【課題】除振台への搭載機器の動特性や外乱振動の影響を考慮した状態フィードバック制御により高精度な制振が可能なアクティブ除振装置を実現する。
【解決手段】主慣性軸成分分離計算器２０に鉛直方向変位センサ８、１０、鉛直方向加速度センサ９、１１、水平方向変位センサ３８、水平方向加速度センサ３９からの検出信号が供給され、ｙ軸変位、ｙ軸速度、θｘ軸変位、θｘ軸速度が演算され状態観測器１９に伝達される。状態観測器１９は主慣性軸の成分と制御量行列２７を入力として推定量行列信号２６を出力しフィードバックゲイン行列格納部１８からのフィードバックゲイン行列と乗算器２２によって行列演算され推力分配器１６、増幅器１２、１３、１５を介してリニアアクチュエータの固定子４５、４８、４９に入力される。平面方向の振動と回転方向の振動との相互作用を考慮した状態方程式により高精度な制振が可能となる。 （もっと読む）

【課題】
真空雰囲気下で試料を搬入・搬出する際に生じる異物量を低減することのできる真空処理装置を提供する。
【解決手段】
搬入された試料に真空処理を施す真空処理室１と、室内を大気雰囲気と真空雰囲気に切り換え可能なロードロック室５１と、真空処理室とロードロック室間で試料を搬入出する真空搬送手段３を備えた真空搬送室２と、真空搬送室と真空処理室間及び真空搬送室とロードロック室間をそれぞれ隔離する仕切り弁４，５と、真空搬送室、真空処理室及びロードロック室の圧力を検出する圧力検出手段４３，３５，２３と、前記真空搬送手段により試料を真空搬送室を介してロードロック室と真空処理室間で移動させる制御手段を備え、該制御手段は、試料を真空搬送室と真空処理室間あるいは真空搬送室とロードロック室間の仕切り弁を通して移動させる際、仕切り弁の解放前に、移動させる前および後の室の内圧を分子流領域近傍の中間領域に調整する。 （もっと読む）

【課題】 染色体転座より生じるキメラ遺伝子の検出方法に関して、数多く存在するキメラ遺伝子をスループット高く一度に検出する方法を提供する。
【解決手段】 支持体上に固定化されたキメラ遺伝子の転座点を挟むエキソン配列内の部分塩基配列又はこれと相補的な塩基配列を含む少なくとも2種類以上のプローブに対し、キメラ遺伝子由来の核酸を含む試料をハイブリダイズさせることにより、2種以上のキメラ遺伝子を一度に検出することを特徴とするキメラ遺伝子の検出方法。 （もっと読む）

【課題】
検査装置から出力された欠陥座標の誤差を補正し、欠陥レビュー装置における欠陥探索用の視野サイズ及びファインアライメント用の欠陥を容易に選定することができる方法及び装置を提供する。
【解決手段】
校正用基板の欠陥の位置座標を絶対座標と呼び、検査装置によって検出した校正用基板の欠陥の位置座標を検査座標と呼ぶ。絶対座標に対する検査座標の偏差が検査座標に含まれる誤差である。検査座標より、「傾向を持つ誤差」を除去すると、検査座標には、「傾向を持たない誤差」が残る。傾向を持たない誤差に基づいて、欠陥レビュー装置における欠陥探索用の視野サイズを設定する。更に、検査装置によって検出した校正用基板の欠陥サイズの検出値の傾向に基づいて、ファインアライメント用の欠陥を選定する。 （もっと読む）

【課題】 特にマルチ電子ビーム型露光装置において、電子ビームの照射によるアパーチャアレイの熱負荷を低減し、描画精度を向上させることが可能な荷電粒子線露光装置を提供する。
【解決手段】 電子源１からの電子ビームを複数の開口によって分割し、各種レンズを含む縮小投影系７などを介して複数（マルチ）の電子ビームによってウエハ８を露光するためのアパーチャアレイ４と、前記アパーチャアレイ４の前段に配置され、前記アパーチャアレイ４の開口を内包する開口を備え、前記アパーチャアレイ４に照射する電子ビームの照射量を制限するためのプリアパーチャアレイ３とを設ける。 （もっと読む）

【課題】走査型電子顕微鏡の撮像画像の画質を向上させる。
【解決手段】１次電子ビーム１０８を試料ウェハ１０６に照射する電子源１０１、加速電極１０２、集束レンズ１０３、偏向器１０４、対物レンズ１０５等と、試料ウェハ１０６から発生する放出電子信号１０９をサンプリングしてデジタル画像を取得する検出器１１０、デジタル化手段１１１等と、取得した前記デジタル画像の記憶、表示もしくは処理を行う画像メモリ１１６、入出力部１１８、画像生成部１１５、画像処理部１１４等とを備えた走査型電子顕微鏡に、前記記憶、表示もしくは処理されるデジタル画像の画素サイズよりも細かい間隔で放出電子信号１０９をサンプリングするサンプリング手段と、サンプリングされた放出電子信号１０９を元に画素サイズを大きくしてデジタル画像を生成する画像生成処理手段とを設ける。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、検査のために採取した血液や尿などの検体を入れた容器から別の容器に前記検体を分注する分注装置の親検体容器持ち上げ等の異常を検出できる検体処理装置を提供することにある。
【解決手段】
本発明の構成は、発光ダイオードとホトトランジスタによる光学センサを用い、親検体搬送ライン上にラインに平行に光学センサの光ビームを配置し、光ビームが遮光されたときに異常を検出することにより達成できる。
【効果】
パルス点灯することで強力な光ビームを発生し、その光ビームの遮光を検出することで、親検体容器持ち上げ等の異常を高信頼度で検出することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】 部品交換やメンテナンス等の作業の時間を短縮できる、または設置面積が小さい試料処理装置を提供する。
【解決手段 】内部を処理対象の試料が搬送される略多角形状の搬送チャンバの隣り合う辺の各々に取り付けられた複数の容器３を備えた試料処理装置であって、各々の容器は、搬送室側のヒンジ９で支持された、その上部を開閉する蓋部材１を有し、この蓋部材１が、最大開角度位置、および、閉位置と最大開角度位置との間の開角度位置で位置固定される試料処理装置。 （もっと読む）

【課題】
荷電粒子線装置で試料において、試料表面の観察や加工部位に妨げとなる付着物等のゴミや異物を除去することを目的としており、荷電粒子線装置の試料交換装置に除去機能を有することで試料の観察，加工時直前に実施でき付着物を着実に除去できる。
【解決手段】
荷電粒子線装置の試料交換装置９内にノズル状構造物１２を設けた荷電粒子線装置で、前記ノズル状構造物１２内部に窒素等の高圧ガス１５を注入し、その先端にあるガス噴出口１４から試料８表面上に向けて噴出し、ゴミや異物等を弾き飛ばして除去する方法。 （もっと読む）

【課題】本願の目的は、ウェーハをプロセスに問題となるＧａのような元素で汚染することなく、ウェーハから解析用サンプルを分離方法および装置を提供することにある。
【解決手段】本発明によるイオンビーム加工装置は、真空容器４１を有しており、真空容器内には、デュオプラズマトロン８１、イオンビームレンズ８２、対物絞り８３、などから構成されており、酸素イオンビーム照射とシリコンプローブ３により基板からマイクロサンプル６を摘出する。
【効果】本願によると、半導体デバイス等の歩留向上のために、途中の検査がウェーハを割ることなく実施でき、さらにウェーハをプロセスに問題となるような元素で汚染することなく、解析用サンプルを分離する試料作製方法およびイオンビーム加工装置が提供される。 （もっと読む）