【課題】窒化アルミニウムからなる物体の体積比抵抗を低減する方法及び静電チャックを提供する。
【解決手段】窒化アルミニウムからなる物体の体積比抵抗を、アルゴンからなる雰囲気のような、窒素が不足している雰囲気中で少なくとも約１０００℃の浸漬温度にその物体を曝すことにより低減される。物体は、多結晶質体のような緻密化された物である。静電チャックはチャック体内に電極１２を有する。電極１２の第１の面１４における、チャック体の第１の部分２０は約２３℃で約１×１０¹³ohm・cmより小さい体積比抵抗を有する。電極１２の第２の面１６における、物体の第２の部分２２は、第１の部分２０と１桁違う大きさの範囲内の体積比抵抗を有する。 （もっと読む）

絶縁層と、絶縁層の上にある導電層と、導電層の上にある誘電体層であって、連続多孔性を形成する細孔を有する誘電体層と、誘電体層の細孔に存在する硬化されたポリマー溶浸材とを備える、静電チャック。
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燃料電池（１０）は、酸素ガス源に流体連通している第１の電極（１４）、燃料ガス源に流体連通している第２の電極（１６）および第１の電極（１４）と第２の電極（１６）との間の固体電解質（２２）を各々が含む複数の副電池（１２）を含む。副電池（１２）はインターコネクト（２４）で互いに接続されている。インターコネクト（２４）は、各電池の第１の電極（１４）に接触している第１の層（２６）および各電池の第２の電極（１６）に接触している第２の層（２８）を含む。第１の層は、実験式Ｌａ_ｙＳｒ_{（１−ｙ）}Ｔｉ_{（１−ｘ）}Ｍｎ_ｘＯ_ｂによって表される（Ｌａ，Ｍｎ）Ｓｒ−チタネート系灰チタン石を含む。一実施形態において、第２の層は、実験式Ｓｒ_{（１−１．５ｚ−０．５ｋ＋δ）}Ｙ_ｚＮｂ_ｋＴｉ_{（１−ｋ）}Ｏ_ｄによって表される（Ｎｂ，Ｙ）Ｓｒ−チタネート系灰チタン石を含む。別の実施形態において、インターコネクトは、約１０μｍ−約１００μｍの間の厚さを有し、インターコネクトの第２の層は、実験式Ｓｒ_{（１−ｚ＋δ）}Ｌａ_ｚＴｉＯ_ｄによって表される（Ｌａ）Ｓｒ−チタネート系灰チタン石を含む。
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電気リード線を受け入れるための凹部を有する新規のセラミック加熱素子が提供される。かかるセラミック加熱素子は、１本又は複数の電気リード線と接する素子部分にわたる断面寸法の低減、並びに、電気リード線のより確実な係合をもたらすことができる。加熱素子は、ガス調理器具用の燃料点火装置並びに輸送機関用グロープラグを含め、様々な用途に極めて有用となり得る。
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導電性のコア部分が加熱素子の遠位端にある抵抗性の高温領域内まで延在し、それによって導電性のコア部分と抵抗性の高温領域との間の境界面が加熱素子の遠位先端から離れた、新規の同軸セラミック加熱素子及び製造方法。方法は、予成形するか、又は固化させた材料の領域を、１つ又は複数の流動性を有する材料の領域と一体に合わせるステップと、流動性を有する材料を硬化させるか、ゲル化させるか、乾燥させるか、又はその他の方法で凝固若しくは固化させるステップと、焼結することによって一体化した同軸加熱素子を形成するステップとを含む。
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半導体加工用部品は、炭化ケイ素で構成された外表面部分を有し、外表面部分は、スキン不純物レベルとバルク不純物レベルとを有する。スキン不純物レベルは、外表面部分中０ｎｍ〜１００ｎｍの深さの平均不純物レベルであり、バルク不純物レベルは、外表面部分中少なくとも３ミクロンの深さで測定され、かつスキン不純物レベルは、バルク不純物レベルの８０％以下である。
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抵抗性点火要素を信頼性よく囲む嵌合ブロック要素を含む新規な加熱システムが提供される。好ましい点火システムは、望ましくない水分およびその他材料が、点火要素のリード線部分と接触するのを防ぐ。
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【課題】オレフィン類のエポキシ化の際に有用な触媒担体を提供すること。
【解決手段】オレフィンエポキシ化用の銀系触媒の選択性と活性は、その触媒が堆積せしめられているアルミナ担体の細孔の孔径分布の関数であることが判明した。特に、非常に大きな細孔（１０μｍよりも大）を最小限で有し、吸水率が３５〜５５％であり、かつ表面積が少なくとも１．０ｍ²／ｇである担体を用意するのが有利であるということが判明した。このような触媒の製造方法もまた記載される。 （もっと読む）

改善された炭化ケイ素粒子、改善された炭化ケイ素研磨粒子および化学的機械的平面化（ＣＭＰ）法において用いるための研磨スラリー組成物において、粒子は、ナノサイズ炭化粒子、詳しくはシリカに似た化学的表面特性を有する炭化ケイ素粒子を含むことが可能である。
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水性媒体内に分散した、第１のタイプの粒子と第２のタイプの研磨粒子との混合物を含む改善されたスラリー組成物および化学的機械的平面化（ＣＭＰ）法において用いるための研磨スラリー組成物、詳しくはサファイアの研磨のための研磨スラリー組成物。これらの研磨スラリー組成物は、水性媒体内に分散した、研磨される表面より硬い硬度を有する第１のタイプの研磨粒子と研磨される表面より柔らかい硬度を有する第２のタイプの研磨粒子との混合物、詳しくは炭化ケイ素研磨粒子とシリカ研磨粒子との混合物を含む。
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