【課題】 ２枚以上の絞りの荷電粒子光学的な相対位置を精度良く測定し、補正できるようにする。
【解決手段】 複数枚の絞りとしてアパーチャアレイ３とレンズアレイ４を有し、前記複数枚の絞りのうち、アパーチャアレイ３とレンズアレイ４の荷電粒子光学的な相対位置を、露光に使用する開口群１９，２１以外の標的として測定用開口を用いて測定する測定手段を設ける。前記標的は、前記絞り内に配置された、測定用開口２０，２２及びファラデーカップ１７である。 （もっと読む）

【課題】エラー保守依頼取り決め事項に則って保守依頼が決められることに加え、エラーの状況に応じて半導体製造検査装置を使用する使用者の意思により保守依頼ができる使い勝手の良い半導体製造検査装置の遠隔保守システムを提供すること。
【解決手段】エラー保守依頼取り決め事項は、エラー種別毎に、保守センタ側にエラーの保守依頼をする／しない、無料保証期間、保守料金を含む項目が定められ、発生したエラーが、製造検査装置用端末機によりエラー保守依頼取り決め事項でのエラーの保守依頼をする方に選択され、かつ保守料金の有料／無料および無料保証期間の内／外に関する前記項目に照らして保守料金の支払い対象に決められたときには、半導体製造検査装置を使用するユーザ側の判断で保守依頼の取り止めにするか、エラーの保守依頼を実行するか、選択できる選択手段を設けたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】試料に対してビームを傾斜しても分解能低下の少ない荷電粒子線装置を提供する。
【解決手段】複数のレンズ６，７に対して一次ビーム４の軌道を軸外に通し、その軸外軌道を制御することにより、ビーム傾斜時に対物レンズ７で発生する収差を他のレンズ６の収差でキャンセルする手段を備え、対物レンズを含む複数のレンズの励磁を同時に変調する手段を設けた。 （もっと読む）

【課題】 所望の偏向感度が得られ、高周波駆動に対応した偏向器及びその作製方法を提供する。
【解決手段】 基板５０１上に、貫通口と、この貫通口の側壁に配置された互いに対向する少なくとも一対の電極５０３ａ，５０３ｂと、を有する偏向器であって、前記基板の上面、前記基板の下面および前記電極と前記基板の間のうち少なくとも１か所に、複数の絶縁層５０４ａ, ５０４ｂが積層されており、前記複数の絶縁層の少なくとも１つが、二酸化シリコンからなる。 （もっと読む）

【課題】 同一寸法校正パターンへの位置決めを可能にする。
【解決手段】 不連続な格子状の寸法校正パターン26とその近傍に特定の位置決め用アライメントパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】 伝送線路の設計を容易にし、かつ簡便な手法にて駆動信号の伝送特性を良好に維持し、管理することを可能にする。
【解決手段】 鏡筒の真空シール３８の外側にて伝送線路の配線パターン３４の一端に接続され、ブランキングアパーチャアレイのブランキング電極３３を駆動する駆動信号を出力するドライバ４４と、前記鏡筒の外側にて前記伝送線路の他端に接続され、前記駆動信号を終端するための終端器２３と、ドライバ４４と終端器２３との間の伝送線路上に配置され、端部がブランキング電極３３に接続されるスタブ線路と、を備え、複数のブランキング電極３３に接続される複数のスタブ線路の長さを実質的に等しくした。 （もっと読む）

【課題】
複数の分析ユニットで構成された自動分析装置において、特定の分析ユニットで試料の定量吸引異常を認識した場合は吸引試料の排出動作など異常処理動作が付加されるが、当該試料が分析依頼された以降の分析ユニットで同様な動作が発生し処理能力が低下する現象を防止する。
【解決手段】
本発明を適用するには自動分析装置のシステムを制御するアプリケーションソフトウェアにおいて特定分析ユニットで認識された定量吸引異常の認識情報を、複数の分析ユニット相互間で共有化し、定量吸引異常が認識された分析ユニット以降の分析動作を実行不可とすることで可能となる。 （もっと読む）

【目的】 MEMSや半導体デバイス半導体素子の構造解析や不良解析において、より高速、かつ高精度の加工と高分解能の像観察を実現する。
【構成】 イオン源１のエミッタ先端からイオン源に最も近い集束レンズ２を構成している接地電極までの距離が５〜１４ｍｍの範囲にある２段レンズ光学系をFIB装置に搭載する。 （もっと読む）

【課題】
ベビー検体のような少量検体であっても、依頼のあった項目全てを測定可能にする自動分析装置を提供することにある。
【解決手段】
毛細管内血液を遠心分離する遠心分離機を備え、かつ遠心分離機から毛細管ごと取り出すことのできるアームを有している。遠心分離した毛細管内の血清量を計測し、血球部分を毛細管ごと切り落とす機能を有している。毛細管内の血清をサンプルカップに移し変えることなく反応容器へ所定量吐出することができる。 （もっと読む）

【課題】ブランキング中に電子ビームの漏れが生じない電子線描画装置を提供すること。
【解決手段】電子ビームを放射する電子銃と、電子ビームの形状を成形する多種の成形穴が配置されたアパーチャと、選択した成形穴の向きに前記電子ビームを偏向させる成形偏向器または一括偏向器と、試料に電子ビームを照射しないときは電子ビームの通過を遮る対物絞りと、対物絞りによって電子ビームが遮られるように電子ビームに偏向をかけるブランキング手段とを有し、成形偏向または一括偏向の過渡的な偏向電圧による電子ビームの離軸方向に応じて前記ブランキング手段の偏向方向を変えることを特徴とする。 （もっと読む）