【課題】動作中、屈折率が水のそれより高い浸漬液を含み含有される粒子の凝集のおそれがないリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】ステッパまたはスキャナとして用いられる投影露光型のリソグラフィ装置において、水よりも屈折率が高い液浸液として、１つまたは複数のハロゲン化アルカリ金属、例えばフッ化アルカリ金属、塩化アルカリ金属、臭化アルカリ金属、の水溶液を用いるものであり、その屈折率が１．５以上のものであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶリソグラフィに関連するサイズ範囲のパーティクルを分解することができ、かつ、受け取った任意のパターンデータに基づいて動的に調整することができるパーティクル汚染を検出する方法およびシステムを提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置におけるパーティクル汚染を検出する検出システムは、パターニングデバイスの表面のセクション上に放射ビームを導き、パターン付き放射の少なくとも第１の成分および第２の成分を生成する照明システムを含む。第１のディテクタは第１の成分を検出するよう構成される。フィルタは検出された第１の成分に基づいて第２の成分を適応的に変化させるよう構成され、第２のディテクタはフィルタリングされた第２の成分を検出するよう構成される。結像デバイスは、検出された第２のフィルタリングされた成分に対応する像を生成し、この像はパターニングデバイスの表面上のパーティクルのおおよその位置を示す。 （もっと読む）

【課題】放射線ビームをパターン化するために使用する個々に制御可能な素子のパターニング・アレイを垂直でない方向に照明するため放射線ビームを向けるのに使用するシステムおよび方法を提供すること。
【解決手段】個々に制御可能な素子は、放射線ビームのテレセントリック性を変えることができる。個々に制御可能な素子上への放射線ビームの投影は、凹状ミラーにより、または個々に制御可能な素子の対象物フィールド内に設置した折り畳みミラーを使用して行うことができる。別の方法としては、個々に制御可能な素子は、放射線ビームの光軸を変えることができる。 （もっと読む）

【課題】中心オブスキュレーションがない高開口数（ＮＡ）の反射屈折対物系、及びそのアプリケーションを開示する。
【解決手段】このような対物系は、深紫外線（ＤＵＶ）放射を含む放射の広いスペクトルバンド幅で作用することができる。反射屈折対物系の屈折要素は、１タイプの材料（例えばＣａＦ₂及び／又は溶融石英など）から製造できることが重要である。また、このような反射屈折対物系の要素は光軸に対して回転対称である。反射屈折対物系は、（１）偏光ビームスプリッタ（第一偏光放射を通過させ、第二偏光放射を反射する）を使用する、及び／又は（２）１つ又は複数の折り畳みミラーを使用して、オフアクシス放射を反射屈折対物系の瞳内へと誘導することによって、中心オブスキュレーションを解消する。例示的反射屈折対物系が図２に図示されている。 （もっと読む）

ロボットは、リソグラフィ装置の真空チャンバ内で対象物を位置決めする。ロボットの第１コンポーネントは、並進軸に沿って対象物を位置決めするために真空チャンバ内に配置される。シャフトは、シャフトの対称軸が並進軸に対して垂直になるように第１コンポーネントを支持し、第２コンポーネントは、対称軸の周りでシャフトを回転させ、かつシャフトを対称軸に対して平行方向に移動させる。第２コンポーネントは、シャフトの外周面に沿ってガスを導入するように構成されたガスベアリングと、第２コンポーネントガスベアリングによって導入されたガスを排気するように構成された排出シールとを含む。ロボットは、炭化水素分子のガス放出を約０〜２００ａ．ｍ．ｕ.の範囲に実質的に減少または除去し、よってロボットは極端紫外線（ＥＵＶ）フォトリソグラフィ用途での使用に適する。 （もっと読む）

【課題】粒子の発生又は長期のガス放出に関してシステムへの影響が最小限の状態で、真空内ロボットのキャリブレーションを全自動化し、レチクルの移送中の位置合わせ不良による反復的な粒子発生を最小化するキャリブレーション結果を生成することができるシステム及び方法。
【解決手段】最小の粒子発生及びガス放出の状態で、リソグラフィツール内の移送ステーションにレチクルをハンドオフするロボットの位置を正確にキャリブレーションするために、ロボット位置キャリブレーションツール（ＲＰＣＴ）を使用する。最小のセンサ使用及び最小のペイロードの滑りでロボットをキャリブレーションし、リソグラフィツールの真空チャンバ内の粒子発生及びガス放出を最小化する方法、システム及びコンピュータプログラムプロダクトについて説明する。 （もっと読む）

【課題】改良された多重露光パターニング技術、及び／またはリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】２つのパターニングデバイスを基板に同時に露光するリソグラフィ装置及び方法が開示される。一実施形態においては、リソグラフィ装置は、パルス放射ビームを受けて調整する複数の照明系と、パルス放射ビーム源と照明系との間に設けられ、放射ビームのパルスを各照明系に交互に向けるビームダイレクタと、各々が調整された放射ビームの断面にパターンを付与しパターン付き放射ビームを形成する複数のパターニングデバイスを保持する支持テーブルと、各パターン付き放射ビームを一致させて基板の目標部分に投影する投影系と、を備える。一実施形態においては、基板は相変化材料に被覆されている。 （もっと読む）

光学素子を支持する装置が提供される。この装置は、レンズセル（１００３）とレンズセルに結合される複数のフィンガ（１０００）を含む。各フィンガは、内部に取付けられた光学素子に結合するように構成された基部（１０１２）と、第１の各々の端において基部（１０１２）に結合されかつ基部（１０１２）から約７５度と約１６５度の間の分岐角で延在する第１屈曲部（１００６ａ）および第２屈曲部（１００６ｂ）と、第１および第２屈曲部の第２の各々の端と共に結合されるように構成された取付け部材（１００８）を含む。取付け部材は、それにより、基部（１０１２）をレンズセル（１００３）に結合する。 （もっと読む）

複数の回折素子から形成されるアライメントフィーチャを有するアライメントターゲットを含むパターニングデバイスであって、各回折素子は吸収積層体および多層反射積層体を含む、パターニングデバイスが提供される。回折素子は、プリ・アライメントに使用される波長の光で照射される際に、プリ・アライメントに使用される所定の回折次数を増加させ、かつプリ・アライメントシステムの所定の方向に光を回折するように構成される。回折素子は、各アライメントフィーチャの面積の少なくとも半分を占めてよい。回折素子は、レチクルのアライメントに使用される波長で照射される際に、一次回折またはより高次の回折を増加させ、一方０次回折次数および鏡面反射を実質的に減少させるように構成され得る。各回折素子の寸法は、各アライメントフィーチャの回折格子周期に依存し得る。 （もっと読む）

最小限の粒子汚染およびガス放出で真空リソグラフィシステムにおいてレチクルを移動および高官するための方法および装置が提供される。方法の一例では、回転式交換デバイス（ＲＥＤ）の第１のアームが、第１のレチクルを保持する第１のベースプレートを受け取る。ＲＥＤの第２のアームが、第２のベースプレートを支持およびバッファリングする。第１および第２のベースプレートは、ＲＥＤの回転軸から実質的に等距離に位置付けられる。 （もっと読む）