【課題】洗浄によって基板表面に付着した異物を、薄膜形成前に除去することにより、良好な膜質を有する光学フィルターの製造方法を提供する。
【解決手段】水分を含んだ溶液を用いて基板Ｓを洗浄する洗浄工程Ｐ１と、洗浄工程Ｐ１によって洗浄された基板Ｓの表面を酸素ガスのプラズマによりプラズマ処理する前処理工程Ｐ３と、前処理工程Ｐ３によってプラズマ処理された基板Ｓの表面に薄膜を形成する薄膜形成工程（Ｐ４，Ｐ５）と、を行うことで、基板表面に付着した異物を効果的に除去することができる。また、前処理工程Ｐ３では、プラズマを発生させる領域に酸素ガスのみが導入され、且つ、導入される酸素ガス流量は、薄膜形成工程で導入される酸素ガス流量よりも多くすることで、洗浄工程において基板Ｓの表面にＯＨ基結合を介して付着した異物を、薄膜形成工程（Ｐ４，Ｐ５）の前に効果的に取り除き、膜抜け部の発生を防ぐ。 （もっと読む）

【課題】成膜効率を向上させることができる薄膜形成方法を提供する。
【解決手段】ターゲット２９ａ，２９ｂをスパッタして回転ドラム１３に保持され回転する基板Ｓに、目標膜厚よりも薄い膜厚の第１薄膜を形成した後、前記目標膜厚に対して不足する不足分膜厚の第２薄膜を前記第１薄膜に形成する薄膜形成方法であって、第１薄膜の膜厚を測定する光学測定工程と、前記膜厚に基づいて前記第１薄膜を形成した実際の成膜レートを算出する成膜レート算出工程と、前記実際の成膜レートに基づいて前記第２薄膜を形成するのに必要な残成膜時間を算出して成膜時間を調整する成膜時間調整工程とを、有する薄膜形成方法。 （もっと読む）

【課題】成膜室を大気に開放させることなく、遮蔽板を交換することができるスパッタ装置を提供する。
【解決手段】真空容器１１に備えられた成膜室１１Ａの内部でターゲットのスパッタ物質を基板上に付着させるスパッタ装置１であって、ターゲットと基板の間にターゲットと対向して配置され、基板に付着させるスパッタ物質の厚み分布を制御する遮蔽板３６と、真空容器１１に備えられ、成膜室１１Ａに対してゲートバルブ１１ｄを介して連通する遮蔽板切替室１１Ｃと、成膜室１１Ａ内のターゲット及び基板間との間で、遮蔽板３６を移動させる移動手段１００，１００ａ，１００ｂ，１０２ａ，１０２ｂ，２００，３００，３０２，３０４，３０６，３０８，４００とを有するスパッタ装置１。 （もっと読む）

【課題】十分な特性を備えたフッ化物材料の薄膜を効率的に基板上に形成することができる成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜装置１は、蒸着処理領域３０Ａ及びプラズマ処理領域６０Ａの各領域間で、基板Ｓを繰り返し移動させる回転ドラム４及び基板保持板４ａと、フッ化物材料を含む蒸着原料の蒸発物を蒸着処理領域３０Ａに導入された基板Ｓに付着させる蒸着手段３０と、反応性ガスのプラズマをプラズマ処理領域６０Ａに導入された基板Ｓに接触させることにより、基板Ｓに付着した蒸着原料の蒸発物を処理するプラズマ処理手段６０とを真空チャンバ２内に少なくとも有する。この成膜装置１を用いて基板Ｓ上にフッ化物材料の薄膜を形成する。
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【課題】構造が簡単でかつ製造コストが安価であり、ロットごとの光学特性のばらつきが少ない光学フィルター及びその製造方法並びに光学機器を提供する。
【解決手段】光を吸収する多層膜Ｍが基材Ｓの表面に形成された光学フィルターＰであって、多層膜Ｍは、複数の膜が積層された誘電体膜Ｆと、誘電体膜Ｆを構成する複数の膜の間の少なくとも１か所に形成され光を吸収する性質を有する吸収膜Ａとを備えている。そして、誘電体膜Ｆは、金属元素Ｘの酸化物、窒化物若しくは酸窒化物で構成される第１の膜Ｆ１と、金属元素Ｙの酸化物、窒化物若しくは酸窒化物、又は金属元素Ｘと金属元素Ｙからなる合金の酸化物、窒化物若しくは酸窒化物で構成される第２の膜Ｆ２と、のうち２種類以上の膜が積層された構成を有している。また、吸収膜Ａは、金属元素Ｘ及び金属元素Ｙの一方又は両方を含有している。 （もっと読む）

【課題】 成膜装置の保守点検・成膜源の再調整を短時間で行うことができるメンテナンス性に優れた蒸着装置１を提供する。
【解決手段】蒸着装置１は、内部に成膜機構（蒸発源６、ガス導入管１０ｂ、基板ホルダ４、回転支持枠１２ａ）が配置してある真空チャンバ２を有する。真空チャンバ２は、底板２２と、底板２２上に処理空間を形成するように底板２２の角隅部２０２２上に底枠２０２を介して立設される複数の側柱２０６ａ〜２０６ｄと、処理空間の上方開口を閉塞するように複数の側柱２０６ａ〜２０６ｄの上端に天枠２０４を介して設けられる天板２４と、一端が側柱２０６ａ，２０６ｃ，２０６ｄに接続されたヒンジ４０，４２，４４を回動支点に、隣接する柱部材間に形成された側方開口に対して開閉自在な複数の側板２６，２８，３０を有する。底板２２及び天板２４にのみ成膜機構が配置しており、側板２６，２８，３０には成膜機構を有しない。
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【課題】成膜レートを低下させることなく、基板上に形成される薄膜の厚み分布を改善できる成膜方法を提供する。
【解決手段】真空槽内の略中央付近に軸線Ｚ１の回りに自転するメインドラム６を配置し、中心付近の領域には筒状の反応プロセスゾーン３０を配置する。メインドラム６の外周には開口窓６６がドラムの自転方向に沿って複数形成してあり、この開口窓６６を通じてメインドラム６内側の反応プロセスゾーン３０と、メインドラム６外側の成膜プロセスゾーン２０とが連通する。メインドラム６の内側には、軸線Ｚ１と同心の円上に沿って、かつ略等分周した位置に４つの軸線Ｚ２が形成してあり、各軸線Ｚ２の回りに回転するサブドラム１２が配置してある。サブドラム１２の外周には基板ホルダ１４が装着してあり、サブドラム１２の自転と同期して基板ホルダ１４も回転する。メインドラム６の回転速度とサブドラム１２の回転速度はそれぞれ独立に制御される。 （もっと読む）

【課題】表面に形成される無機薄膜層が剥離しにくく、製造される光学物品の耐摩耗性、耐環境性を向上させることが可能な薄膜構造体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】樹脂製の基板Ｓの表面に形成された薄膜構造体Ｐであって、基板Ｓの表面に形成された密着層Ｍと、密着層Ｍの表面に形成される無機薄膜層Ｆとを備えている。密着層Ｍは、基板Ｓの表面に４価の金属から選択される１又は２種類以上の金属膜Ｍ０を形成し、金属膜Ｍ０の表面側から反応性ガスのイオン又はラジカルによる処理を行って金属膜Ｍ０の不完全反応物を生成させ、続いて不完全反応物に対して不活性ガスのイオン又はラジカルによる処理を行うことで形成される。 （もっと読む）

【課題】特にプラスチック等の熱変形温度の低い材料で形成された基板に対して変形等を生じさせにくい薄膜形成装置及び薄膜形成方法を提供する。
【解決手段】基板Ｓに蒸着物質Ｐを蒸着させるイオンアシスト蒸着装置１であって、真空チャンバ２内に配設され基板Ｓを保持するための基板ホルダ３と、基板ホルダ３を回転させる基板ホルダ回転モータ５と、基板ホルダ３に保持された基板Ｓに蒸着物質Ｐを供給して表面に蒸着させる蒸発源６と、基板Ｓからの熱輻射により基板Ｓを冷却するための近接冷却面１３ａが形成された冷却板１３、冷媒管１２及び冷凍機１１とを備え、近接冷却面１３ａは、真空チャンバ２内の基板ホルダ３近傍であって基板Ｓとは非接触となる位置に設けられ、かつ基板Ｓや基板ホルダ３からの輻射熱を吸収可能な温度とされている。基板Ｓの全体を均一に冷却することができるため、基板Ｓが局所的に冷却されることによる変形等が生じにくい。 （もっと読む）

【課題】ターゲット表面での絶縁物の蓄積による異常放電の発生を防止し、膜質を向上させることが可能なスパッタリング装置を提供する。
【解決手段】成膜プロセス領域２０Ａと反応プロセス領域６０Ａとが内部に形成された真空容器１１と、成膜プロセス領域２０Ａ内でスパッタリングを行い基板Ｓの表面に膜原料物質を付着させるスパッタ手段２０と、反応プロセス領域６０Ａ内でプラズマを発生させて基板Ｓの表面に付着した膜原料物質の反応物を生成させるプラズマ発生手段６０と、を備え、スパッタ手段２０は、中心軸線Ｘａ−Ｘｂを中心に回転可能な円筒状ターゲット８１と、円筒状ターゲット８１の表面に漏洩磁界を形成する磁性体ユニット８８と、磁性体ユニット８８に対して円筒状ターゲット８１を回転させるターゲット回転モータ９３と、を備えた。ターゲットの表面に非エロージョン領域が生じにくいため、絶縁物が蓄積しにくく、異常放電の発生を防止できる。 （もっと読む）