【課題】球状色収差補正によって、低費用で波長ずれの影響を最小化するための半導体検査システムおよび方法を提供する。
【解決手段】本発明の実施形態に係る半導体検査システム４００は、所与の波長で光を伝送するように構成された照明システム４１０と、その照明システム４１０から光を受けて表面へ所与の波長で光を伝送するように構成された光学システム４２０，４３０とを含む。この光学システムは、半導体検査システムの球状色収差がユーザ定義の許容範囲を満たすように、半導体検査システムの公称波長を変化させて照明システムの照明波長と一致させるように移動可能な少なくとも１枚のレンズ４２２（例えばズーミング可能なレンズ）を含む。 （もっと読む）

【課題】 真イメージングを使用した粒子検出のシステムおよび方法を提供すること。
【解決手段】 オブジェクト表面を検査するシステムおよび方法が開示される。一実施形態では、システムは、オブジェクト表面を照明する照明源と、照明されたオブジェクト表面からの散乱光を遮断して、オブジェクト表面の所望の領域の実像を投影する光学系と、投影された実像を受け取るセンサとを含む。実像を記憶および分析するために、センサにコンピュータシステムを結合することができる。一実施形態では、方法は、オブジェクト表面を照明ビームで照明すること、照明されたオブジェクト表面からの散乱光を遮断すること、およびオブジェクト表面の所望の領域の実像をセンサ上に投影することを含む。実像は、オブジェクト表面上にある粒子を検出するように処理することができる。このように、レチクル上の汚染物質または欠陥をインシチュ（ｉｎ−ｓｉｔｕ）で検出するシステムおよび方法が提供される。 （もっと読む）

【課題】 センサのコストおよび複雑さを最小化する一方で、測定の速さが向上する可能性のある正確な近接センサを提供することである。
【解決手段】 １つまたは複数の測定ノズルおよび基準ノズルを有する流体近接センサが、共通チャンバへ結合される。測定ノズルに結合されたダイヤフラムは、検出するための光学手段、容量性手段または誘導性手段によって検知され得る。さらに、必要とされる高度なトポグラフィ感度を維持する一方でディテクタに対して選択的にノズルを結合するように制御弁を使用することにより、圧力ディテクタの数を最少化することができる。さらに、測定ノズルの寸法は、精度、速さおよび類似の要件に応えて近接測定を最適化するように調整することができる。 （もっと読む）

【課題】スキャニング露光プロセスの間にパターンジェネレータの位置を制御する、ステージシステムに対するパターンジェネレータの滑りを実質的に低減又は排除するために使用されることができるシステム及び方法を提供する。
【解決手段】マスク保持装置３３０に結合された第１のパターン付マスク保持システム３３２が、マスクをマスク保持装置に解放可能に結合するようになっており、前記マスク保持装置に結合された第２のマスク保持システム３３４が、マスクをマスク保持装置に解放可能に結合するために、第１のマスク保持システムと同時に動作するようになっており、露光動作のスキャニング部分の間にパターン付マスク保持装置とマスクとを移動させる、マスク保持装置に結合された移動装置が設けられている。 （もっと読む）

反射レチクルは、ＥＵＶ放射の吸収から生じるパターン歪みを実質的に減少または除去する一方、業界基準と一致するレチクルの厚さを維持する。反射レチクルは、超低膨張（ＵＬＥ）ガラス層およびＵＬＥガラスの熱伝導率より実質的に大きい熱伝導率を有するコーディエライトの基板を含む。アルミニウム層はＵＬＥガラスの第１表面上に配置され、かつＵＬＥガラスの第２表面は実質的に平坦および欠陥を有さないように研磨される。コーディエライト基板は、陽極結合を用いてアルミニウム層に直接結合されて反射レチクルを形成することができる。あるいは、中間ゼロデュア層の第１表面をアルミニウム層に結合し、第２アルミニウム層を用いてコーディエライト基板をゼロデュア層の第２表面に陽極結合し、それによって反射レチクルを形成することができる。 （もっと読む）

【課題】露光フィールド毎にレチクルステージおよびウェハステージの方向を変える必要なしに、基板の幅にわたって高解像度のパターンを生成することができるシステムを提供する。
【解決手段】パターンを基板に書き込むためのシステムおよび方法が提供される。パターン形成された放射ビームがレチクルを使用して生成され、パターンを露光するために基板に投影される。パターンが走査方向において基板の全幅にわたって露光されうるように、レチクルおよび基板のそれぞれの走査速度が制御される。一方で、ウェハのスループットが実質的に増大する。 （もっと読む）

【課題】アクチュエータコイルの内層から効果的に熱を排出する。
【解決手段】アクチュエータコイルの内層からそのコイルの外部へと効果的に熱を排出するために、アクチュエータコイル近傍に配置された伝熱素子が使用される。一実施例においては、アクチュエータコイルの伝熱装置は、アクチュエータコイルの１つまたは複数の層または１つまたは複数の巻線の近傍に配置された１つまたは複数の伝熱素子と、伝熱素子及びアクチュエータコイルの近傍に配置された冷却表面と、を備える。この構成において伝熱装置は、アクチュエータコイルの内層から冷却表面へと熱を移送し、更にはアクチュエータコイルの外部領域へと熱を移送する。 （もっと読む）

【課題】摩擦を比較的低レベルとし剛性を比較的高レベルとしつつ光学デバイスの１つまたは複数の光学素子を高精度かつ高信頼性に位置決めするシステムを提供する。
【解決手段】位置決めシステムは、可変ズームレンズシステム等の光学デバイス内の光学素子の位置を調整する。フレームが光学素子を支持し、細長支持構造の細長表面がそのフレームを支持する。フレームは細長支持構造に係合する圧電アクチュエータも支持する。制御部は圧電アクチュエータを駆動する制御信号を供給する。駆動されたアクチュエータモジュールの圧電素子は、細長支持構造の細長表面に第１及び第２の力を組み合わせて作用させ、細長表面に対しフレームを位置決めする。圧電素子により与えられた力の組合せによって、細長支持構造に対し圧電アクチュエータが前進する。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィツールのプロセスエラーを補償するシステム、方法、及びコンピュータプログラムを提供する。
【解決手段】この方法は３つのステップを含むことができる。第一に、第一センサがウェーハの上面を感知して、ウェーハの第一表面の第一トポグラフィマップを画定する第一センサデータを提供する。第一センサは、例えばエアゲージである。第二に、第二センサが第一センサと並列にウェーハの上面を感知して、ウェーハの第一表面の第二トポグラフィマップを画定する第二センサデータを提供する。第二センサは、例えば光センサ又は容量センサである。第三に、較正モジュールが、第一及び第二センサデータに基づいて露光システムの焦点位置決めパラメータを較正する。較正モジュールは、ハードウェア、ソフトウェア、ファームウェア、又はそれらの組み合わせで実施することができる。 （もっと読む）

【課題】マスク・ベース・システムに比べてパターンがより迅速にかつより少ないコストで変更できるシステムを提供すること。
【解決手段】個別制御可能な要素の傾斜と位置が同時に調整されて、広い範囲のコントラストが達成可能となる。これは、個別制御可能な要素のカッピングを補償するのに用いることもできる。個別制御可能な要素の位置及び傾斜を共に同時に調整することは、値の範囲にわたって動作可能な２つの電極によって達成することができる。 （もっと読む）