説明

エフ・イ−・アイ・カンパニーにより出願された特許

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小型の電子顕微鏡は頑丈で操作が簡単であり、特別な設備を必要としないことが好ましい。撮像は、サンプルが挿入された後すぐに開始することができる。単純化された好適な設計には、集束化のための永久磁石を含み、真空コントローラおよび真空ゲージを備えず、後方散乱電子検出器を使用し、二次電子検出器を使用しない。
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【課題】TEMサンプルを基板から抽出する方法を提供すること。
【解決手段】方法は、サンプル上に穴をミリングすることと、プローブを穴に挿入することとを含む。サンプルはプローブに接着し、プローブの上にある間、移送時に処理することができる。他の実施形態では、サンプルは基板から切り出され、静電引力によってプローブに接着する。サンプルは、真空室においてTEMサンプル・ホルダの上に配置される。 (もっと読む)


高圧型SEM(例えば、エフ・イー・アイ社のESEM(登録商標)環境型SEM)と一緒に用いる検出器が、有効な検出スペースをPLAの上に拡張し、これによって、作動距離または圧力を増大させることなく二次信号増幅を増大させる。したがって、実施形態は改善された分解能を提供することができ、より低いガス圧で動作可能である。 (もっと読む)


【課題】ビームをワーク・ピースに向けずに、荷電粒子ビーム・システムにおいてコーティングをワーク・ピースに加えること。
【解決手段】コーティングは、荷電粒子ビーム真空室内において、または荷電粒子ビーム真空室外において、スパッタリングによって加えられる。一実施形態では、スパッタリングは、気体流入システムから針などのスパッタ材料源に荷電粒子ビームを向けることによって実施される。材料は、ビームをワーク・ピースに向けることを必要とせずに、たとえば、保護コーティングまたは導電コーティングを形成するために、スパッタ材料源からワーク・ピースの上にスパッタリングされ、それによりワーク・ピースに対する損傷を低減または排除する。 (もっと読む)


【課題】確立されたフォトリソグラフィ技法を使用してバッチを製作する方法を提供すること。
【解決手段】大規模大量生産に適切な反復可能で信頼性のある方式で、ナノ粒子またはナノデバイスを製作し、巨視的デバイスに実装することが可能になる。ナノ粒子は、容易に操作して、様々なデバイスにおいて標準的なマウントをはめ込むように成形することができる巨視的「モジュール」の上に成長させることができる。 (もっと読む)


【課題】回転可能なベースの回りに配置されたサンプルを顕微処理する複数器具を含むクラスタ器具を提供すること。
【解決手段】ベースの上のサンプル・ホルダが、器具の作業領域間においてサンプルを回転させる。スライド可能真空封止が、真空を必要とする器具のサンプル室において真空を維持する。 (もっと読む)


【課題】構造の3次元表面粗さを測定する改良された方法を提供すること。
【解決手段】事前に選択された測定距離にわたって事前に選択された間隔において、対象フィーチャの断面または「スライス」の連続をミリングするために、集束イオン・ビームが使用される。各断面が暴露される際、フィーチャの該当寸法を測定するために、走査電子顕微鏡が使用される。次いで、これらの連続「スライス」からのデータは、フィーチャについて3次元表面粗さを決定するために使用される。 (もっと読む)


【課題】ナノ粒子の統計的特性を決定する方法および装置を提供すること。
【解決手段】方法および装置は、ナノ粒子を表面上に分布させ、次いで、個々のナノ粒子を操作せずに、複数の粒子の自動測定によって、または複数の粒子の特性を一度に決定する測定によって、ナノ粒子の特性を決定することを含む。 (もっと読む)


【課題】粒子を加工品に精確に向けるために、帯電粒子ビーム・システムの能力を向上させること。
【解決手段】ビームが再配置されるときに偏向システムを通って遷移する帯電粒子は、適切な偏向力を受け取らず、誤って方向付けられる。偏向システムの複数ステージに信号を独立に加えることによって、画素の変更中に誤って方向付けられる粒子の数は低減される。 (もっと読む)


【課題】材料をエッチングするためにビーム活性化気体を使用する局所ビーム処理の方法および装置を提供すること。
【解決手段】ビーム誘起エッチングに適切な化合物が開示される。本発明は、リソグラフィ・マスクの上のクロミウム材料を電子ビーム誘起エッチングするのに特に適している。一実施形態では、ClNO2ガスなどの極性化合物が、石英基板上のクロミウム材料を選択的にエッチングするように、電子ビームによって活性化される。イオン・ビームの代わりに電子ビームを使用することによって、汚染およびリバーベッドなど、イオン・ビーム・マスク修復に関連する多くの問題が排除される。端点検出は必須ではないが、その理由は、電子ビームおよび気体は、基板を著しくエッチングしないからである。 (もっと読む)


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