物体（２１０）を保持するためにサポート構造（３００）を含むリソグラフィ装置が開示される。物体は露光されるパターニングデバイスまたは基板であってよい。サポート構造は、物体が上で支持されたチャック（３２１）と、チャックおよびステージ（２３０）に対して垂直の剪断コンプライアント細長要素のアレイ（３２５）とを含み、それによって細長要素の第１端はチャックの第２表面に接触し、細長要素の第２端はステージに接触する。細長要素のアレイを用いることによって、ステージとチャックとの間の応力の移動は実質的に均一になり、結果的に応力によるチャックの変形中におけるチャックの第１表面に対する物体のずれの最小化となる。 （もっと読む）

【課題】バッファ液浸装置のための環境制御手段を提供する。
【解決手段】液体を含む液浸流体が外部環境から提供され、液浸リソグラフィ装置の環境チャンバを隔離するシステムが開示される。さらに、音響信号を送信及び／又は受信するトランスデューサを使用して、気体の流量及び／又は蒸気濃度を測定するシステムが開示される。 （もっと読む）

【課題】フレキシブル基板のリソグラフィプロセスの制御性を向上させ、フレキシブル基板がキャリジの露光領域の近傍にある場合にもパターンジェネレータを支持するキャリジの精密な走査運動が阻害されないようにする。
【解決手段】放射ビームを形成する照明系と、ビームをパターニングするパターンジェネレータと、フレキシブル基板の目標部分にパターンビームを投影してフレキシブル基板をパターニングする投影系と、フレキシブル基板の運動を制御する運動系とが設けられており、フレキシブル基板の目標部分はパターンビームによる露光中にもほとんど延伸せずにとどまる。 （もっと読む）

【課題】 投影システム、液体供給システム、及びリサイクルシステムを有する液浸リソグラフィ装置が開示される。
【解決手段】 投影システムは、基板テーブルによって支持された基板のターゲット部分にパターン付き放射ビームを投影する。液体供給システムは、投影システムと基板又は基板テーブルの間の空間に液浸液を提供する。リサイクルシステムは、液体供給システムから液浸液を収集し、液浸液を液体供給システムに供給する。リサイクルシステムは、液浸液から有機汚染物質を除去する繊維を含む。 （もっと読む）

【課題】特定の品質閾値に適合しない液浸流体を再生し、再生した液浸流体を再循環させる。
【解決手段】リソグラフィ装置は投影システム、流体取扱い構造、メトロロジーデバイス、及びリサイクル制御デバイスを含む。投影システムは、パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分に投影し、基板は基板テーブル上に支持される。流体取扱い構造は、液浸流体を投影システムと基板及び／又は基板テーブルとの間の空間に提供する。メトロロジーデバイスは、液浸流体のパラメータを監視する。リサイクル制御デバイスは、メトロロジーデバイスによって示された液浸流体の品質に基づいて、流体取扱い構造で再使用される、あるいは再生されるように液浸流体のルーティングを調整する。 （もっと読む）

【課題】 リソグラフ処理の間、基板を支持する可撓性チャック（１００）を提供する。
【解決手段】 可撓性チャックは、電極層（１１６）、電極層に配置された圧電層（１１０）、および圧電層上に配置された基板支持層（１１１）を備える。電極層を通して、圧電層に電気的信号を提供することによって支持層は屈曲され得、それによって可撓性チャックに配置された基板の表面形態を、変化させる。接触層は、突起部を含み得、この突起部の各々は、電極層内のそれぞれの電極に対応する。別の基板支持体および接地層が提供され得る。本発明に従う可撓性チャックは、真空チャックであり得る。また開示されるのは、本発明に従う可撓性チャックにおける形態変化をモニタリングするための方法である。 （もっと読む）

【課題】光ビームのダイバージェンスを測定する。
【解決手段】光学素子は、該光学素子上への入射角を変化させながら、スキャンされた放射ビームの少なくとも１部の内部反射を提供するよう構成されている。この光学素子は、表面プラズモン共鳴（ＳＰＲ）効果をもたらすよう構成されたフィルムを有する。検出器は、光学素子から反射された放射を電気的に検出するよう光学素子に対して配置されている。放射ビームの発散角は、入射角に対する反射率の変化に基づいて計算される。 （もっと読む）

【課題】照明ビームの偏向角を高精度で測定する。
【解決手段】化学線波長での表面プラズモン共鳴効果を示すよう構成されたグレーティングセンサを用いて、拡大された連続的な角度範囲に対して照明ビームの偏向角が高精度で測定される。この放射ビーム測定システムおよび方法は、マスクを用いたリソグラフィツールおよびマスクレスリソグラフィツールの両方に適用可能である。制御システムは、ＳＰＲ効果が検出されたか否かに基づいて、適切な較正アルゴリズムを採用する。ＳＰＲの影響を受けた回折次数の相対的な強度シフト、および／またはＳＰＲ効果の影響を受けていない回折次数の相対的な位置および傾斜の変化が、採用された較正アルゴリズムの基礎として用いられる。 （もっと読む）

【課題】測定スケール部が測定中のデバイスに直接に関連付けられていないエンコーダを使用するシステム等を提供する。
【解決手段】システム及び方法を用いてデバイスのパラメータ（例えば、角度、位置、向きなど）が決定される。第１の部分は、デバイスの反射部分に反射するように誘導される放射ビームを生成するように構成された放射源を含む。第２の部分は第１の部分に結合され、反射したビームが測定デバイスを透過して検出器に達するように測定デバイスとオプションとして検出器とを含む。デバイスのパラメータが反射したビームと測定デバイスの相互作用に基づいて決定される。一例では、第１及び第２の部分はリソグラフィ装置内のスキャンミラーの角度又はステージの向きを測定する折返し光学エンコーダを形成することができる。 （もっと読む）

基板上にパターンを書き込むためのシステムおよび方法が提供される。極端紫外線（ＥＵＶ）放射の第１および第２ビームが生成される。露光ユニットは、基板上に第１および第２ＥＵＶ放射ビームを投影するために使用される。第１および第２放射ビームは互いに干渉して、基板の露光フィールドで第１組の平行線を露光する。
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