表面測定用の流体近接センサである。この流体近接センサは、測定ノズル（２０５）を備える測定チャンバ（２１０）と、基準ノズル（２２５）を備える基準チャンバ（２２０）と、基準チャンバと測定チャンバとの間のインターフェイスを形成するダイアフラム（２１５）を有する。測定ノズルおよび基準ノズルを取り囲むシュラウド（２８０）によって、シュラウドと測定されている加工面２９０との間の周辺ギャップ（２９５）が設けられる。部分真空源または部分流体源をシュラウドに接続することによって、シュラウドの内圧を上昇または低下させることができ、それによって、近接センサのゲイン−周波数動作レジームが最適化される。差圧変化に応じたダイアフラムの動きは、光学的、容量性、または誘導性手段（２７５）によって検知することができる。 （もっと読む）

【課題】強度積分を離散化することの可能な均一性補正方法を提供すること。
【解決手段】本発明のシステムは照明光学系、光機械式補正システム、コントラスト装置、投影光学系およびこの投影光学系に接続された補正モジュールを有する。補正システムはフィンガのような調整可能部材を含む。補正モジュールは、部材への調整を決定して均一性を補正するように構成されている。連続の強度積分を離散化する方法も提供される。照明スロットは複数のグリッド点を有するグリッドに分割される。つぎに「ひとみ」はグリッドに重ね合わされる。複数の第２グリッドも定められる。各「ひとみ」は第２グリッドにマッピングされ、第２グリッド中心と「ひとみ」中心とが一致する。つぎに連続の強度積分が、第１のグリッド、複数の第２グリッドおよび「ひとみ」マッピングの使用により、離散化される。 （もっと読む）

【課題】変更可能な部分干渉性及びフィールドサイズを有するマイクロリソグラフィー系を提供する。
【解決手段】該マイクロリソグラフィー系は、照明源、対物レンズ側からの順序で、（ａ）前記照明源からの照明を受光する第１の回折光学部材、（ｂ）ズームレンズ、（ｃ）第２の回折光学部材、（ｄ）コンデンサレンズ、（ｅ）リレーレンズ、（ｆ）レチクルを含む照明光学系、及び基板上に前記レチクルを結像する投影光学系からなり、前記マイクロリソグラフィー系がズーミング可能な開口数を提供する。 （もっと読む）

オブジェクト検査のための、特に、リソグラフィプロセスで使用されるレチクルの検査のためのシステムおよび方法が開示される。当該方法は、基準放射ビームをプローブ放射ビームと干渉法により合成することと、それらの合成視野像を記憶することと、を含む。そして、１つのオブジェクトの合成視野像を、基準オブジェクトの合成視野像と比較して差を求める。これらのシステムおよび方法は、欠陥に関するレチクルの検査において特定の有用性を有する。 （もっと読む）

【課題】折り畳んだパルス引き伸ばしデバイスがレーザビームの高いエネルギ密度によって引き起こされる光学系への損傷を減少させる。
【解決手段】パルスストレッチャー５０２は、入力光ビーム３０８を第１のビームと第２のビームに分割するように構成されたビームスプリッタ３０６、第１及び第２の共焦点ミラー３０４Ａ、３０４Ｂを含む共焦点共振器、及び折り畳みミラー３２０を含む。第１のビームの光学遅延の後に、第１のビームの少なくとも一部を第２のビームと再結合して修正ビームにするように光学構成される。第１のビームの焦点５１４が折り畳みミラー３２０から離れた距離に形成されて、折り畳みミラー３２０に対するエネルギ密度関連の損傷を防止するように、ビームスプリッタより前の入力光ビームの光路内に１つ又は複数の光学要素をさらに含む。 （もっと読む）

【課題】ダブルパターニングプロセス中に基板の位置合わせをする方法を説明する。
【解決手段】少なくとも１つのアライメントマークを含む第１のレジスト層を基板上に形成する。この第１のレジスト層を現像した後、第１のレジスト層の上に第２のレジスト層を堆積し、それによって平坦な上部面を残す（すなわちトポグラフィがない）。第２のレジスト層を適切にベークすることによって、対称アライメントマークを第２のレジスト層内に、第１のレジスト層内のアライメントマークからのオフセットエラーなく、またはほとんどなく形成する。第２のレジスト内に形成されるアライメントマークの対称性は、第１および第２のレジスト層のそれぞれの厚さ、被覆プロセスパラメータ、およびベーキングプロセスパラメータを適切に調整することによって向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】 均一性補正システムを含むリソグラフィ装置が開示される。
【解決手段】システムのフィンガーは、放射ビームのそれぞれの部分の強度を補正するために放射ビームとの交点の内側へ、また外側へ移動可能であるように構成される。システムは、フィンガーのうちの対応するフィンガーに結合され、対応するフィンガーを移動させるように構成された作動デバイスをさらに含む。各フィンガーの先端の幅は、作動デバイスの幅の約半分である。 （もっと読む）

【課題】ダブルパターニングシステムにおけるアライメント欠陥を克服するための方法およびシステムを提供する。
【解決手段】ダブルパターニングプロセスを使用して半導体ウェーハが位置合わせされる。第１の光学特性を有する第１のレジスト層が堆積され、かつ、少なくとも１つのアライメントマークが形成される。第１のレジスト層が現像される。第１のレジスト層の上に第２の光学特性を有する第２のレジスト層が堆積される。第１および第２のレジスト層ならびにアライメントマークの組合せは、アライメントマークに入射する所定の波長の放射によって、第１および第２の光学特性の関数としての第１の次数またはより高い次数の回折が生成される特性を有している。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置のためのアライメントシステムを提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、狭帯域放射を連続する平らな広帯域放射に変換するように構成された放射源を含んだアライメントシステムを有している。音響学的波長可変狭通過帯域フィルタが広帯域放射を狭帯域直線偏光放射にフィルタリングしている。この狭帯域放射は、ウェーハのアライメントを可能にするために、ウェーハのアライメントターゲット上に集束させることができる。一実施形態では、フィルタは、放射源によって生成される放射の強度および波長を変調し、かつ、複数の同時通過帯域を有するように構成されている。放射源は、高い空間的コヒーレンスおよび低い時間的コヒーレンスを有する放射を生成する。 （もっと読む）

フーリエフィルタリングおよびイメージ比較を用いるマスク検査システムは、第１ディテクタと、動的フーリエフィルタと、コントローラと、第２ディテクタとを含んでよい。第１ディテクタは、検査システムのフーリエ面に配置され、かつマスクの領域によって生成されるパターン付き光の第１部分を検出することができる。動的フーリエフィルタは、パターン付き光の検出された第１部分に基づいてコントローラによって制御されてよい。第２ディテクタは、マスクの一部によって生成され、かつ動的フーリエフィルタを透過したパターン付き光の第２部分を検出することができる。さらに、マスク検査システムは、パターン付き光を別のパターン付き光と比較するためにデータ解析デバイスを含むことができる。結果的に、マスク検査システムは、マスクの領域上のあらゆる可能な欠陥をより正確にかつより高い解像度で検出することができる。 （もっと読む）