【課題】分子間の空隙を少なくし、緻密な絶縁膜を形成することが可能な絶縁膜形成用組成物、及び絶縁膜からなる絶縁膜を提供する。また、この絶縁膜を使用することにより、低電圧駆動が可能で、かつ、駆動電圧値が安定した有機半導体素子を提供する。
【解決手段】シルセスキオキサン骨格を有する樹脂成分（Ａ）を含有する、有機半導体素子のゲート電極層と有機半導体膜層との層間に絶縁膜を形成するための絶縁膜形成用組成物であって、樹脂成分（Ａ）は下記一般式（ａ−１）で表される構造単位（ａ１）を有する樹脂（Ａ１）とした。


［式中、Ｘは炭素数１〜１５のアルキレン基又は炭素数６〜１５の２価の芳香族炭化水素基を表し、Ｒ^１は水素原子又は炭素数１〜１５のアルキル基又は炭素数２〜１５のアルコキシアルキル基を表し、Ｒ^２は炭素数１〜４のアルキル基を表し、ｎは０又は１である。］ （もっと読む）

【課題】液浸媒体がレンズに接触することなく、液浸媒体がレンズに接触することなく、フォトマスク上にｎ値及びｋ値の変化が抑制された高屈折率膜を形成することができる高屈折率膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】多環式の炭化水素環構造を有し、この炭化水素環構造上の少なくとも一つの炭素原子が主鎖を構成する構成単位（ａ１）を有する樹脂（Ａ）と、この樹脂（Ａ）を溶解可能な有機溶剤（Ｓ）とを含有する組成物。有機溶剤（Ｓ）は、シクロヘキサン構造を有することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】シリカ系被膜形成用組成物を基板上に塗布した後、低温で加熱することにより、シリカ系被膜を形成することができるシリカ系被膜形成用組成物、及びこれを用いたシリカ系被膜を提供すること。
【解決手段】アルコキシシランの加水分解縮合物（Ａ）と、熱の作用により酸又は塩基を発生する化合物（Ｂ）と、を含有してなるシリカ系被膜形成用組成物である。更に、酸又は塩基を発生する化合物（Ｂ）が、１００℃以上３００℃以下で酸または塩基を発生する化合物であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】液浸露光用として好適で、かつリソグラフィー特性も良好な液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ溶解性が変化する樹脂成分（Ａ）および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含む液浸露光用レジスト組成物であって、前記樹脂成分（Ａ）が、フッ素原子を含有し、かつ酸解離性基を有さない樹脂（Ａ１）と、アクリル酸から誘導される構成単位（ａ’）を有し、かつフッ素原子を含有しない樹脂（Ａ２）とを含有することを特徴とする液浸露光用レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】熱に対する形状安定性が高いブラックマトリクスを形成することが可能な黒色感光性組成物を提供する。また、本発明では、この黒色感光性組成物から形成されたブラックマトリクス、インクジェット方式カラーフィルタ用隔壁、及び液晶表示素子用スペーサを提供する。
【解決手段】光重合性化合物と、光重合開始剤と、カーボンブラックのような黒色顔料と、を含有する黒色感光性組成物において、形状安定剤として、有機顔料を含有した。 （もっと読む）

【課題】低粘度化が可能であり、かつ膜厚面内均一性の良好な膜厚１〜１５μｍの厚膜レジスト膜を形成できる厚膜レジスト膜形成用のポジ型レジスト組成物、当該ポジ型レジスト組成物を用いた厚膜レジスト積層体およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】膜厚１〜１５μｍの厚膜レジスト膜形成用のレジスト組成物であって、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分（Ａ）および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）が有機溶剤（Ｓ）に溶解してなり、前記有機溶剤（Ｓ）が、プロピレングリコールモノメチルエーテル１０〜９５質量％と、その他の溶剤（Ｓ２）５〜９０質量％との混合溶剤であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】回転塗布法により、膜厚面内均一性の良好な膜厚１〜１５μｍの厚膜レジスト膜を形成できる厚膜レジスト膜の形成方法、および当該厚膜レジスト膜の形成方法を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】支持体上に膜厚１〜１５μｍの厚膜レジスト膜を形成する方法であって、
前記支持体上にレジスト組成物を滴下しながら、または滴下した後、前記支持体を回転させ、その回転数を上げる加速工程と、前記加速工程で上げた回転数を下げる減速工程と、前記減速工程で下げた回転数を維持する低速回転維持工程とを有することを特徴とする厚膜レジスト膜の形成方法。 （もっと読む）

【課題】従来、ホトレジスト層の上層に形成される保護膜にアルコール系溶剤を単独で用いた場合、アルコール易溶型のホトレジスト（例えば、ネガ型ホトレジスト等）を用いることができなかったという問題点があったが、これを解消し、市販のホトレジストに対して広く使用可能で汎用性に優れるとともに、液浸露光プロセスに用いられる保護膜に要求される基本特性を備えた保護膜形成用材料、およびこれを用いたホトレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】基板上のホトレジスト膜上に積層される保護膜を形成するための材料であって、（ａ）アルカリ可溶性ポリマーと、（ｂ）エポキシ環を含まず、かつ水素原子の一部若しくは全部がフッ素原子により置換されたフルオロアルキルエーテルおよびフルオロアルキルエステルの中から選ばれる少なくとも１種を含む保護膜形成用材料、および該保護膜形成用材料を用いたホトレジストパターンの形成方法。 （もっと読む）

【課題】水系インクおよび溶剤インクの何れのインクに対しても印字特性が良好な凸版印刷用感光性印刷原版、これに用いるインク受容層形成用組成物、及び凸版印刷版の製造方法を提供すること。
【解決手段】基材上に、感光性樹脂層とインク受容層とが順次積層されてなる凸版印刷用感光性印刷原版であって、インク受容層は、アクリル変性ポリエステル樹脂エマルジョン、および水溶性樹脂を含有する組成物からなる層である凸版印刷用感光性印刷原版である。 （もっと読む）

【課題】形状安定性が高く、かつ、低い誘電率を有する遮光膜を形成することが可能なＥＬ素子遮光膜形成用の黒色感光性組成物、この黒色感光性組成物から形成された遮光膜、及びＥＬ素子を提供する。
【解決手段】光重合性化合物と、光重合開始剤と、カーボンブラックと、を含有するＥＬ素子用の黒色感光性組成物であって、有機顔料を更に含有した。 （もっと読む）