難燃性であり、光学的に透明な熱可塑性成形組成物を開示する。この組成物は、芳香族ポリカーボネート樹脂、臭素置換カーボネートオリゴマー、リン含有化合物およびペルフルオロアルカンスルホン酸の無機塩を、ＵＬ−９４−５Ｖ標準において評価Ａ（３．００ｍｍ）およびＶ−０（１．５ｍｍ）の組成物難燃性が達成される量で含む。 （もっと読む）

本発明は、約１７５〜約４００のイソシアネート指数で、ポリイソシアネートと、ポリオールの重量を基準として少なくとも約３５重量％の天然油を含有し、約１７５〜約３７５のヒドロキシル価および約２．０〜約２．８のヒドロキシル官能価を有する少なくとも１つの天然油ポリオールとを、発泡剤、および必要に応じて、１以上の界面活性剤、難燃剤、顔料、触媒およびフィラーの存在下で反応させることを含む、硬質ポリイソシアヌレートフォームの製造方法を提供し、得られるフォームは、少なくとも８重量％の再生可能なバイオベース含有量を有する。本発明の方法により提供されるフォームは、石油系材料から製造されたフォームと同様の特性を有し、壁断熱または他の用途における使用を見出し得る。得られる高バイオベース含有量（＞８％）により、これらのフォームを含有する壁絶縁系は、米国政府の好ましい調達プログラムについて考慮され得る。 （もっと読む）

本発明は、ポリカーボネート−ポリオールに基づく新規な加水分解安定性ポリウレタン−ポリウレア水性分散体、その製造方法および被覆材料中でのその使用に関する。 （もっと読む）

本発明は、木製基材を被覆するための方法、３２０ｎｍ〜４５０ｎｍの波長を有する放射線により硬化可能な被覆組成物、およびそのようにして製造された被覆生成物を対象とする。 （もっと読む）

それぞれ厚さ２０〜４０ミリメートルのパネルを含む複数のユニットを備える耐ブラスト性バリアを開示する。このパネルは、ブラストソースとブラストターゲットとの間に垂直に配置される一体型ポリカーボネートシートまたはラミネートの形態であり、ラミネートは少なくとも２つのポリカーボネートシートおよびその間に挿入される任意のイメージ層を含む。パネルは、計算された方法でコンクリートにしっかりと埋め込まれて前記ブラストから生じる外力を吸収し、耐えるのに十分な剛性を提供するフレームに固定して取り付けられている。好ましい態様では、パネルは、互いにラミネートされた少なくとも２つのポリカーボネートシートを含み、要すればその間に挿入されたイメージ層を含んでいてもよい。別の態様では、フレームは、ターゲットにしっかりと固定されてターゲットの構造を通るブラスト力の散逸を可能にする。耐ブラスト性バリアの高さは、好ましくはターゲットの高さに釣り合う。 （もっと読む）

難燃性および耐衝撃性に優れる熱可塑性成形組成物を開示する。この組成物は、（Ａ）直鎖芳香族（コ）ポリカーボネート、（Ｂ）コア−シェルモルホロジーを有し、シェルが重合アルキル（メタ）アクリレートを含み、コアが相互浸透不可分ポリオルガノシロキサン成分とポリ（メタ）アルキルアクリレート成分とを含むグラフト（コ）ポリマー、（Ｃ）リン含有難燃化合物、（Ｄ）フッ素化ポリオレフィンおよび（Ｅ）ホウ素化合物、および任意にＳＡＮを含む。この組成物は、更に、ポリアルキレンテレフタレートを含まないことも特徴とする。 （もっと読む）

【課題】放射線硬化性被覆組成物及び、該被覆組成物で被覆された基材を提供する。
【解決手段】該組成物は、ａ）アミノ官能性ポリアスパルテート；ｂ）（シクロ）脂肪族ポリイソシアネート；ｃ）アクリレート官能性化合物；およびｄ）光開始剤を、被覆組成物の重量を基準として、ポリアスパルテート（ａ）とポリイソシアネート（ｂ）を合わせた量は該組成物の１５重量％〜７０重量％を構成し、アクリレート官能性化合物（ｃ）の量は該組成物の３０重量％〜８５重量％を構成し、および光開始剤（ｄ）の量は該組成物の０．３重量％〜１０重量％を含んでなる。 （もっと読む）

金属基材を直接被覆し、２００ｎｍ以上の波長を有するＵＶ放射線のような放射線源を用いて該被覆物を硬化する方法。さらに、本発明の組成物は、種々の金属基材へ直接に十分に結合しない被覆物のためのタイコートとして用いることができる。 （もっと読む）

【課題】低資本のポリマーポリオールの濾過技術が必要とされている。
【解決手段】本発明は、10重量%以上60重量%までの固形分、少なくとも0.6 μの平均粒度、および特定濃度の目詰まり粒子を含有するポリマーポリオールに関する。本発明はまた、これらのポリマーポリオールの製造方法に関する。 （もっと読む）

【課題】淡色ないし着色していないポリイソシアネートの原料となる、淡色のイソシアネートを提供する。
【解決手段】気相中でのアミンとホスゲンの反応において、出発アミンのＰＲＩ（ポーラログラフィにより還元可能な不純物）値を６０ｍｐｍ（モルパー百万モル）未満にする。反応ゾーンにおける反応は、２００℃を超え５７０℃以下、および０．８〜３ｂａｒの絶対圧力で行い、アミンまたはホスゲン供給ラインにおける圧力は反応ゾーンにおける圧力より２０〜２０００ｍｂａｒ高く、反応ゾーンの下流ゾーンにおける圧力は反応ゾーンにおける圧力より１０〜５００ｍｂａｒ低くする。 （もっと読む）