2,3,4−テトラカルボン酸−1,2:3,4−二無水化合物。
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チオフェン誘導体を用いたフォトクロミック材料並びに光記録媒体
【課題】 熱安定性に優れ、高量子収率で光環化反応を起こすチオフェン誘導体を提供する。
【解決手段】 式〔1〕または式〔2〕で表されるチオフェン誘導体。
{式中、Aは、Ph又はS含有五員環を表し、Eは、−(CH2)n−(nは、0または1を表す。)、−O−、−S−等を表し、R1,R2,R3,R4は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基等を表す}
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反射防止剤固化物の除去用洗浄液および洗浄方法
【課題】
本発明は、半導体素子の製造における半導体ウエハの加工工程で、塗布される反射防止剤によって生じる、不要な固化物を除去するために用いられる、洗浄液および洗浄方法を提供するものである。
【解決手段】
(A)プロピレングリコールアルキルエーテルの中から選ばれる少なくとも1種と、(B)ベンゼンスルホン酸またはアルキルベンゼンスルホン酸の中から選ばれる少なくとも1種とを含有する洗浄液とすることによって課題を達成できる。さらには(A)成分にプロピレングリコールモノメチルエーテルと、(B)成分にパラトルエンスルホン酸とを含有させる洗浄液が好ましい。
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ヘテロ環化合物及びトロンボポエチンレセプター活性化剤
【課題】 トロンボポエチンレセプター活性化作用が有効な疾患の予防・治療・改善薬を提供する。
【解決手段】式(1)
【化1】
[式中、Aは窒素原子又はCR4を意味し、Bは、酸素原子、硫黄原子又はNR9を意味し(但し、Aが窒素原子の場合、Bは、NHを意味しない。)、R1は、C2-14アリール基を意味し、L1は単結合、CR10R11、酸素原子、硫黄原子又はNR12を意味し、XはOR13、SR13又はNR14R15を意味し、R2は、水素原子、ホルミル基又はC1-10アルキル基等を意味し、L2は単結合等を意味し、L3は単結合、CR17R18、酸素原子、硫黄原子又はNR19を意味し、L4は単結合、CR20R21、酸素原子、硫黄原子又はNR22を意味し、Yは酸素原子、硫黄原子又はNR23を意味し、R3はC2-14アリール基を意味する。]で表される化合物、該化合物の互変異性体、プロドラッグ若しくはその医薬的に許容され得る塩又はそれらの溶媒和物。
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段差を有する基板上に被覆膜を形成する方法
【課題】
段差を有する基板上にコンフォーマル性の高い被覆膜を形成する方法を提供する。
【解決手段】
段差を有する基板上に、スピンコートによって被覆膜形成用組成物の塗布膜を形成する第1工程、前記塗布膜を有する基板を加熱することによって、前記塗布膜の下層部分を硬化する第2工程、及び溶剤によって前記塗布膜の上層部分を除去する第3工程、を含む段差を有する基板上にコンフォーマル性の高い被覆膜の形成方法。段差を有する基板が、高さ/幅の値が0.1〜1である段差を有する半導体基板である。第1工程のスピンコートが、回転速度500〜5000(回/分)、回転時間30〜300秒で行う。第2工程の加熱が、温度50〜150℃、時間10〜300秒で行う。第3工程が、前記塗布膜上に溶剤を塗布し、1〜300秒間経過後、前記基板を回転速度500〜5000(回/分)、回転時間30〜300秒で回転することによる。
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置換ベンズアニリド化合物及び有害生物防除剤
【課題】新規な農薬、特に殺虫剤又は殺ダニ剤を提供する。
【解決手段】一般式(1):
[W1及びW2は酸素原子又は硫黄原子、Xはハロゲン原子等、YはC1〜C6アルキル等、R1はC1〜C12アルキル等、R2及びR3は水素原子等、R4はC1〜C6アルキル又はC1〜C6ハロアルキル等、R5はフェノキシ(C1〜C6)ハロアルキル等、R6は水素原子、C1〜C12アルキル等、Zはハロゲン原子、C1〜C6ハロアルキル等、m及びnは0〜4の整数、p1は1〜5の整数を表す。]で表される置換ベンズアニリド化合物又はその塩、及びそれらを含有する有害生物防除剤。
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ホウ素化合物を含む半導体用洗浄液組成物及び洗浄方法
【課題】本発明は、半導体ウェハ加工工程において、残渣物を洗浄するための組成物及び洗浄方法に関する。
【解決手段】前記組成物は、(a)ホウ素化合物、(b)少なくとも1種の有機溶媒、(c)少なくとも1種の無機酸または有機酸、(d) 少なくとも1種の塩基性化合物、及び(e)水を含有する。また、この組成物に任意成分として、(f)少なくとも1種のメルカプト基を有する防食剤を加えてもよい。
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アントラセン系有機ゼオライト類縁体、製造法及びその用途
【課題】 空気や湿気に安定で取り扱いが容易であるとともに優れた吸着性能を有する有機ゼオライトの提供。
【解決手段】 例えば、9,10−ビス〔3,5−ビス(4−ヒドロキシビフェニル)−1−フェニル〕アントラセンを酢酸エチルに溶解させ、クロロホルムを加えて得られる多孔質有機結晶構造を有するアントラセン系有機ゼオライト。
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