【課題】レジスト液の輸送コストの低減化をはかりつつ、現在のＬＣＤパネル製造ラインにそのまま直結できる高価な小型専用容器の使用を回避し、トータル的にレジスト液の供給コストを削減することのできるレジスト液製造方法を提供する。
【解決手段】レジスト液製造方法において、調合タンク内の液体の濃度及び／又は粘度を測定し、この測定結果に基づいて原料液と溶剤の注入分量を調整して希釈制御を行なうとともに、希釈制御されて得られた製品用レジスト液をバッファ槽にて一定期間貯留して安定化させる。 （もっと読む）

【課題】直線性が高く、剥がれや残渣のない良好な黒色電極及びブラックストライプに代表される遮光性パターンを容易に形成できるプラズマディスプレイの遮光性パターン形成用感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】感光性樹脂組成物は、式（Ｉ）に示す光重合開始剤、遮光性物質、バインダー樹脂及び光重合性化合物を含有する。これらの化合物を含有することで、感光性樹脂組成物は光に対する感度が高くなり、パターンの現像マージンが大きくなる。従って、感光性樹脂組成物が遮光性物質を多く含有する場合でも、直線性が良く、剥がれや残渣のないパターンを容易に形成でき、コントラストが高く、発色の美しいＰＤＰを容易に提供することができる。
【化１】
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【課題】良好な直線性を有し、剥がれにくく、残渣が少ないブラックマトリクスパターンを形成することができる感光性組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】感光性組成物の光重合開始剤として、下記の一般式（１）で示すようなフルオレン骨格とベンゾイルを有するオキシム系化合物を用いた。また、一般式（１）において、ベンゾイル部分を嵩高い基とした場合、現像後の加熱において昇華物の発生を抑制することが可能となることを見出した。
【化１】
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【課題】 カラーフィルタの製造に好適であり、洗浄除去性に優れた感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）光重合性不飽和化合物、（Ｂ）光重合開始剤、及び（Ｃ）溶剤を含有してなり、前記溶剤が、（Ｃ１）沸点が１９０℃以上の高沸点溶剤と（Ｃ２）沸点が１９０℃未満の低沸点溶剤との混合溶剤であることを特徴とするネガ型感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 本発明では、絶縁性を有する膜を形成する黒色感光性樹脂組成物を提供し、さらに、より好ましい黒色を呈しパターン形状の良好な膜を形成する黒色感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 黒色顔料を含む顔料成分を含有する黒色感光性樹脂組成物において、前記顔料成分は、絶縁性有機顔料からなる。 （もっと読む）

【課題】低コストであり、特性をさらに向上させたカラーフィルタ用感光性樹脂組成物およびこれを用いたカラーフィルタを提供すること。
【解決手段】（Ａ）ノボラック樹脂のフェノール性水酸基にα，β−不飽和カルボン酸とエポキシ基含有アルコールとからなるエポキシ基を含むエステルを該水酸基に対して当量以下の量で反応させ、該エステルのエポキシ基が開裂して生じた水酸基に多塩基酸および／または多塩基酸無水物を該開裂して生じた水酸基の当量に対して当量以下の量で反応させて得ることができる変性ノボラック樹脂、（Ｂ）光重合開始剤、（Ｃ）顔料および（Ｄ）溶剤を含有するカラーフィルタ用感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、基板表面にサポートプレートの貫通孔跡が転写されず、又基板表面に削りムラが生じない基板の薄板化方法及び回路素子の製造方法を提供する。
【解決手段】 基板Ｗと接着剤層２によって一体化されたサポートプレート１において、シート６が貼着された面を吸着ヘッド７上面に載置して吸引固定し、この状態で基板Wの
上面（回路を形成していない面）をグラインダ８によって研削する。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー成形の露光時におけるハレーションを防止して所定の立体面を有する三次元微小成形体の成形精度を向上させることのできる感光性ドライフィルムを提供する。
【解決手段】少なくともカバーフィルムと該カバーフィルム上に形成された感光性樹脂組成物層とから構成され、前記感光性樹脂組成物層が透明基板上に前記カバーフィルムと反対側の面を前記透明基板に接触させて積層された後、前記透明基板側から化学線が所定のパターンに従って照射されることによって三次元微小成形体の硬化潜像が前記感光性樹脂組成物層の内部に形成される三次元微小成形体製造用感光性ドライフィルムにおいて、前記カバーフィルムにおける前記化学線の透過率を７０％〜３０％に設定する。 （もっと読む）

【課題】 良好なマスク再現性でレジストパターンを形成できるレジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 酸の作用によりアルカリ可溶性が変化する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含有するレジスト組成物であって、前記酸発生剤成分（Ｂ）が、下記一般式（ｂ’−０）［式中、Ｒ_０は炭素数１〜１５の直鎖、分岐鎖または環状の塩素化アルキル基である。］で表されるアニオン部を有するオニウム塩（Ｂ０）を含有することを特徴とするレジスト組成物。
【化１】
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【課題】 本発明は、サポートプレートの溝跡が基板へ転写されることを低減できると共に、基板の表面に削りムラ等が生じることを低減できる基板の薄板化方法及び回路素子の製造方法を提供するものである。
【解決手段】 半導体ウェーハWと接着剤２によって一体化したサポートプレート１のシート６が貼着された面を吸着ヘッド７上面に載置して吸引固定し、この状態で半導体ウェーハWの上面（回路を形成していない面）をグラインダ８によって研削する。 （もっと読む）