【課題】膜厚補正板を設けることなく、複数の基板に対して均一な厚みの薄膜を形成することができる成膜装置を提供する。
【解決手段】内部を真空状態に維持した真空容器内で、同一の膜原料物質で構成される一対のターゲット２９ａ，２９ｂを交互にスパッタし、基板Ｓを保持して回転する回転ドラム１３の一部の領域に向けてスパッタされた何れかのターゲット２９ａ又は２９ｂから膜原料物質を供給し、回転ドラム１３の回転毎に間欠的に基板Ｓの表面に膜原料物質を付着させて薄膜を形成する成膜装置である。一対のターゲット２９ａ，２９ｂのそれぞれを保持して電圧を印加する一対のスパッタ電極２１ａ，２１ｂと、この電極２１ａ，２１ｂに交流電力を供給する交流電源２３と、ターゲット２９ａ，２９ｂに向けてスパッタ用ガスを供給するスパッタ用ガス供給手段と、電極２１ａ，２１ｂの配置を真空容器の外部から変更可能な電極配置調整機構１００を有する。 （もっと読む）

【課題】 実用に耐えうる耐摩耗性を備えた撥油性膜を持つ撥油性基材を製造することができる成膜方法を提供する。
【解決手段】 本発明の成膜方法は、まず第１の成膜工程で、基板１０１の表面に乾式成膜法（イオンアシスト蒸着法を除く）を用いて基板１０１の硬度より高い硬度を持つ第１の膜１０３を所定厚み以上で成膜する。次に第１の照射工程で、成膜した第１の膜１０３に対して加速電圧が所定値以上で電流密度が所定値以下の特定のエネルギーを持つ粒子を照射し、これによって第１の膜１０３の表面に適切な凹凸を形成する。次に第２の成膜工程で、第１の膜１０３の凹凸面に撥油性膜１０５を成膜する。 （もっと読む）

【課題】膜表面に発現した光触媒作用を速やかに消失させることができる光触媒性薄膜を基板の表面に成膜することができる成膜方法を提供する。
【解決手段】真空容器１１の内部に形成された成膜プロセス領域２０Ａで、少なくともチタン、亜鉛及びタンタルを含む群から選択される金属で構成されたターゲット２２ａ，２２ｂをスパッタし、基板Ｓに金属で構成される膜原料物質を付着させるスパッタ工程と、成膜プロセス領域２０Ａとは離間して形成された反応プロセス領域６０Ａで、少なくとも反応性ガスのプラズマを膜原料物質に接触させて膜原料物質で構成される第１の薄膜を生成させる反応工程と、スパッタ工程及び反応工程を複数回繰り返し、第１の薄膜を複数回堆積させて第２の薄膜を形成する薄膜堆積工程とを有する成膜方法であって、第２の薄膜に対し、反応性ガスとともに不活性ガスを積極的に含む混合ガスのプラズマを第２の薄膜に接触させる。 （もっと読む）

【課題】複数の成膜バッチを連続して安定に行うことができる成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜装置は、ターゲットのスパッタ物質を基板に付着させる成膜プロセス領域と、成膜プロセス領域とは分離して配置され基板に反応性ガスを接触させてスパッタ物質の組成を変換させる反応プロセス領域と、成膜プロセス領域と反応プロセス領域の間で基板を繰り返し移動させる基板保持移動手段とを有する。成膜プロセス領域及び反応プロセス領域が配置される成膜室に対し、開閉可能な隔絶手段１１ｂを介して接続されたロードロック室１１Ｂを含む。ロードロック室１１Ｂには、ロードロック室１１Ｂの内部を加熱可能な加熱装置９０が設けられ、ロードロック室１１Ｂ内を排気可能な真空ポンプ１５’が接続されている。ロードロック室１１Ｂには、ロードロック室１１Ｂの内部に浮遊する不純物成分としての水分を凝結捕捉可能なガス凝結捕捉装置７０を設ける。 （もっと読む）

【課題】安定したプラズマを高効率に発生させて成膜を行うことができる薄膜形成方法を提供する。
【解決手段】内部を真空に維持する真空容器１１と、真空容器に接続されアンテナ収容室８０Ａ内にプラズマを発生させるプラズマ発生手段と、を備える薄膜形成装置を用いた薄膜形成方法である。薄膜形成方法は、前記真空容器の内部を真空状態にするとともに、前記アンテナ収容室の内部を真空容器より低く１０^−３Ｐａ以下の真空状態に減圧する減圧工程と、前記アンテナ８５ａに高周波電圧を印加して前記真空容器の内部にプラズマを発生させて、前記真空容器内で形成された薄膜をプラズマ処理する工程と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】特別な前処理や後処理を施さずに効率よく、親水性の薄膜をプラスチック基板に成膜することができる成膜方法を提供する。
【解決手段】プラスチック基板Ｓの表面に薄膜を形成する方法であって、真空容器１１の内部に形成された成膜プロセス領域２０Ａでチタンターゲット２２ａ，２２ｂのスパッタ物質を基板Ｓに付着させる工程（Ｓ４）と、真空容器１１の内部に成膜プロセス領域２０Ａとは離間して形成された反応プロセス領域６０Ａで酸素ガスを基板Ｓに接触させ、スパッタ物質の組成を変換させる工程（Ｓ５）とを有し、酸素ガスの導入流量と少なくとも同一流量のアルゴンガスを導入するとともに１ｋＷ以下のプラズマ処理電力を供給した状態で、酸素ガスを基板Ｓに接触させる。 （もっと読む）

【課題】紫外線を照射しなくとも親水性を発現する薄膜を成膜する方法を提供する。
【解決手段】基板Ｓの表面に酸化チタンの薄膜を形成する成膜方法であって、真空を維持した状態で、基板Ｓを成膜プロセス領域２０Ａと反応プロセス領域６０Ａの間で繰り返し移動させる工程（Ｓ３）と、チタンターゲット２２ａ，２２ｂのスパッタ物質を成膜プロセス領域２０Ａに導入された基板Ｓに付着させる工程（Ｓ４）と、反応プロセス領域６０Ａに導入された基板Ｓに酸素ガスを接触させ、スパッタ物質の組成を変換させる工程（Ｓ５）とを有し、酸素ガスの導入流量と少なくとも同一流量のアルゴンガスを導入した状態で、酸素ガスを基板Ｓに接触させる。 （もっと読む）

【課題】 より高いイオンアシスト効果を得ることができる成膜装置を提供する。
【解決手段】 成膜装置１は、真空容器１０内に回転可能に配設され、基板１４を保持するための基板ホルダ１２と、この基板ホルダ１２に保持される基板１４に対して成膜材料を供給し、これを基板１４の成膜面に堆積させる蒸着源３４と、イオンビームを基板１４の一部に対し部分的に照射可能に配置されたイオン源３８とを備える。
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【課題】 排気時間を最大限に短縮することが可能なイオンアシスト蒸着装置１を提供する。
【解決手段】 イオンアシスト蒸着装置１は、排気口２９を持つ真空容器２と、排気口２９を介して真空容器２内を真空引きする排気系４と、真空容器２内の圧力を調整する圧力調整手段２０と、圧力調整手段２０を移動させるアクチュエータ２０４と、アクチュエータ２０４を移動させるタイミングを制御するコントローラ２０６とを有する。圧力調整手段２０は、排気口２９の断面に平行な方向に沿って排気口２９の開位置と閉位置の間で移動可能に構成されている。コントローラ２０６は、排気系４による真空引きを行うに際し、圧力調整手段２０を排気口２９の開位置に移動させる指令をアクチュエータ２０４に送出するとともに、真空容器２内での成膜を行うに際し、圧力調整手段２０を排気口２９の閉位置に移動させる指令をアクチュエータ２０４に送出する。 （もっと読む）

【課題】 実用に耐えうる耐摩耗性を備えた撥油性膜を持つ撥油性基材を製造することができる成膜方法を提供する。
【解決手段】 成膜方法は、基板１０１の表面にエネルギーを持つ粒子を照射する第１の照射工程と、前記第１の照射工程後の基板１０１の表面に乾式法を用いて第１の膜１０３を成膜する第１の成膜工程と、第１の膜１０３の表面に撥油性を有する第２の膜１０５を成膜する第２の成膜工程とを、有する。
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