【課題】光源にパルスレーザを用いて被検査物体の散乱光を検出するときに、Ａ／Ｄ変換器のサンプリング周期を光源のパルス発振周期に関係付けて決定しないと、ノイズが増大する。
【解決手段】Ａ／Ｄ変換器のサンプリング周期を、（１）光源のパルス発振周期と等しいか整数倍とし光源の発振と同期させる、かまたは、（２）光源のパルス発振周期の半整数倍とする。これにより、Ａ／Ｄ変換器に与えられる散乱光信号中に光源の発光パルスに由来するリップル成分が残留していても、その影響を解消もしくは軽減することができる。 （もっと読む）

【課題】 不規則な回路パターン部分では、パターンからの散乱光によって欠陥信号が見落とされ、感度が低下する。
【解決手段】 基板試料を載置してＸ-Ｙ-Ｚ-θの各方向へ任意に移動可能なステージ部と、基板試料を斜方から照射する照明系と、照明された検査領域を受光器上に結像する結像光学系とを有し、該照明系の照射により前記基板試料上に発生する反射散乱光を集光する。更に、互いに異なる複数の偏光成分を同時に検出する偏光検出部を有する。更に、上記偏光検出部で検出される互いに異なる複数の偏光成分信号を複数チップ間あるいは所定領域の画像内で比較して、統計的な外れ値を試料上の欠陥として検査する。 （もっと読む）

【課題】半導体ウェハ表面や表面近傍に存在する異物や欠陥等に由来して発生する散乱光の強度が照明方向に依存する異方性を有する場合であっても主走査方向の回転角に依存せずに均一な感度で異物や欠陥等の検査が可能な表面検査装置を実現する。
【解決手段】光源１１からの光はビームスプリッタ１２で、略等しい仰角を有し、互いに略直交する２つの方位角からの２つの照明ビーム２１、２２となり、半導体ウェハ１００に照射され、照明スポット３、４となる。照明光２１、２２による散乱・回折・反射光の和を検出するとウェハ１００自身又はそこに存在する異物や欠陥が照明方向に関する異方性の影響を解消できる。これにより、異物や欠陥等に由来して発生する散乱光の強度が照明方向に依存する場合であっても主走査方向の回転角に依存せずに均一な感度で異物や欠陥等の検査が可能となる。 （もっと読む）

【課題】基板全体で薬液と洗浄液との置換を短時間で行い、処理のむらを防止する。
【解決手段】ローラ１０は、基板１を矢印Ａで示す基板移動方向へ移動する。薬液処理室２０において、薬液ノズル２１は、基板１の表面へ薬液を供給する。基板１の表面へ供給された薬液により、基板１の表面の薬液処理が行われる。洗浄室３０において、アクアナイフ３１は、基板移動方向と逆方向（矢印Ｂで示す方向）へ移動しながら、基板１の表面へ洗浄液を供給する。基板１の表面へ供給された洗浄液により、基板１の表面の薬液が洗い流されて洗浄液と置換される。基板１を移動しながら、基板１へ供給する洗浄液を基板移動方向と逆方向へ移動するので、洗浄液を基板１の表面全体へ供給するのに要する時間が短くなり、基板１全体で薬液と洗浄液との置換が短時間で行われる。 （もっと読む）

【課題】画像分割処理に伴うメモリの必要数を減少でき、画像処理不可能領域の発生を防止するデータ転送の転送時間も短縮化可能な画像処理装置を実現する。
【解決手段】１つのセンサにより得られた画像１０１を複数のチャンネルｃｈ１〜ｃｈ４に分割しチャンネル方向分割部１０２のより一方側に隣接する一つのチャンネルを含んだ２チャンネル分の画像データとし、分割した複数のチャンネル数より１つ少ないデータ単位数と３とする。３単位の画像データそれぞれに対して、画像処理不可能領域が発生しない程度にデータ重複部分を転送画像制御回路１０３により設定して単位画像データ毎に画像データを切り出し、切り出し処理後の画像データに対してプロセッサ部１０４により処理を行う。したがって、画像処理に要するメモリ数及び画像処理のプロセッサ数は、分割したチャンネル数より少ない数とすることができる。 （もっと読む）

【課題】 荷電粒子線顕微装置において、任意倍率における幾何歪みを高精度に測定し、補正する。
【解決手段】 周期構造を持つ標準試料を基準にした絶対歪みとして第1の倍率における幾何歪みを測定する。幾何歪み測定済の第1の倍率と、幾何歪み未測定の第２の倍率で微細構造試料を撮影する。第1の倍率の画像を第2の倍率まで等方的に伸縮した伸縮画像を生成する。第2の倍率における幾何歪みを、伸縮画像を基準とした相対歪みとして測定する。第1の倍率における絶対歪みと第2の倍率における相対歪みから 、第2の倍率における絶対歪みを求める。以後、第2の倍率を第1の倍率に置き換えて相対歪み測定を繰り返すことにより、任意倍率における幾何歪みを測定し、補正する。 （もっと読む）

【課題】従来のウェーハ表面検査装置は、ウェーハ外周部分を非検査領域とし、異物の検査ができなかった。そのため、ウェーハの致命欠陥を見落とす可能性があった。
【解決手段】これを改善するために、例えば、エッジ領域を測定する場合、ノイズとなる回折光の影響を受けない角度の受光器を選択することにより、感度低下を最小限おさえた検査が可能である。そして、従来測定できなかった、外周部の異物の管理が可能となり、ウェーハの致命欠陥の見落としがなくなり、ＩＣの不良低減になる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、スタンパと被転写体との間に気泡が残存することを防止して精度よくパターンを形成することができるインプリント装置を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明は、被転写体１とスタンパ２とを接触させてスタンパ２の表面形状を被転写体１に転写するインプリント装置Ａ１において、被転写体１とスタンパ２とを、間隔をあけて保持する保持手段と、被転写体１とスタンパ２とが配置されたチャンバを減圧する減圧手段と、被転写体１とスタンパ２との相対位置を合わせる位置合わせ手段とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ブランキング電極のコンタミを低減できる集束イオンビーム装置を提供することにある。
【解決手段】イオン捕集器１６は、イオンビームの入射側を頂点とする円錐状の外周をなし、中心軸に沿って非ブランキング時にイオンビームが通過する開口を有するブランキングプレート１６Ａと、ブランキングプレートのイオンビームの入射側に対向して配置され、ブランキングプレートの開口よりも大きい開口を有するカバー１６Ｃと、ブランキングプレートとカバーを支持するとともに、非磁性の導電部材からなる筒１６Ｂと、筒の外周側に対向して配置された一対のコイル１６Ｅ１，１６Ｅ２とからなる。 （もっと読む）

【課題】複数のプローブの先端を所定距離に近接する操作を自動的に行えるプローブ制御装置を提供することにある。
【解決手段】プローブ駆動部１１１は、プローブＰを駆動する。プローブ制御部１３４は、プローブ駆動部１１１に駆動指令を出力して、プローブＰの位置を制御するものであり、予め登録されたプローブの先端部の画像データ（テンプレート）を用いて、複数のプローブの先端間の距離が所定値となるように、電子顕微鏡制御部１３２を用いて電子顕微鏡の像倍率を高倍率に変えながら、複数のプローブの位置を繰り返し制御する。 （もっと読む）