【課題】 簡易な構成でありながら、生産効率を過度に低下させることなく記録不良を防止することが可能な画像記録方法を提供すること。
【解決手段】 インクジェットヘッド１０により記録媒体Ｐに対して画像４１とともに検査パターン４２を記録する画像記録工程と、検査パターン４２をＣＣＤカメラ１４で撮像することによりインク吐出ノズルが正確にインクを吐出しているか否かを検査する検査工程と、インクが正確に吐出されていないと判断されたときに記録媒体Ｐをオペレータが目視により観察することにより記録媒体Ｐに適正な画像が記録されているか否かを判定する判定工程と、記録媒体Ｐの画像が適正でないと判断されたときには、インク吐出ノズルを清掃し、また、記録媒体Ｐの画像が適正であると判断されたときには検査基準を修正した後に次の画像の記録を実行する継続記録工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】基板表面の処理液をＩＰＡなどの低表面張力溶剤に置換させる基板処理方法および基板処理装置において、少ない低表面張力溶剤の使用量で処理液を効率よく確実に置換する。
【解決手段】リンス処理の終了後に、基板Ｗの回転速度が６００ｒｐｍから１０ｒｐｍに減速されてＤＩＷ液膜がパドル状に形成される（パドル形成処理）。続いて、溶剤吐出ノズル７６５を基板中心から周縁に向けて方向Ｄnに移動させながらＩＰＡを供給することで、基板上のＤＩＷ液膜にＩＰＡを添加し表面張力を低下させる（溶剤供給処理）。溶剤吐出ノズル７６５が基板周縁に達し溶剤供給処理が終了した後に、中央に溶剤供給路９７を有する遮断部材９を基板に近接配置し、溶剤供給口９７ａからＩＰＡを供給しながら基板の回転速度を増大させて、ＩＰＡによる置換領域ＳＲを基板全体に広げる（置換処理）。 （もっと読む）

【課題】基板と基板の表面に対向配置される遮断部材と間にそれらの周囲の雰囲気が進入するのを防止する基板処理装置を提供する。
【解決手段】スピンチャック３の上方には、処理カップ５の開口１６を閉塞するための蓋部材１７が、遮断板２２を取り囲むように設けられている。蓋部材１７と遮断板２２の上面との間には、ダウンフロー導路３１が形成されている。ウエハＷの処理時には、処理室２内にクリーンエアのダウンフローが形成されるとともに、排気液溝３７内が強制的に排気されている環境下において、空隙４７を介してダウンフロー導路３１に取り込まれたクリーンエアのダウンフローは、スピンチャック３に保持されたウエハＷの側方に導かれる。そして、クリーンエアの気流がウエハＷの側方を包囲するように形成される。 （もっと読む）

【課題】ＩＰＡ液などの低表面張力液体および時間の無駄を生じることなく、基板の表面から純水を良好に除去することができる、基板処理装置および基板処理方法を提供する
【解決手段】純水ノズル３によって、スピンチャック２に保持されたウエハＷの表面に純水を供給することができる。一方、スピンチャック２に保持されたウエハＷの表面には、ＩＰＡノズル４によって、純水よりも表面張力の低いＩＰＡ液を供給することができる。このＩＰＡ液の供給時には、測定装置５によって、ウエハＷの表面上の液中における水分濃度が検出される。そして、この水分濃度に基づいて、制御部２１により、ＩＰＡ液の供給が終了されるべきであるか否かが判定される。 （もっと読む）

【課題】処理液で濡れた基板表面をＩＰＡなどの低表面張力溶剤を用いて乾燥させる基板処理装置および基板処理方法において、基板表面にウォーターマークが発生したり、基板表面上のパターンが倒壊するなどの不具合を防止する。
【解決手段】基板表面Ｗｆに付着しているリンス液をＩＰＡ液に置換する間、低露点空気（ＣＤＡ）が間隙空間ＳＰに供給されて基板表面Ｗｆの周囲雰囲気が低湿度雰囲気に保たれる。これによって、ＩＰＡ液吐出口９７ａから吐出されたＩＰＡ液への水分の吸湿が抑制される。そして、ＩＰＡ液への置換後に、基板表面ＷｆからＩＰＡ液が除去されて基板表面Ｗｆが乾燥されるが、上記したようにＩＰＡ液への水分吸湿が抑制されていることから、当該乾燥処理によりＩＰＡ液中の水分が基板表面Ｗｆに残留するのが確実に抑えられてウォーターマークやパターン倒壊を効果的に抑制している。 （もっと読む）

【課題】第１ないし第３色成分の網点画像を重ね合わせた際の２次モアレを抑制する。
【解決手段】第１および第２色成分の網点画像の重ね合わせにより発生する１次モアレの繰り返し要素である各モアレ要素は、直交する第１および第２モアレ方向に等しいモアレピッチＰｍにて配列される複数の候補位置８９のいずれかに位置する。第３色成分のマトリクス領域８０３において、（（Ｐｍ）／（Ｐｍ））の逆正接である傾斜角度だけ第１モアレ方向に対して傾斜した第１傾斜方向およびこの方向に垂直な第２傾斜方向に（（Ｐｍ）^２＋（Ｐｍ）^２）の平方根のピッチにて複数の第３ドットセンタ８１３が配列され、網点画像において、元画像の第３色成分の階調レベルの増加に伴って各第３ドットセンタ８１３から網点ドットが成長するように第３色成分の閾値マトリクスが生成される。これにより、第１ないし第３色成分の網点画像を重ね合わせた際の２次モアレが抑制される。 （もっと読む）

【課題】気体の吹き付けより液切りを行う一方で、当該気体の吹き付けに伴い搬入口側に運ばれる処理液等が当該搬入口から外部に漏れるのを防止する。
【解決手段】基板処理装置は、搬入口２ａから処理室１に搬入される基板Ｓに対して剥離液を供給した後、基板Ｓを搬出口３ａから搬出するように構成される。搬出口３ａの近傍には、基板Ｓに対して基板搬送方向における下流側から上流側に向かってエアを吐出することにより剥離液を除去する第１エアナイフ１３，１３が配置され、搬入口２ａの近傍には、基板搬送方向における上流側から下流側に向かってエアを吐出する第２エアナイフ１４，１４が設けられる。コントローラ３０は、第１エアナイフ１３，１３によるエアの吐出動作中に第２エアナイフ１４，１４からエアが吐出されるようにエアの吐出動作を制御する。 （もっと読む）

【課題】所定の供給対象に安定した温度で処理液を供給することができる処理液供給装置およびそれを備えた基板処理装置を提供すること。
【解決手段】薬液供給装置１２は、同種の薬液が貯留された第１および第２タンク１３，１４と、第１ヒータ１７が介装された薬液供給管１５と、薬液回収管１６とを備えている。第１タンク１３から処理ユニット２に供給された薬液は、薬液回収管１６を介して第２タンク１４に回収される。第２タンク１４は、薬液移送配管２４を介して第１タンク１３に連結されている。薬液移送配管２４には、第２ヒータ２５および第２ポンプ２６が介装されている。第２タンク１４に回収された薬液は、第２ヒータ２５による温度調節を受けた後、第２ポンプ２６によって第１タンク１３に移送される。 （もっと読む）

【課題】基板上における気流の乱れを抑制または防止できる基板処理装置を提供すること。
【解決手段】基板処理装置は、ウエハＷを所定の回転軸線Ｃ１まわりに回転させる基板回転手段と、基板回転手段により回転されるウエハＷの主面に向けて、かつ基板回転手段によるウエハＷの回転方向下流側に向けて、気体を吐出し、ウエハＷの主面上にウエハＷの回転方向に沿う気流を形成するための複数の気体吐出ノズルとを含む。ウエハＷ上に形成される気流の流速は、ウエハＷの回転軸線Ｃ１からの距離が異なる各位置において、ウエハＷの周速と一致されている。 （もっと読む）

【課題】遮断部材を基板表面に対向して配置しながら処理液で濡れた基板表面をＩＰＡ液などの低表面張力溶剤を用いて乾燥させる基板処理装置および基板処理方法において、基板表面を良好に乾燥させる。
【解決手段】環状の下側気体供給路９９ｂが上側気体供給路９９ａの下端部から下方外向きに、スカート状に延びる。開口部９０ｂと先端部材９５ｂの間隔ｒ２が回転支軸９１と内挿軸９５の上端部の間隔ｒ１よりも大きくなるように両気体供給路９９ａ、９９ｂが遮断部材９に設けられる。したがって、窒素ガスが上側気体供給路９９ａに圧送されると、窒素ガスは下側気体供給路９９ｂで下方外向きに広げられながら、下側気体供給路９９ｂの下端部に開口された気体吐出口９９ｃから下方外向きに吐出されて窒素ガスが減速されて間隙空間ＳＰに供給される。 （もっと読む）