リソグラフィシステムのレチクルステージ（ＲＳ）上にパターニングデバイス（１０１０）をロードする方法、リソグラフィシステムのレチクルステージ（ＲＳ）上にパターニングデバイス（１０１０）をロードするように構成された高速交換デバイス（ＲＥＤ）、半導体デバイスをリソグラフィで製造するためのシステムを提供する。方法は、レチクルステージ（ＲＳ）とＲＥＤとの間の６自由度の間でコンプライアンスを共有することを含む。レチクルステージ（ＲＳ）とパターニングデバイス（１０１０）とが実質的に接触しかつ同一平面上にあるまで、ＲＥＤは第１の３自由度のみに適合し、レチクルステージ（ＲＳ）は第２の３自由度のみに適合する。 （もっと読む）

【課題】光学リソグラフィの解像度を向上させるためのダブルパターニング法などのリソグラフィパターニング法において、アライメントマークのコントラストを改善すること。
【解決手段】第１または第２リソグラフィパターンに色素を付加するリソグラフィダブルパターニングプロセスを伴う、半導体デバイスをリソグラフィにより製造するシステムおよび方法、ならびに製造物が提供される。第１リソグラフィパターンの位置を検出するとともに、それに第２リソグラフィパターンを直接位置合わせするために色素が使用される。この日は、特定の波長または所与の波長帯域において蛍光性、発光性、吸収性、または反射性とすることができる。この波長は、アライメントビームの波長と一致することができる。色素は、第１リソグラフィパターンを、それが放射感応層（例えばレジスト）で上塗りされている場合でも検出できるようにする。 （もっと読む）

【課題】複数の放射ビームを生成する照明源を使用し、放射ビームは個別にパターン付与されて基板上に投影しても強度特性等を一様化する。
【解決手段】放射ビームからの少なくとも一部のコヒーレンスを実質的に均一化し除去するために、ホモジナイザ１００とコヒーレンス除去器１０２とを備える光学装置が提供される。ホモジナイザは、放射ビームを複数の放射ビームに変換するように構成される。コヒーレンス除去器は、放射ビームのそれぞれがコヒーレンス除去器の異なるチャネルを通過するように構成される。別の実施形態では、コヒーレンス除去器は放射ビームを複数の放射ビームに変換し、複数の放射ビームがホモジナイザに渡される。 （もっと読む）

【課題】基板の近くから液体を効果的に除去し、振動および他の外乱を起こさない装置を提供すること。
【解決手段】不均一な流れを均一にするために、浸漬リソグラフィ投影装置の液体除去システムで、多孔性部材を使用する。多孔性部材の両端の圧力差は、多孔性部材の泡立ち点以下に維持することができ、そのため一相の液体の流れを得ることができる。これに代えて、多孔性部材を、二相流内の不均一を低減するために使用することもできる。 （もっと読む）

【課題】液浸リソグラフィ装置の屈折率が高い炭化水素を含む液浸流体に適した、流体ハンドリングデバイスを提供する。
【解決手段】流体ハンドリングデバイスは、流体用の空間を囲む表面がある少なくとも１つの本体１２と、流体が自身を通って流れるために表面内に画定された複数の開口１４０と、複数の開口１４０のうち選択された開口１４０を通る流体の流れを選択的に許可又は防止するために複数の開口１４０に対して移動可能な少なくとも１つのバリア１７０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】液体浸漬フォトリソグラフィシステムにおいて、液体の速度プロフィルを均一にし、光ひずみを防止することである。
【解決手段】電磁放射で基板１０１を露光する露光システムが、電磁放射を基板上に集束させる投影光学系１００を有しており、投影光学系１００と基板１０１との間に液体流１０７を提供する液体供給システムが設けられており、基板と投影光学系との間に液体流の実質的に均一な速度分布を提供するために投影光学系の縁部に沿って配置された複数のマイクロノズル４１６が設けられている。 （もっと読む）

【課題】レチクルステージの移動中のレチクル滑りを実質的に除去するシステムおよび方法を提供する。
【解決手段】システムは、マスク保持システム、マスク力デバイス、サポート移送デバイスを含む。マスク保持システムは、サポートデバイスおよび保持デバイスを含み、保持デバイスはマスク、例えば、パターンを有するレチクルなどのパターニングデバイスをサポートデバイスに取外し可能に結合する。マスク力デバイスは、リソグラフィ装置内の投影光学系が放射ビームを用いて基板のターゲット部分上にパターニングデバイスによって付与されるパターンを正確に投影できるように、加速力をマスクに提供するためにマスクに取外し可能に連結されている。サポート移送デバイスは、マスクサポートデバイスに結合され、かつマスク力デバイスと同時にマスクサポートデバイスを移動させる。 （もっと読む）

【課題】液体浸漬フォトリソグラフィシステムにおいて投影光学系とウェハとの間に液体を閉じ込めるための単純なシステム及び方法を提供する。
【解決手段】基板１０１を電磁放射で露光しかつ電磁放射を基板上に集束させる投影光学系１００を有する露光系と、投影光学系１００と基板１０１との間に液体を提供する液体供給系とが設けられており、投影光学系が基板の下方に位置決めされている。 （もっと読む）

【課題】液体浸漬フォトリソグラフィシステムにおいて投影光学系とウェハとの間に液体を閉じ込めるための単純なシステム及び方法を提供する。
【解決手段】基板１０１を電磁放射で露光しかつ電磁放射を基板上に集束させる投影光学系１００を有する露光系と、投影光学系１００と基板１０１との間に液体を提供する液体供給系とが設けられており、投影光学系が基板の下方に位置決めされている。 （もっと読む）

【課題】基板の近くから液体を効果的に除去し、振動および他の外乱を起こさない装置を提供すること。
【解決手段】不均一な流れを均一にするために、浸漬リソグラフィ投影装置の液体除去システムで、多孔性部材を使用する。多孔性部材の両端の圧力差は、多孔性部材の泡立ち点以下に維持することができ、そのため一相の液体の流れを得ることができる。これに代えて、多孔性部材を、二相流内の不均一を低減するために使用することもできる。 （もっと読む）