【課題】乳酸エチルを含む有機溶剤に溶解してなるレジスト組成物において、レジスト組成物の経時によるレジストパターンの寸法変動が抑制されたレジスト組成物、および該レジスト組成物の製造方法を提供する。
【解決手段】基材成分を有機溶剤（Ｓ）に溶解してなるレジスト組成物において、前記有機溶剤（Ｓ）は、乳酸エチルと酸化防止剤とを含み、この酸化防止剤の濃度が、有機溶剤（Ｓ）中、１０ｐｐｍ以上であることを特徴とするレジスト組成物である。 （もっと読む）

【課題】従来品に較べ少量で洗浄効果を発揮し、かつ顔料の凝集・沈降が起きにくい、顔料分散型感光性樹脂を除去するための洗浄剤を提供する。
【解決手段】少なくとも１つのアルキル基を有する芳香族化合物を２種類以上含有し、該芳香族化合物における全アルキル基の炭素の総数が３〜５であり、更に、該芳香化合物の全洗浄剤に対する含有量が１０〜４０質量％で、該芳香化合物が１〜３個のアルキル基をもつ単環化合物であり、該芳香化合物以外の溶剤を含有することを特徴とする洗浄剤。 （もっと読む）

【課題】特に液浸露光プロセスに供するホトレジスト膜形成用材料、ホトレジスト上層保護膜形成用材料、およびフッ素系有機溶剤の中から選ばれる少なくとも１種を供給する半導体製造用薬液供給装置の洗浄に適用可能で、かつ洗浄性能に優れ、しかも、ホトレジスト上層保護膜形成用材料の透明性を低下させることのない洗浄液を提供する。
【解決手段】半導体製造工程で使用される薬液供給装置を洗浄するための洗浄液であって、少なくともハイドロフルオロエーテルを含有することを特徴とする洗浄液。 （もっと読む）

【課題】 半導体ウェーハとサポートプレートの径寸法が等しい場合にでも、両者のアライメントを確実に行うことが可能な貼り合わせ手段を提供する。
【解決手段】 半導体ウェーハ５２を載置する載置プレート１２と、半導体ウェーハ５２上にサポートプレート５１を押し付けるプレスプレート１８と、一対のアライメント部材４０とを備え、アライメント部材４０は水平方向に進退自在とされ、その先端部にはサポートプレート５１の周縁部下面を支持するブレード３４、４４と、半導体ウェーハ５２にサポートプレート５１を重ねた状態で位置合わせを行う押し当て部材を設けて貼り合わせ手段７を構成する。 （もっと読む）

【課題】レジスト膜やその上に形成される保護膜などの被露光膜に露光用液体や洗浄用液体を接触させた後の液体の膜表面からの除去を十全かつ迅速に行うことのできる液体の除去方法を提供する。
【解決手段】液体が付着した基板を、除去工程の始点で回転数を最大となるようにし続いて回転数を減衰させるか、もしくは加速度１０００ｒｐｍ以下で回転数を増大させながら終点で回転数を最大とすることを特徴とする。最大回転数を少なくとも所定時間一定に維持することとし、好ましくは、前記最大回転数は２５００〜５０００ｒｐｍとする。 （もっと読む）

【課題】 塗布した塗布液から効率よく溶剤を回収し再利用できるシステムを提供する。
【解決手段】 搬送ラインによって上流側から順に、基板投入部１、塗布装置２及び減圧乾燥装置３が配置され、減圧乾燥装置３からは排気用の配管３１が導出され、この配管３１に真空ポンプ３２が設けられ、この真空ポンプ３２の下流側に液化トラップ４が配置され,前記液化トラップ４からは溶剤回収用の配管５が導出され、この配管５には送液ポンプ６が設けられ、この送液ポンプ６の下流側には脱水装置７及びフィルタ８が配置され、液化トラップ４において液化した溶剤は送液ポンプ６によってバッファタンク９に送られる。そして、このバッファタンク９に溜められた溶剤はプライミングローラ２２の洗浄用に供される。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、サポートプレートの溝跡が基板へ転写されることを低減できると共に、基板の表面に削りムラ等が生じることを低減できるサポートプレートの貼り合わせ方法を提供するものである。
【解決手段】 基板と接着剤２によって一体化したサポートプレート１のシート６が貼着された面を吸着ヘッド７上面に載置して吸引固定し、この状態で半導体ウェーハWの上面（回路を形成していない面）をグラインダ８によって研削する。 （もっと読む）

【課題】 積層体からサポートプレートを剥離する装置構成をより簡略化でき、また装置の省スペース化を可能にし、さらには短時間でのサポートプレートの剥離を可能にした剥離装置を提供するものである。
【解決手段】 剥離装置は、搬送ロボット１と、搬送ロボット１の周囲に配置されたカセット３と、剥離手段４と、洗浄手段５とを少なくとも有し、剥離手段４は、積層体を吸着保持するチャックプレート１０と積層体からサポートプレートを剥離する剥離プレート２０を備え、チャックプレート１０は積層体を保持したまま垂直面内で１８０°反転でき、且つ上下方向に昇降動できる構成とする。 （もっと読む）

【課題】ラインワイズラフネス（ＬＷＲ）が低減された良好な形状のレジストパターンが得られるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含有するポジ型レジスト組成物であって、前記樹脂成分（Ａ）は、炭素数６以上の鎖状の第三級アルキル基からなる酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）と、ラクトン含有環式基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ２）とを含む高分子化合物（Ａ１）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物である。 （もっと読む）

【課題】基板の被塗布面に段部が形成されている場合であっても、スプレー塗布法により、膜厚均一性が良好なホトレジスト膜を形成できるようにする。
【解決手段】被塗布面に段差Ｈが１０〜１０００μｍである段部１が設けられている基板上に、変性シロキサン系界面活性剤を含有するホトレジスト組成物を用いて、スプレー塗布法によりホトレジスト膜２を形成する。段部１の上面１ａおよび側面１ｂがホトレジスト膜２で連続的に覆われており、ホトレジスト膜２の、段部上面１ａにおける膜厚が１〜４０μｍであり、かつ段部の上面１ａと側面１ｂとの境界部における膜厚が、該境界部に隣接する上面１ａにおける膜厚の７５％以上である積層体が得られる。 （もっと読む）