【課題】 精度の高い傾き調整機能付きプレス装置、傾き調整機能付きパターン形成装置、型の傾き調整方法を提供すること。
【解決手段】 加工対象物２００に転写するための所定のパターンが形成されている型１００と、加工対象物２００を保持するための対象物保持手段２０と、型１００を保持するための型保持部４１を一端に有すると共に、型１００のパターンが形成されている面の中心を中心点とする凸球面４６を有する型保持手段４０と、凸球面４６と当接する凸球面４６と同径の凹球面５５を有し、型保持手段４０を介して型１００を加工対象物２００に押圧する押圧手段５０と、凸球面４６を凹球面５５に対して自由な方向に変位させるための傾き調整手段６０と、を具備する傾き調整機能付きパターン形成装置を用いて、正確に型１００と加工対象物２００との相対的な傾きを調整する。 （もっと読む）

【課題】 離型性の良好な加工対象物保持具およびこれを具備する微細加工装置、微細加工用の加工対象物を提供すること
【解決手段】 所定のパターンを有する型１００と加工対象物２００とを押圧して、型１００のパターンを加工対象物２００に転写する微細加工装置において、加工対象物２００を保持する加工対象物保持具１２であって、加工対象物２００を保持する側に、Ｓｉの表面エネルギーより低い材料、例えば離型剤からなる、あるいは酸化膜処理又は窒化膜処理により形成された表面処理層１２２を具備する。 （もっと読む）

【課題】 ダブルＴ型マイクロチップのオフセットの長さに制約されずに、任意の量の試料を導入することができる試料導入装置および試料導入方法を提供すること
【解決手段】 電解質溶液供給部から供給された電解質溶液及び試料供給部から供給された電気泳動する試料５０の少なくともいずれか一方を、試料５０の分析を行う分析部側に流す主流路１１と、試料供給部の試料５０を主流路１１に供給する試料供給流路１２と、主流路１１から試料５０を排出する試料排出流路１３と、を有するダブルＴ型マイクロチップ１を用いて、所定量の試料５０を試料供給部から分析部に導入する試料導入方法であって、主流路１１、試料供給流路１２、試料排出流路１３に所定の電界を所定時間印加し、試料排出流路１３内の試料５０を主流路１１の分析部側へ移動させる。 （もっと読む）

【課題】 耐久性が高く、平面度の値が小さく、離型性の良い型およびその作製方法を提供すること。
【解決手段】 加工対象物２００の被成型面に押圧してパターンを転写するための型１００であって、第１の材料によって形成され、所定の平面度以下の平面１１を有する型本体部１と、第１の材料より耐久性の高い第２の材料によって平面１１に形成され、加工対象物にパターンを転写するためのパターン部２と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】 型のパターン面と加工対象物の被加工面の位置や、パターン面と被加工面の位置を変化させる変位速度をマイクロメートル、ナノメートルレベルでコントロールすることができる離型制御可能な加工装置を提供すること。
【解決手段】 所定のパターンを有する型１００と加工対象物２００とを押圧して、型のパターンを加工対象物に転写する加工装置であって、型１００と加工対象物２００との相対的な位置およびその位置を変化させる変位速度を調節可能な変位手段５と、型１００および加工対象物２００の少なくともいずれか一方に振動を加える加振手段６と、型１００と加工対象物２００との相対的な位置を検出する位置検出手段７と、型１００と加工対象物２００との間の圧力を検出する圧力検出手段８と、位置検出手段７および圧力検出手段８の検出情報に基づいて、変位手段５および加振手段６の作動を制御する制御手段３００と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】 小型で、壊れ難く、振動数を容易に調節することができる型可動装置、加工対象物可動装置及びこれらを用いた加工装置を提供すること。
【解決手段】 型１００を保持する型保持部２と、加工対象物を保持する加工対象物保持部と、を有し、型１００で加工対象物を加工する加工装置であって、型１００に接続される磁歪素子３と、磁歪素子３に対し、磁界を加える磁界付加手段４と、磁界付加手段４の磁界の大きさを調節する磁界調節手段５と、磁歪素子３の磁化状態を検出する磁化特性検出手段７と、磁化特性検出手段７が検出した情報に基づいて、磁歪素子に付加されている応力および磁歪素子の変位量の少なくともいずれか一方を計算する制御手段３００と、を具備する。 （もっと読む）

パターン形成装置では、金型１００によって基板２００にパターンを形成した後、金型１００を基板２００から離型させるに際し、金型１００に超音波振動を加えるようにした。また、基板２００の表層部のガラス転移温度Ｔｇ以上の温度Ｔ１に設定した金型１００を基板２００に押し付け、金型１００のパターンを転写した後、金型１００をガラス転移温度Ｔｇ以下の温度Ｔ２まで冷却した後、金型１００を基板２００から引き離す構成とすることもできる。
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パターン形成装置１０において、基板２００にパターンを形成するための金型１００を、基板２００の表層部のガラス転移温度Ｔｇ以上の温度Ｔ１に加熱しておき、その状態で、金型１００をガラス転移温度Ｔｇ以下の温度の基板２００に押し付け、金型１００のパターンを転写する構成とした。その後、ヒータを切り、冷却ブロックで金型１００を冷却した後、金型１００を基板２００から離すようにした。また、このようなパターン形成装置１０に対し、基板２００をマガジンから１枚ずつ取り出して順次供給する供給装置を備え、パターン形成システムを構成するのが好ましい。
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【課題】 精度の高い傾き検知方法および傾き検知装置、この方法および装置に用いる金型、この方法および装置を用いた傾き調整方法を提供すること。
【解決手段】 加工対象物２００の加工面２００ａと、加工面２００ａに所定のパターンを形成する金型１００のパターン面１００ａとの相対的な傾きを検知する傾き検知方法であって、総てが同一直線状に並ばないパターン面上の３以上の点と対向する静電容量型変位計８０を加工面２００ａを基準とする所定位置にそれぞれ配置し、金型１００と各静電容量型変位計８０とを近接させ、各静電容量型変位計によって金型との距離を測定し、加工面に対するパターン面の傾きを検知する。 （もっと読む）

【課題】 閉鎖環境における二酸化炭素濃度の上昇を抑制して、換気量を抑制する。
【解決手段】 二酸化炭素固定能力を増大させた植物を、二酸化炭素発生源が存在する閉鎖空間に備え、該閉鎖空間内の二酸化炭素濃度をモニタリングして得た測定値が既定値を超えた際に、二酸化炭素濃度を既定値以下になるまで閉鎖空間外の大気と閉鎖空間内の大気とを循環させることを特徴とする、当該閉鎖空間における二酸化炭素濃度制御方法及び二酸化炭素濃度制御システム。 （もっと読む）