【課題】紫外線照射を行わなくても高い親水性を有するとともに、長期に亘って親水性を持続させることが可能な親水性薄膜を、安価な製造コストで製造することが可能な親水性薄膜の製造方法を提供する。
【解決手段】基板Ｓの表面に親水性の薄膜を形成する親水性薄膜の製造方法であって、基板Ｓに対して反応性ガスのプラズマによるプラズマ処理を行う前処理工程（Ｐ２）と、前処理工程（Ｐ２）を行った後の基板Ｓの表面に薄膜を形成する薄膜形成工程（Ｐ３、Ｐ４）と、を行う。さらに、薄膜形成工程（Ｐ３、Ｐ４）の後に、基板Ｓの表面をプラズマ処理する後処理工程（Ｐ５）を行ってもよい。前処理工程（Ｐ２）を行うことで、得られた親水性薄膜は、長期に亘って親水性が持続する。また、前処理工程（Ｐ２）と後処理工程（Ｐ５）の両方を行うことで、親水性の持続時間が更に長くなる。 （もっと読む）

【課題】耐熱性の低いプラスチック樹脂からなる基板に対して、低い反応温度で、かつ高い成膜レートで有色基材を製造可能な有色基材の製造方法を提供する。
【解決手段】真空容器１１内の成膜プロセス領域２０Ａ内でターゲット２２ａ，２２ｂをスパッタしてプラスチック樹脂からなる基板Ｓの表面に膜原料物質を付着させ、成膜プロセス領域２０Ａとは離間した位置に形成された反応プロセス領域６０Ａ内に基板Ｓを搬送し、反応プロセス領域６０Ａ内に反応性ガスを導入して反応性ガスのプラズマを発生させることで膜原料物質の窒化物を生成させる。成膜プロセス領域２０Ａと反応プロセス領域６０Ａが離間した位置に形成されているため、ターゲット２２ａ，２２ｂの窒化による異常放電が生じにくく、基板Ｓの温度を上昇させなくてもプラズマ処理による窒化反応を促進することができるため、耐熱性の低いプラスチック樹脂材料に対しても成膜できる。 （もっと読む）

【課題】光学的，物理的特性のバリエーションに富んだ新規な光学物品を提供する。
【解決手段】被覆層Ｆが基板Ｓの表面に形成された光学物品Ｐであって、被覆層Ｆは、酸窒化ケイ素、酸窒化アルミニウム、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、酸化アルミニウム、および酸化ケイ素からなる群より選択される材料からなる薄膜を積層したものである。このように、薄膜を酸窒化ケイ素、酸窒化アルミニウム、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、酸化アルミニウム、および酸化ケイ素からなる群より選択するため、二酸化チタンおよび二酸化ケイ素の２種類のみからなる従来の光学物品と比較して、光学的，物理的特性のバリエーションに富んだ光学物品を提供することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】簡単に薄膜の光学的特性の向上を図り、特に多層構造とした場合に光学特性の向上を可能にする。
【解決手段】真空容器内１０に保持した基板１４に高屈折率物質と低屈折率物質とを交互にイオンアシスト蒸着法によって蒸着する光学薄膜形成方法において、基板１４に形成した低屈折率物質の蒸着薄膜に高屈折率物質の蒸発粒子とイオンとを同時に供給する蒸着工程の前に、イオンを所定時間供給する予備的イオン照射工程を設けた。 （もっと読む）

【課題】多くの電子電流を引き出すことが可能であると共に、長寿命化を図ることが可能なニュートラライザを提供する。
【解決手段】一方の端部から電子電流を引き出し可能な放電管４と、放電管４内にガスを導入するガス導入管３と、この放電管４の内部でプラズマを発生させる高周波誘導コイル５と、放電管４の内部に配設されたカソード電極６と、放電管４の開口４ａ側に配設された第一のキーパ電極７と、カソード電極６よりも正電位となるように第一のキーパ電極７に電圧を印加する引出し電源１３と、第一のキーパ電極７と離間して配設された第二のキーパ電極８と、この第二のキーパ電極８にカソード電極６よりも正電位となる自己バイアス電圧を印加するコンデンサ１６と、を備える。第二のキーパ電極８の自己バイアス電圧により多くの電子電流が引き出すことができると共に、第二のキーパ電極８はスパッタされにくくなるため、長寿命化を図ることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】基板に形成される薄膜の膜厚をリアルタイムに且つ高い精度で測定することが可能な薄膜形成装置を提供する。
【解決手段】真空容器１１の内部に回転自在に設置され基板Ｓを保持可能な回転ドラム１３と、この回転ドラム１３の一部の領域Ｌに向けて膜原料物質を供給して基板Ｓの表面に薄膜を形成するスパッタ手段２０と、このスパッタ手段２０から供給される膜原料物質が常時付着する位置に固定された水晶膜厚センサ４３ａ，４３ｂと、この水晶膜厚センサ４３ａ，４３ｂに付着する膜原料物質の付着量と基板Ｓの表面に間欠的に付着する膜原料物質の付着量との間の比率に基づいて、基板Ｓの表面に形成される薄膜の膜厚を演算する膜厚演算コンピュータ４２と、を備えた。水晶膜厚センサ４３ａ，４３ｂに付着した膜原料物質の付着量から実際の基体に形成された薄膜の膜厚を、この比率の分だけ高い感度で測定することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】カルーセル式の回転ドラムを回転した状態で、基板に形成される薄膜の膜厚を高い精度で測定することが可能な薄膜形成装置を提供する。
【解決手段】薄膜形成装置１は、回転軸線Ｚ−Ｚ'を中心に回転する回転ドラム１３と、この回転軸線Ｚ−Ｚ'の一方の側から測定光を投光する投光ヘッド４３と、この投光ヘッド４３から投光された測定光をモニタ基板Ｓ_０に向けて反射する全反射ミラー４６と、モニタ基板Ｓ_０から反射する反射光を回転軸線Ｚ−Ｚ'の他方の側へ向けて反射する全反射ミラー５１と、この全反射ミラー５１により反射された反射光を受光する受光ヘッド５４と、この受光ヘッド５４で受光した反射光に基づいてモニタ基板Ｓ_０の膜厚を演算する膜厚演算コンピュータ５７を備えている。測定光と反射光が回転軸線Ｚ−Ｚ'の異なる方向から投受光されているので、光の干渉などの影響を受けずに高い精度で膜厚を測定することができる。 （もっと読む）

【課題】回転ドラムを高速で回転した状態であっても、基板に形成される薄膜の膜物性値（膜厚等）をリアルタイムに且つ正確に測定することを可能にする。
【解決手段】薄膜形成装置１は、基板Ｓの回転位置を検出するロータリーエンコーダ１００を回転ドラム１３の回転軸に取り付け、ロータリーエンコーダ１００で検出した基板Ｓの回転位置に基づいて測定制御コンピュータ９６は光学測定手段８０で膜物性値の測定を行うタイミングを制御するように構成されている。これにより、一回転ごとに所定の回転位置にある基板に対して物性値を測定することが可能となるため、回転ドラム１３の回転により基板の位置が変動しても常に同じ基板の同じ位置に対して同じ入射角で照射された測定光に基づいて膜物性値を測定することができる。 （もっと読む）

【課題】窒素ガス等の反応性ガスによるターゲット自体の反応を防止し、所望の光学的・物理的特性を有する窒化物含有薄膜を形成することを可能にする。
【解決手段】ターゲット２２ａ，２２ｂをスパッタして基板Ｓの表面にケイ素を付着させるマグネトロンスパッタ電極２１ａ，２１ｂと、このマグネトロンスパッタ電極２１ａ，２１ｂと離間した位置に形成された反応プロセス領域６０Ａに基板Ｓを搬送する回転ドラム１３と、反応プロセス領域６０Ａに窒素ガスを供給する反応性ガス供給手段７０と、反応プロセス領域６０Ａ内で窒素ガスのプラズマを発生させて基板Ｓに付着したケイ素を窒化ケイ素に変換するプラズマ発生手段６０と、を備えた。ターゲット２２ａ，２２ｂに窒素ガスが供給されないため、窒素ガス等の反応性ガスによるターゲット２２ａ，２２ｂ自体の反応が防止される。 （もっと読む）

【課題】 成膜プロセス領域内の局所的な成膜レートの違いにより基板間で生じる膜厚の差を、膜厚分布に関する情報として取得することが可能な薄膜形成装置を提供する。
【解決手段】 薄膜形成装置１は、基板Ｓとターゲット２２ａ、２２ｂとの間において、ターゲット面上の異なる複数の位置に対応して配設され、成膜プロセス領域内での発光を夫々受光する複数の光ファイバ３１−１〜３１−５を備えている。光ファイバ３１−１〜３１−５で受光した光から成膜プロセス領域２０から発光する光を夫々受光して、光学測定装置３３で所定の波長における発光強度を測定することにより膜厚分布に関する情報を取得する。更に、取得した膜厚分布に関する情報に基づいて、スパッタガスの流量調整や補正小片を駆動制御することで、成膜レートを局所的に調整して基板間で均一な膜厚となるようにする。 （もっと読む）