説明

東京応化工業株式会社により出願された特許

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【課題】 基板上の温度分布を均一にすることができ、昇華物の発生をも低減させることが可能な加熱処理装置を提供する。
【解決手段】 筐体1と、筐体1内に昇降可能に配置された載置台2と、載置台2に設けら、この載置台2に載置される基板Wを加熱する第1の加熱手段3とを少なくとも有する加熱処理装置において、筐体1の一方の側には第2の加熱手段9を設け、筐体1の他方の側には排気機構10を設けた。 (もっと読む)


【課題】良好なアルカリ溶解性を有するネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法が提供する。
【解決手段】アルカリ可溶性樹脂成分(A)、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)および架橋剤成分(C)を含有するネガ型レジスト組成物であって、前記酸発生剤成分(B)は、カチオン部に水酸基を有する酸発生剤(B1)と、カチオン部に水酸基を有さない酸発生剤(B2)とを含むことを特徴とするネガ型レジスト組成物。 (もっと読む)


【課題】タクトタイムが短縮された基板処理装置を提供する。
【解決手段】 基板4を搬送しつつ基板4に対して各処理を行う基板処理装置において、少なくとも基板4の搬送方向に沿って処理液供給装置1、乾燥装置3が順に配置され、乾燥装置3は基板4上の処理液を乾燥させるエアナイフ20から構成され、処理液供給装置1には基板4に処理液を供給する複数のノズル(11a〜11d)が設けられ、これら複数のノズルのうち少なくとも最後段のノズル11dが、基板4の搬送方向とは反対の方向に向けられた構成とした。 (もっと読む)


【課題】シワの発生が少なく、表面平滑性に優れた感光性組成物、この感光性組成物から形成されたブラックマトリクス、及びこの感光性組成物から形成された画素部を有するカラーフィルタを提供する。
【解決手段】アルカリ可溶性樹脂と、光重合性モノマーと、光重合開始剤と、着色剤と、を含有し、厚さ1μm以上の厚膜の形成に使用される感光性組成物であって、厚膜のシワの発生を防止するために有効な量のアクリル系樹脂を含有した。 (もっと読む)


【課題】リソグラフィー工程において用いられるフッ素系溶剤の大気への放出を抑制し、環境汚染の防止に寄与するフッ素系溶剤の回収に用いられるフッ素系捕捉溶剤を提供すること。
【解決手段】リソグラフィー工程において用いられるフッ素系溶剤を回収するためのフッ素系捕捉溶剤であって、前記フッ素系溶剤に対して相溶性を有し、その沸点が前記フッ素系溶剤の沸点と同等あるいはそれ以上であるフッ素系捕捉溶剤である。例えば、フルオロアルキルアミン、炭素原子数4〜10のフッ素化炭化水素、及び水素原子の一部ないし全部がフッ素原子により置換されている少なくとも1以上の酸素原子を環構成原子として有する複素環化合物の中から選ばれる少なくとも1種であるフッ素系捕捉溶剤を用いることができる。 (もっと読む)


【課題】非化学増幅主鎖分解型ポジ型レジスト組成物層からなる第1のパターンを形成する工程と、その上に他のレジスト組成物からなる第2のパターンとを積層する工程とを有する場合、例えば、プリンターのノズルを形成する用途において、前記第2のパターンが加工中等に劣化することを抑制できる技術を提供する。
【解決手段】露光により主鎖が分解して現像液に対する溶解性が増大するベース樹脂成分(A)と、ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル化合物(B)を含有することを特徴とする非化学増幅主鎖分解型ポジ型レジスト組成物。 (もっと読む)


【課題】簡便かつ正確なブラックマトリクス形成用樹脂組成物中の異物の検査方法を提供する。
【解決手段】基板にブラックマトリクス形成用樹脂組成物が塗布された試料の表面にエネルギー線を照射走査する走査工程と、前記試料の表面から反射された反射光を検出する反射光検出工程と、この反射光検出工程により検出された画像をデジタル情報に変換する変換工程と、この変換工程により得られた画像の前記基板上におけるx−y座標を割り当てる座標軸作成工程と、この座標軸作成工程と前記反射光検出工程から得られる画像に基づいて異物を検出する異物検出工程と、この異物検出工程に基づいて、異物を特定する異物特定工程と、を備えた。 (もっと読む)


【課題】カラーフィルターやブラックマトリックスパターンを形成するための顔料分散型感光性樹脂組成物の洗浄用として特に優れた洗浄除去用溶剤を提供する。
【解決手段】プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノアルキルエーテル、及び芳香族系溶剤を含有し、前記芳香族系溶剤が、トルエン、キシレン、およびエチルベンゼン、並びにアルコキシ基を有する芳香族系溶剤の中から選ばれる少なくとも1種であり、ハンセン(Hansen)溶解パラメータにおける水素結合力パラメータ(δH)が5〜10であることを特徴とする、顔料分散型感光性樹脂組成物の洗浄除去用溶剤。 (もっと読む)


【課題】矩形性が高いレジストパターンが得られるネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】アルカリ可溶性樹脂成分(A)、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)および架橋剤成分(C)を含有するネガ型レジスト組成物であって、さらに、露光により塩基を発生する光塩基発生剤成分(F)を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。 (もっと読む)


【課題】レジストパターンの裾引きを低減するとともに、該パターンの形状を改善することが可能なレジスト下層膜用組成物、及びこれを用いたレジスト下層膜を提供する。
【解決手段】シロキサン系重合体を含有するレジスト下層膜用組成物中に、所定量の4級アンモニウム化合物を含有した。 (もっと読む)


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