説明

NECマイクロシステム株式会社により出願された特許

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【課題】 外部クロックを用いずにディレイ部を動作することができ、極端に長いパルス幅が必要なときでも回路規模を大きくすることなく構成可能な半導体装置を提供する。
【解決手段】 ディレイパルス発生トリガ信号(DPT)を起点にして、所望のパルス幅の時間内に中間キャリー(CARRY0,1,2)信号とディレイ出力信号の終期を決定するための最終キャリー信号(CARRY END)を出力するカウンタ5と、カウンタ5からの中間キャリー信号に基づく信号とDPTに基づいてカウンタ5をカウントアップさせるためのカウントアップ信号(COUNT UP)を出力するディレイ回路4を備え、外部クロックを用いずにディレイ出力が得られるようにする。 (もっと読む)


【課題】 機能マクロの電源配線のレイアウト又は位置が多少変わっても、新たに設計し直すことなく、機能マクロの電源配線と半導体集積回路の電源配線とを接続する。
【解決手段】 電源配線2は、複数の低電位側電源配線2Gと複数の高電位側電源配線2Vとからなり、電源配線5は、複数の低電位側電源配線5Gと複数の高電位側電源配線5Vとからなる。電源端子31は、複数がそれぞれ等間隔に配置されるとともに、低電位側電源配線2Gと低電位側電源配線5Gとを接続する矩形状の低電位側電源端子31Gと、高電位側配線2Vと高電位側電源配線5Vとを接続する矩形状の高電位側電源端子31Vとからなる。低電位側電源端子31Gと高電位側電源端子31Vとは、互いに隣接するように配置されている。 (もっと読む)



【課題】シールドによる配線容量の増加を抑え、シールド効果も補償できる多層配線構造を提供する。
【解決手段】半導体基板100上の酸化膜4上に所定の間隔で平行に配置された下層メタル配線3と、下層メタル配線3上の層間絶縁膜5上に下層メタル配線3と平行でかつ下層メタル配線3間に位置するように配置されたシールド用の配線メタル配線1と、メタル配線1上の層間絶縁膜6上に下層メタル配線3と重なるように配置された上層メタル配線2とから多層配線を構成し、シールド効果と同時に上層メタル配線2の全容量値の低減を図る。 (もっと読む)



【課題】 アプリケーションプログラムのデバッグにおけるリンク処理に要する処理時間を削減して、作業工程を効率化する。
【解決手段】 外部記憶装置10、リンカ11,RAM12、メモリ13、入出力表示処理13及び中央演算処理装置15を有し、外部記憶装置10からメモリ13に読み込んで格納したオブジェクトモジュールファイル中のデータにポインタ方式を適用して管理する。この際、1回目のリンク処理でオブジェクトモジュールファイルの内容をメモリ13に書き込んで、リンカを待機状態に設定して、オブジェクトモジュールファイルをメモリ13に残し、2回目以降のリンク処理で、1回目に書き込んだメモリ13の内容を使用する。 (もっと読む)



【課題】チップサイズを増大させることなく特性の向上を図ることができる半導体記憶装置を提供する。
【解決手段】本発明の半導体記憶装置は、メモリセル領域50と周辺回路領域との間に配置されたセル形状の書込動作補助回路2を有し、書込動作補助回路2は、書込開始時にデジット線のディスチャージ動作を行い、書込終了時にデジット線のプリチャージ動作を行う第1の回路4と、デジット線のディスチャージ動作及びデジット線のプリチャージ動作の切替を行う第2の回路5とを有する。 (もっと読む)



【課題】 電源電圧を降圧しその電圧を負荷回路へ供給する電源回路において、電源ノイズ等の外的要因による負荷回路のハングアップを回避できる。
【解決手段】 主電源VDD1をレギュレータ回路1にて降圧した電圧V1と、主電源VDD1をボルテージハーバ回路にて降圧した電圧V2を、コンパレータ3にて比較し、高い電圧側を負荷回路4に供給することで、電源ノイズ等に見られる電圧降下に起因する負荷回路4のハングアップを回避することが出来る。 (もっと読む)


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