【課題】基材及び感光性樹脂層との接着力が強く、構成成分が基板へ移行することのない接着層形成用組成物、及びこれを用いた凸版印刷版、並びに凸版印刷版の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の接着層形成用組成物は、（ａ）カルボキシル基含有ポリマー、及び（ｂ）カルボジイミド基含有ポリマーを含有する接着層形成用組成物である。本発明の接着層形成用組成物を用いて形成された接着層２０は、凸版印刷版における基材１０と感光性樹脂層３０とを接着する接着層として好ましく用いることができる。 （もっと読む）

【課題】基材及び感光性樹脂層との接着力が強く、構成成分が基板へ移行することのない接着層形成用組成物、及びこれを用いた凸版印刷版、並びに凸版印刷版の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の接着層形成用組成物は、（ａ）カルボキシル基含有ポリマー、及び（ｂ）オキサゾリン基含有ポリマーを含有する接着層形成用組成物である。本発明の接着層形成用組成物を用いて形成された接着層２０は、凸版印刷版における基材１０と感光性樹脂層３０とを接着する接着層として好ましく用いることができる。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー工程で用いられる各種塗膜を形成するための材料や複数の洗浄対象の異なる洗浄用途を網羅的にカバーし得るという汎用性を有し、短時間で効率的に被洗浄物を洗浄除去することができる洗浄性能、短時間で迅速に乾燥する乾燥性能、さらには続く後工程に利用される残膜の形状に悪影響を与えないなどのリソグラフィー用洗浄液としての基本特性を有し、さらには、環境や人体に悪影響を及ぼすことがなく引火点か低いなどの安全性を兼ね備え、安価であり、安定供給が可能であるなどの諸要求特性を有するリソグラフィー用洗浄液を提供する。
【解決手段】（Ａ）ケトン系有機溶剤、（Ｂ）ラクトン系有機溶剤、及び（Ｃ）アルコキシベンゼン及び芳香族アルコールの中から選ばれる少なくとも１種の有機溶剤を含有するリソグラフィー用洗浄液を用いる。 （もっと読む）

【課題】パターンの膨潤による変形及びパターン倒れを抑制するとともに、高アスペクト比のパターンを得ることのできる超臨界現像プロセス用レジスト組成物及び当該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】アルカリ現像液処理を行うことなく、超臨界現像プロセスにより、現像処理を実施する超臨界現像プロセス用のレジスト組成物であって、酸の存在下においては前記超臨界現像剤により除去されることのない基材樹脂（Ａ）と、光及び／又は電磁波に感応して酸を発生する酸発生剤（Ｂ）と、を含有する。 （もっと読む）

【課題】レジスト保護膜形成用組成物に要求される基本性能に加え、レジスト保護膜形成用組成物の塗布性能を改善し、リソグラフィー性能を向上させ、さらに薬液の使用量の削減による低コスト化が可能なレジスト保護膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】レジスト膜上に設けられるレジスト保護膜形成用組成物であって、水及び／又はアルカリ可溶性ポリマー、及び含フッ素ポリエーテルを含有する。 （もっと読む）

【課題】被エッチング層のパターンの線幅ばらつきを低減させるパターン形成方法および半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】基板１１上に設けられたゲート電極膜１２上に、ラクトン基含有骨格を有する高分子材料を含むレジストパターン１５’を形成する第１工程と、レジストパターン１５’のガラス転移温度または軟化点が低下するように、水素含有ガスを用いたプラズマ処理を行う第２工程と、エッチングにより、プラズマ処理後のレジストパターン１５’をゲート電極膜１２に転写することで、ゲート電極を形成する第３工程とを有することを特徴とするパターン形成方法および半導体装置の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】液浸露光時の物質溶出を抑制でき、リソグラフィー特性にも優れた液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明は、酸解離性溶解抑制基を有し、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含有する液浸露光用ポジ型レジスト組成物であって、前記樹脂成分（Ａ）は、主鎖環状型重合体（Ａ１）と、鎖状の第三級アルキル基からなる酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１−１０）を有する非主鎖環状型重合体（Ａ２）と、環式基を有する酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）を有する非主鎖環状型重合体（Ａ３）とを含有することを特徴とする液浸露光用ポジ型レジスト組成物である。 （もっと読む）

【課題】金属酸化物膜を低温で形成でき、かつ異物特性も良好な膜形成用材料の製造方法を提供する。
【解決手段】イソシアネート基を２個以上有する金属化合物（Ｗ）が溶剤（Ｓ）に溶解してなる膜形成用材料の製造方法であって、前記金属化合物（Ｗ）を前記溶剤（Ｓ）に溶解して得られる溶液（Ｒ１）中のイソシアン酸を除去する工程と、前記イソシアン酸を除去した後、前記溶液（Ｒ１）を不活性ガス雰囲気下でろ過する工程とを有することを特徴とする膜形成用材料の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 固体撮像素子のレンズの保護膜、光導波路などの光学部材に使用される低屈折率層を形成することができる低屈折率シリカ系被膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】 低屈折率シリカ系被膜形成用組成物は、シロキサンポリマーと、アルキル４級アミンとを含む。上記シロキサンポリマーとしては、
Ｒ_ｎＳｉＸ_４−ｎ （１）
（式中、Ｒは独立してＨまたは１価の有機基、Ｘは加水分解性基を表し、ｎは０〜２の整数を表し、複数個のＲは同一でも異なっていてもよい）
で表される少なくとも１種のシラン化合物の加水分解物および／または部分縮合物を好ましく用いる。 （もっと読む）

【課題】界面活性剤の濃度を低くしても低表面張力を維持することができ、効果的にパターン倒れやディフェクトを抑制することができ、パターン幅の不均一（ＬＷＲ）・パターン側壁の微小な凹凸（ＬＥＲ）を改善することができ、さらにレジストパターンの寸法変動を生じることのない新規なリソグラフィー用洗浄剤を提供する。
【解決手段】（Ａ）含窒素カチオン性界面活性剤及び含窒素両性界面活性剤の中から選ばれる少なくとも１種、及び（Ｂ）アニオン性界面活性剤を含有する水性溶液からなるリソグラフィー用洗浄剤とする。 （もっと読む）