【課題】レチクルの膨張変化を減少させるようにレチクルにわたる温度変化を減少させる装置および方法を提供する。
【解決手段】減少した温度変化を実現するための一方法は、レチクル全体にわたって均一なバックフィルガス圧を提供することよりも、分配トレンチおよび壁（例えば、流量制限ダム）を用いて加圧バックフィルガスによって内部空間を充填することである。別の方法では、内部空間の外周は、レチクル材料に対する膨張と温度との機能的関係に基づいてレチクルにわたる膨張変化を減少させるように選択されてよい。任意または代替の方法では、レチクルにわたる減少した温度変化は、流体で冷却されたチャック内の空洞をバックフィルガスによって選択的に充填させることによって得ることができる。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ処理に有用な光ビーム出力強度の平準化を提供する。
【解決手段】光ビームのエネルギをパルス間で平準化するシステムは、３次の非線形特性を有する光学デバイスを含む一群の光学デバイスを備える。一群の光学デバイスを通過する未平準化光ビームの透過特性は、光学デバイスからの出力光ビームの出力強度が平準化されるように変化する。一実施例の構成は、ビームスプリッタ、非線形干渉フィルタ、ミラー、及びビームコンバイナを含む。非線形干渉フィルタで反射された光ビームの第１の部分が光ビームに結合され、結合光ビームは平準化された出力強度を有する。他の実施例は、ビームステアリングシステムを構成する第１のプリズム及び第２のプリズムを少なくとも備える。リソグラフィシステム、及び、光ビームのエネルギをパルス間で平準化する方法も提供される。 （もっと読む）

【課題】光ウィンドウを使用して別の環境に置かれた物体の結像の最高性能の実現を容易にする。
【解決手段】光ウィンドウは、パーティクル検出システム内に位置することができ、パーティクル検出システムは、第１環境と第２環境との間にあるセパレータを含む。セパレータは、開口と、開口内に配置された光エレメントとを含む。物体が第２環境に配置される。対物レンズが第１環境に配置される。ディテクタが第２環境に配置され、物体の表面上のパーティクルを検出するように構成される。 （もっと読む）

【課題】クランプ−物体インターフェースでのグリップを増加および／または最大にすることができるサポート構造を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置内の交換可能な物体（例えば、パターニングデバイス）を位置決めするサポート構造。サポート構造は、チャックと、チャック上で第１方向にお互いから間隔を空けて配置された少なくとも２つのクランプ機構とを有する。各クランプ機構は物体を支持しかつ物体に局所的クランプ力を加えて物体を保持するように構成された複数の真空部分を有する。真空部分間の離隔は第1方向とは異なる第２方向である。真空部分はお互いに対して移動してよい。各真空部分は、真空圧を伝達させて物体を適切な位置に保持するためにチャネルを含んでよい。クランプ機構の剛性は、各クランプ機構と物体とのインターフェースにおける応力および／または滑りを減少および／または回避する。 （もっと読む）

【課題】広スペクトル範囲で動作可能な反射屈折光学システムを提供する。
【解決手段】一実施形態では、反射屈折光学システムは、放射を反射するように位置決めされかつ構成された第１の反射面と、第１の反射面から反射された放射を平行ビームとして反射するように位置決めされかつ構成された第２の反射面であって、第２の反射面を通る放射の透過を可能にするアパーチャを有する第２の反射面と、アパーチャから第１の反射面に向かって延在し、第１の反射面と第２の反射面との間に第１の反射面に放射を供給するアウトレットを有するチャネル構造とを含む。 （もっと読む）

【課題】広角光学システムを用いて検査用システムおよび方法が提供される。
【解決手段】光学システムは広角入力レンズ群および出力レンズ群を含む。広角入力レンズ群は、物体面から例えば６０度以上の角度広がりを有する広角放射を受けかつ像を形成可能な放射を生成するように構成される。広角入力レンズ群は、広角入力レンズ群内またはその後に中間合焦像が形成されないように構成される。出力レンズ群は、広角入力レンズ群から像を形成可能な放射を受けかつ像を形成可能な放射を像面上に合焦させて物体面の少なくとも一部の像を形成するように構成される。ディテクタは、物体面の少なくとも一部の像を受け、受けた像に基づいて、例えば物体面上の汚染を検出する。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置における汚染のリスクを低減または除去する。
【解決手段】リソグラフィ装置のコンポーネントを汚染された気体から隔てるために、ガスカーテンが設けられている。ガスカーテンは開口部によって供給される。開口部は、保護環境の境界にあり、その保護環境にコンポーネント表面が接している。ガスカーテンはコンポーネントをリソグラフィ装置の移動部分から隔ててもよい。 （もっと読む）

【課題】基板の近くから液体を効果的に除去し、振動および他の外乱を起こさない装置を提供すること。
【解決手段】不均一な流れを均一にするために、浸漬リソグラフィ投影装置の液体除去システムで、多孔性部材を使用する。多孔性部材の両端の圧力差は、多孔性部材の泡立ち点以下に維持することができ、そのため一相の液体の流れを得ることができる。これに代えて、多孔性部材を、二相流内の不均一を低減するために使用することもできる。 （もっと読む）

【課題】液体除去性能が良好な装置を提供することである。
【解決手段】液浸リソグラフィに有用で、基板の上面などの表面を乾燥する、かつ／または濡らす新しい方法が開示される。表面が単相抽出器の下に配置され、プライミング液が単相抽出器と表面の間に送出される。単相抽出器は、プライミング液が単相抽出器と表面の間に提供された後でのみ作動する。プライミング液は、乾燥および／または濡らすプロセスの全体で単相抽出器に送出される。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置内の交換可能物体を位置決めするサポート構造を提供する。
【解決手段】サポート構造は、物体を支持およびクランプするチャックと作動構造とを有する。作動構造は、第１作動構造１６（例えば、バネ）および第２作動構造１８（例えば、リニアアクチュエータ）を有してよい。第１作動構造１６は、チャックに対して移動可能であり、第２作動構造１８を物体の側面と接触する第１位置と物体の側面と接触しない第２位置との間で移動させるように構成されている。第２作動構造１８は、その少なくとも一部を第１作動構造１６に対して物体の側面と接触する第１位置と物体の側面と接触しない第２位置との間で移動させ、かつ押力を物体の側面に加えるように構成されている。 （もっと読む）