説明

プラクスエア・テクノロジー・インコーポレイテッドにより出願された特許

1 - 10 / 119


【課題】処理チャンバ(12)内のポリマー材料を前処理するための方法及び装置を提供する。
【解決手段】本方法は、ポリマー材料製構成部品を処理チャンバ(12)内に提供すること、超臨界状態の二酸化炭素流体をその中に導入することを含む。この構成部品は、それに含まれる不揮発性有機残渣を抽出するために、二酸化炭素流体に暴露される。処理チャンバを減圧することにより、有機残渣がポリマー材料製構成部品上に堆積しないように、抽出された不揮発性有機残渣を含む汚染された二酸化炭素流体を処理チャンバから取り出す。その後、その構成部品を処理チャンバ(12)から取り出す。 (もっと読む)


【課題】バッチ式処理手段(10)からの二酸化炭素含有流を取り除き、精製するシステムが提供する。
【解決手段】少なくとも二酸化炭素と1種又は複数種の共溶媒(20、30)を含む多相汚染流が処理手段(10)から取り出され、少なくとも1個の中間圧力分離器(40)へ運ばれる。汚染物含有流は、中間圧力分離器(40)中で、中間圧力の二酸化炭素に富む蒸気流(42)と中間圧力の溶媒及び汚染物に富む流れ(43)に分離される。 (もっと読む)


融解火炎を用いて融解した粗銅を加熱及び/又は銅屑の装入物を融解し、融解した粗銅中の硫黄を酸化させ、且つ、1つ又は複数の多機能なコヒーレント・ジェット・ランス組立品からの上吹きのコヒーレント・ジェット・ガス流を用いて融解した粗銅中の酸素を還元するコヒーレント・ジェット技術が採用された銅陽極精錬の方法及びシステムが提供される。本システム及び方法は、コヒーレント・ジェット・ランスへの酸素含有ガス、不活性ガス、還元剤、及び、燃料の流れを操作可能に制御する、マイクロプロセッサに基づく制御装置を用いる。本銅陽極精錬システム及び方法は、銅の生産量を大幅に向上させつつ、酸化/還元のサイクル時間を短縮し、NOの排出を最小限に抑える。 (もっと読む)


【課題】哺乳類細胞培養プロセスにおいて溶存二酸化炭素レベルを制御し、モル浸透圧濃度を制限して、細胞増殖、生存度及び密度を高め、生物生産物濃度及び収率を増大させるための方法を提供すること。
【解決手段】哺乳類細胞培養プロセスにおける溶存二酸化炭素レベル及びpHの当該制御、並びにその結果としてのモル浸透圧濃度を制限する能力は、哺乳類細胞培養プロセスを通じて代替的なpH制御手法及びCO分離技術を採用することによって達成される。当該pH制御技術及び二酸化炭素分離は、泡を生成することなく、且つ哺乳類細胞に損傷をほとんど又は全く与えることなく行われる。 (もっと読む)


本発明は、1つには、半導体及びマイクロエレクトロニクス製造で使用されるイオン注入装置のイオン源構成要素を洗浄するための方法に関する。イオン源構成要素は、イオン化チャンバと、イオン化チャンバ内に含まれる1つ又は複数の構成要素とを含む。イオン化チャンバの内面、及び/又はイオン化チャンバ内に含まれる1つ又は複数の構成要素には、例えばカルボランC1012といったドーパント・ガス中に含有される元素の少なくともいくらかの堆積物が付着している。この方法は、洗浄ガスをイオン化チャンバに導入するステップと、イオン化チャンバの内面から及び/又はイオン化チャンバ内に含まれる1つ又は複数の構成要素から堆積物の少なくとも一部を除去するのに十分な条件下で洗浄ガスを堆積物と反応させるステップとを含む。洗浄ガスは、Fと、希ガス及び/又は窒素から選択される1つ又は複数の不活性ガスと、任意選択でのOとの混合物、或いは酸素/フッ素含有ガスと、希ガス及び/又は窒素から選択される1つ又は複数の不活性ガスとの混合物である。堆積物は、イオン注入装置の正常な動作に悪影響を及ぼし、ダウンタイムを頻繁にもたらし、ツール稼働時間を減少させる。
(もっと読む)


本発明は、高い信頼性で超高純度(UHP)ヘリウム気体を供給するため、及び専用の現場在庫を維持するための方法及び装置に関する。具体的には、複数のISOコンテナを採用し、1つ又は複数のスタンバイISOコンテナ内の気化されたUHPヘリウムが、オンラインISOコンテナ内の圧力を蓄積するために使用される。ISOコンテナの熱遮蔽を使用して、バックアップISOコンテナ内への熱の漏れを減少させることができ、それによりヘリウム気化速度、及び容器の最大許容作業圧力(MAWP)を維持するために引き抜く必要がある気体の量を減少させる。ISOコンテナ内の液体を維持しながら、エコノマイザ弁を使用してUHPヘリウム気体を引き出すことによって、さらに低い供給速度が可能である。これにより、低流量要件からより高い流量要件まで供給速度を効率的に管理でき、また貯蔵容器からのUHPヘリウム引出し速度を最適化できる。さらなる利点は、顧客に送られるUHPヘリウム気体が液体源から直接届くので、より高純度であることである。UHPヘリウム気体は、半導体製造で、例えばウェハ上への薄膜堆積中に堆積チャンバ内に前駆体を導入するためのキャリア・ガスとして使用することができる。
(もっと読む)


本発明は、低温精留による加圧生成物の生成方法及び精製装置に関するものである。低温精留に使用される主熱交換器は、酸素の豊富な液体又は窒素の豊富な液体から成る、ポンプ輸送された生成物流を加温し、それにより、加圧生成物流を生成する。主熱交換器の層は、ポンプ輸送された生成物流を加温するために主熱交換器内に設けられた熱伝達面積が、ポンプ輸送された生成物流の温度がそのような流れの臨界温度又は露点温度の何れかを超える位置において減少するように設計される。熱伝達面積の減少によって、低温精留に関連して使用される別の流れを加熱又は冷却できる層の領域が残される。そのような他の流れは、液体生成物の生成を増加させるための付加的な冷却の導入を可能にする冷媒流であってよい。
(もっと読む)


本発明は、複数の個別のサイクルを含む原子層堆積プロセスによって、反応チャンバ中で基板上に薄膜を形成する方法に関する。複数の個別のサイクルは、個別のサイクルの少なくとも2つのグルーピングを含む。個別のサイクルは、(i)ガス状金属含有前駆体を該反応チャンバ中に導入し、該基板を該ガス状金属含有前駆体に曝露させること(ここで、該金属含有前駆体の少なくとも一部は該基板の表面上に化学吸着されて、その上に単分子層を形成する。)、(ii)該金属含有前駆体の導入を停止させ、該反応チャンバの容積をパージすること、(iii)ガス状酸素源化合物を該反応チャンバ中に導入し、該単分子層を該ガス状酸素源化合物に曝露させること(ここで、該酸素源化合物の少なくとも一部は該単分子層と化学的に反応する。)、及び(iv)該酸素源化合物の導入を停止させ、該反応チャンバの容積をパージすることを含む。該方法は、所望の厚さの薄膜が得られるまで、該個別のサイクルを繰り返すことを含む。該方法はまた、個別のサイクルの少なくとも2つのグルーピングを異なる処理条件で行うことを含む。 (もっと読む)


ポンプで汲み上げられた液体酸素流を、熱交換器内で圧縮空気との間接的な熱交換により加熱して加圧された酸素生成物を生成する酸素生成方法、並びに空気分離プラント及び熱交換器を含む装置。液体酸素流は、約55bar(a)を上回り約150bar(a)以下の範囲まで加圧され、加熱された後は超臨界流体になる。空気は、酸素圧に応じた空気圧まで圧縮され、その結果、空気を圧縮する際に消費される力が最小になる。熱交換器は、アルミニウムから製作された蝋付けフィン熱交換器とすることができ、熱交換通路内に位置するフィンは、流路の長さを増大させて流れ分離を引き起こし、それによって熱変換器内の熱伝達係数を増大させるように、起伏する構成を有する。
(もっと読む)


【課題】改良された物理的構造を有するスパッタリング・ターゲット及びそれらの製造方法を提供すること。
【解決手段】アルミニウム及び少なくとも1種の他の金属粉末を混合して粉末ブレンドを形成すること、前記粉末ブレンドを大きな力の下で圧縮して、理論密度の少なくとも50%の充填密度を有する圧縮されたブランクを得ること、使用される条件下においてブランク中に平均25%より多い金属間相を形成すると思われる温度未満の温度においてブランクを加熱すること、ブランクを圧延してブランクの理論厚さの少なくとも95%を得ること、及びブランクを適当な基材に接合することを含む、スパッタリング・ターゲットを製造する方法が提供される。この方法から製造されたスパッタリング・ターゲットも提供される。 (もっと読む)


1 - 10 / 119