【課題】
必要とする安全性及び信頼性を持ってデータを保管できるとともに、保管費用を安価にできるデータ保管方法及びデータ保管システムを提供することにある。
【解決手段】
ストレージサービスプロバイダ（ＳＳＰ）１００は、データの保管に関して異なる安全性及び信頼性のレベルを有する複数のストレージＳＴＲ−Ａ，ＳＴＲ−Ｂ，ＳＴＲ−Ｃと、複数のストレージのいずれにどのデータを保管するかを振り分ける振り分けサーバ１５０と、複数のストレージ毎に異なる料金に基づいて、保管されたデータに対する課金を処理する課金処理サーバ１９０と、ユーザ２００と接続されるＩ／Ｏサーバ１１０とを有する。振り分けサーバ１５０は、複数のデータの重要度に基づいて分類された各データを、この重要度に応じて前記複数のストレージに振り分けて保管する。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、末端検出方式において、複数のキャピラリ端を高精度に配置することに関する。
【解決手段】
本発明は、末端検出方式において、複数のキャピラリ端を保持する保持部材に設けられた基準面を用い、検出光学系と位置合わせすることに関する。基準面を検出光学系に位置合わせすることにより、複数のキャピラリ端を検出光学系に高精度に位置合わせできる。本発明により、複数のキャピラリ端を高精度に配置でき、高精度な電気泳動分析を実現できる。 （もっと読む）

【課題】 観察箇所の帯電量を所望の帯電量に安定して制御することができる試料観察方法、及びそれを実現する電子顕微鏡を提供する。
【解決手段】 試料の状態にあわせてプリチャージを行う一次電子線１０８の照射条件を制御し、エネルギーフィルタ１０１ｂと２つの電子検出器１０２ａ，１０２ｂを用いて検出される二次電子信号量から観察箇所が所望の帯電量になったことを確認し、観察箇所の帯電量を制御する。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、多数のキャピラリを用いた高感度同時計測、及び計測結果の高速処理に関する。
【解決手段】
本発明は、複数のキャピラリ末端から放出される光を検出器により検出する電気泳動装置において、複数のキャピラリ末端の配置形状を調整し、検出器上における結像を制御することに関する。これにより、例えば、検出器における光学素子の配置に合せた結像とすることができ、検出器からのデータ取得を高速に行うことができる。 （もっと読む）

【課題】 ＴＥＭ像の画像撮影時に発生するドリフトを撮影と同時に補正し、ドリフトの影響のないＴＥＭ像を撮影する。
【解決手段】 ＴＥＭ像を記録している間中、別のＴＶカメラ１７、または位置敏感検出器を用いて、記録される視野以外の場所のドリフトを随時計測し、試料ホルダー１３による試料移動またはイメージシフトコイル１５による像移動によってドリフトを補正する。 （もっと読む）

【課題】二次記憶手段としてメモリ部及びコントローラ部と有する記憶手段ＣＦを用い、ＣＦのデータ書き換え動作中に電源遮断が生じてもデータ消失が発生せずデータ書き換え動作を正確に再実行可能なデータ記憶制御装置を実現する。
【解決手段】主記憶メモリ１３５のバックアップデータ１３０を二次記憶装置としてのＣＦ１４５の記憶ブロック単位と同一の記憶ブロック単位に分割し、ＣＦ１４５へのデータ書き込み時にはバックアップデータ１３０領域における、データ書き込みセクタを含むブロックにフラグをセットする。セクタ単位の書き込みデータがＣＦ１４５に転送されるが、ＣＦ１４５ではその書き込みデータを含むブロック全体の書き込みを実行する。ＣＦ１４５のデータ書き込み途中で電源遮断が発生した場合はバックアップデータ１３０領域におけるフラグがセットされた位置のブロック全体の書き込みをＣＦ１４５に対して行う。 （もっと読む）

【課題】 検査対象からの反射光もしくは回折光が検査対象のパターン密度に応じて変化する光学条件においても検出視野内でのイメージセンサの感度を均一にする。
【解決手段】 検査対象からの反射光もしくは回折光成分の分布を変更可能な複数の光学条件を任意に選択可能で、かつ、一次元もしくは二次元の光電変換イメージセンサを有し、検査対象を搭載したステージを走査するかもしくはイメージセンサを走査することにより光学的に画像を取得し、画像処理等により検査対象の欠陥等を検査する検査装置において、光学条件（照明光学系、検出光学系、走査方向等）毎に検査対象試料を撮像して取得したイメージセンサ検出視野内での光量分布とコントラストから、イメージセンサ出力補正データを生成し、イメージセンサ出力の補正を行う。 （もっと読む）

【課題】
簡易な構成で、試料搬送口の形状のプラズマへの影響を低減することのできるプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】
被処理基板を搬入出するための搬送口１４を備えた真空処理室６と、真空処理室６内に処理ガスを供給するガス供給手段７と、真空処理室内に供給された処理ガスに高周波エネルギを供給してプラズマを生成するプラズマ生成手段４、８と、真空処理室内に上下動可能に保持され、該真空処理室内で被処理基板を載置して保持する下部電極１０と、前記搬送口の開口部を含む真空処理室内周を摺動可能に被覆する筒状の搬送口遮断壁１６と、前記下部電極と搬送口遮断壁とを結合する結合部１７を備え、下部電極１０を処理装置の運転位置まで上昇させたとき前記搬送口遮断壁１６により前記搬送口１４の開口部が遮蔽される。 （もっと読む）

【課題】
特にＣＭＰ後の膜厚管理として、チップ内の様々な部分での膜厚計測実現のニーズが高まっているが、４５ｎｍノード以降ではデバイスパターンが非常に微細となったとしても、パターン上での膜厚計測を容易に可能にした。
【解決手段】
可視光を用いて光学的に膜厚を求める場合、４５ｎｍノード以降では対象パターンが検出波長の１０分の１程度の大きさとなり解像度以下となるため、被計測対象を均一な層構造と仮定することができ、仮定したモデルを用いることにより短時間での膜厚計測を実現することができる。また、被計測対象のパターンの大きさによって、膜厚計測アルゴリズムを選択する。 （もっと読む）

【課題】 ＣＣＤカメラを有する透過型電子顕微鏡装置において、高解像度の画像を得る。
【解決手段】 透過型電子顕微鏡装置は、電子線を試料に照射する照射光学系と、試料の透過像を撮像するためのＣＣＤを有する撮像装置と、透過像を移動させるための透過像移動装置と、複数の画像を合成して１つの画像を生成する画像合成部と、を有し、上記画像合成部は、透過像から得た画像と該透過像を移動させて得た画像を合成することによって、ＣＣＤの非受光部に受光部を配置したと仮定して得られる画像と同一の画像を生成する。 （もっと読む）