【課題】外界の清浄度の影響を抑制し特定の空間の目標の清浄度を保つことができるミニエンバイロメント装置、検査装置、製造装置、及び空間の清浄化方法を提供する。
【解決手段】筐体２の吸気口２ｂを覆う外側集塵フィルタ３ａ、これを介して筐体２内に外界の空気を流入させる外側ファン３ｂ、筐体２内に配置され筐体２内の空間に臨む吸気口４ｂを有する清浄室４ａ、吸気口４ｂを覆う内側集塵フィルタ５ａ、これを介して清浄室４ａに筐体２内の空気を流入させる内側ファン５ｂ、筐体２の外界の圧力を測定する圧力計６ａ、筐体２内の圧力を測定する圧力計６ｂ、清浄室４ａ内の圧力を測定する圧力計６ｃ、及び、筐体２内の測定圧力Ｐｂが外界の測定圧力Ｐａよりも設定値Ｐ１だけ高く、さらに清浄室４ａ内の測定圧力Ｐｃが筐体２内の測定圧力Ｐｂよりも設定値Ｐ２だけ高くなるように、ファン３ａ，５ａの回転数を制御する制御手段７を備える。 （もっと読む）

【課題】
被検査基板の帯電状態を任意に制御でき、信頼性の高い電子ビームを用いた回路パターンの検査装置を提供する。
【解決手段】
回路パターンが形成されたチップを複数有する基板表面に電子ビームを照射し、該照射によって基板から発生する信号を検出して画像化し、該画像と他の画像とを比較して回路パターン上の欠陥を検出する回路パターンの検査装置において、電子ビームで走査しながら一方向に移動する基板のひとつの移動であるラインに含まれるチップ列に電子ビームを照射する検査スキャンにより検査用の画像を取得した後に、検査スキャンにより電子ビームが照射された領域の帯電状態を飽和状態にする、あるいは帯電状態を元に戻すことによって画像の質が均一になるように、該照射された領域に再び電子ビームを照射するポストスキャンの電子光学条件を設定する条件設定手段を備えたものである。 （もっと読む）

【課題】ウエハ面内の温度分布を高精度制御することができ、また制御できるウエハ温度
の範囲を広くすることができるプラズマ処理装置および処理方法を供給する。
【解決手段】被処理材と電極表面との間の伝熱用ガスを独立して供給または排気する手段
を複数設け、伝熱用ガス圧の面内分布を制御するとともに、複数の独立した領域となるよ
うに静電吸着用電極を電極表面に埋め込み、各領域に印加する直流電圧をそれぞれ制御し
、ウエハ面内の温度分布を制御する。 （もっと読む）

【課題】複数の検出器で得られる検出信号の検出特性の差異を装置上で解析し、回路やソフトウェアを変更することなく種々の検査目的に柔軟に対応できるようにすることができる外観検査装置を提供する。
【解決手段】試料１００を支持する試料ステージ１０１と、試料ステージ１０１上の試料１００に照明光１１１を照射する照明光源１０３と、照明光源１０３の照明光スポットに対して互いに位置が異なるように配置され、試料１００の表面から発生する散乱光１１２をそれぞれ検出する複数の検出器１２０ａ〜ｄと、検出器１２０ａ〜ｄからの検出信号を設定の条件に従って合成する信号合成部１０５と、信号合成部１０５による検出信号の合成条件を設定する入力操作部１０９と、入力操作部１０９により設定された条件に従って信号合成部１０５で合成された合成信号を基に構築された合成マップ２２０ａを表示する情報表示部１０８とを備える。 （もっと読む）

【課題】試料の処理中の温度を高速に変更し、また変動を抑制できるプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】真空容器内の処理室に配置された試料台上に保持された試料をこの処理室内に形成したプラズマを用いて処理するプラズマ処理装置であって、前記試料台内に配置され内部に供給された冷媒が蒸発しつつ通流する流路と、この試料台と圧縮機，凝縮機及び膨張弁がこの順に連結されて構成され前記冷媒が循環する冷凍サイクルと、前記膨張弁を通った冷媒が分岐して前記試料台内部の前記流路から前記圧縮機に戻る冷媒と合流する冷媒経路と、前記試料台内部の流路を通り冷凍サイクルを循環する冷媒の量及び前記分岐して前記冷媒経路を流れる冷媒の量を調節する調節器とを備えた。 （もっと読む）

【課題】ウェーハの表面状態，膜種や膜厚，表面粗さによって、異物や欠陥から発生する反射光自体が変化し、固定のしきい値では微細な異物や欠陥の弁別が困難であった。
【解決手段】被検査物である半導体ウェーハ１００はチャック１０１に真空吸着されており、このチャック１０１は、回転ステージ１０３と並進ステージ１０４から成る被検査物移動ステージ１０２，Ｚステージ１０５上に搭載されている。回転ステージ１０３にて回転移動を、並進ステージ１０４にて並進移動を行う。そして、被検査体表面上の異物や欠陥を検出する際、デジタルフィルタリングのパラメータを検査中に動的に変化させ、ノイズ成分である低周波変動成分を除去した結果を用いて、異物や欠陥を弁別する構成とする。 （もっと読む）

【課題】
アパーチャの寿命を長くでき、カラムバルブを閉じた際にも、コンタミの増加を防止し、また、再起動も短時間で行える集束イオンビーム装置を提供することにある。
【解決手段】
高圧電源制御器１８１は、カラムバルブ１４の閉動作時に、引出電極１７に印加する引出電圧を下げ、または、制御電極１６に印加する制御電圧を下げて、エミッションを０μＡにする。また、カラムバルブ１４の開動作時に、引出電極１７に印加する引出電圧を元に戻し、または、制御電極１６に印加する制御電圧を元の電圧に戻す。 （もっと読む）

【課題】本発明は、反応液面より上部の反応容器内壁面への試薬や反応液滴付着による分析結果の再現性低下を解消することを目的とする。
【解決手段】本発明は、試薬と試料が分注される反応容器と、前記反応容器内に挿入して試薬と試料を混ぜる撹拌部材と、前記反応容器内で混合した反応液の反応を測定する測定機構を有し、前記撹拌部材の挿入によって齎される前記反応液の液面上昇が、前記分注により飛散して前記反応容器の内壁に付着する試薬や試料の付着液滴のところまで達する程度の体積を前記撹拌部材が有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】イオンビーム光軸上に磁場が存在し更に磁場が変動する場合でも、試料上でイオンビームの同位体分離を生じさせることなく、磁場がない場合のビームスポット位置へ高精度に集束させることができる集束イオンビーム装置を提供する。
【解決手段】集束イオンビーム装置において、イオンビーム３の光軸上に外部磁場によるイオンビーム３の偏向を補正する補正磁場発生部１０を備え、補正磁場発生部１０は、寸法ｄの間隙を介して隣接する２つのポールピース２６ａ，２６ｂ及び２６ｃ，２６ｄをそれぞれ１つのポールピース対２６Ａ，２６Ｂとして、ポールピース対２６Ａ，２６Ｂを寸法ｇ（＞ｄ）の間隙を介しイオンビーム３の光軸を挟んで対向配置し、ポールピース２６ａ〜２６ｄにそれぞれ巻いた内側コイル２９、及びこれら内側コイル２９を包囲するようにしてポールピース対２６Ａ，２６Ｂにそれぞれ巻いた外側コイル３０を有している。 （もっと読む）

【課題】生体磁場計測装置における検査対象の測定位置設定に関する操作手順を単純化すること。また、生体磁場計測装置において正確な位置調整を実現し、測定装置の占有スペースを縮小化すること。そして、上記の課題を達成した生体磁場計測装置及び生体磁気計測における検査対象の測定位置設定方法を提供することにある。
【解決手段】検査対象から発生する磁場を計測する磁束計を備えた測定手段と、
前記検査対象を配置するためのステージと、前記磁束計のうち予め定めた磁束計と前記ステージの位置関係を予め定めた基準と、検査対象と前記基準の位置を調整するために水平方向および垂直方向に駆動可能な基準位置調整機構と、前記ステージを前記測定手段へ搬送する搬送機構と、搬送した前記ステージを前記測定手段の予め定められた位置に配置する位置決め機構と、を備えた生体磁場計測装置。 （もっと読む）