【課題】機械的な強度が確保され、着弾特性や飛翔特性などの動作特性に優れたノズルプレート、ノズルプレートの製造方法、液滴吐出ヘッド及び液滴吐出装置を提供する。
【解決手段】第１のシリコン層と、ガラス層と、前記ガラス層と接合された第２のシリコン層と、前記第１のシリコン層と前記第２のシリコン層との間に設けられた酸化シリコン層と、を備え、前記第１のシリコン層を貫通し液滴を吐出するノズル孔と、前記酸化シリコン層及び前記第２のシリコン層を貫通し前記ノズル孔に連通した流路と、前記ガラス層に形成され前記流路に連通した液室と、が形成されてなることを特徴とするノズルプレートが提供される。 （もっと読む）

【課題】ノズルプレートの端面が連通孔プレートやザグリプレートの端面よりはみ出さないようにすることで、ワイピング時や記録媒体のジャムによるザグリプレートの剥離を防止することを課題とする。
【解決手段】ノズルプレート１８に積層するザグリプレート１６及びプールプレート２０の外形よりも、ノズルプレート１８の外形を小さくする。このように、打ち抜き加工で、ノズルプレート１８をザグリプレート１６及びプールプレート２０の外形よりも小さくカットすることで、ノズルプレート１８にザグリプレート１６が成形されるプレート６４とプールプレート２０が成形されるプレート６６を積層して、エッチングによってザグリプレート１６及びプールプレート２０を成形すれば、プールプレート２０及びザグリプレート１６の端面からノズルプレート１８の端面がはみ出ることがない。 （もっと読む）

【課題】 インクジェットヘッドの微細化、高集積化に伴うこのような問題を回避し、流路形成基板とノズルプレートの貼り合わせ工程における許容度を拡げて歩留まりを向上させる。
【解決手段】 ノズル連通孔を圧力室の長さ方向にずらして配置することにより、圧力室配列方向での幅をひろげ、圧力室やノズル連通孔を形成した流路形成基板とノズルプレートとの接合における貼り合わせ位置精度の許容度を大きくする。 （もっと読む）

【課題】ノズル長を適切に調整でき、液滴がスムーズに流れて液滴のよどみが生じることがなく、液滴の吐出性を向上させることができるノズル基板の製造方法等を提供する。
【解決手段】シリコン基材１００側に向かってエッチングレートが遅くなる組成の酸化膜１０１を成膜する工程と、酸化膜１０１上に、第１のノズル孔部１１０ａに相当する部位を除いた部分にレジスト１０２を塗布し、酸化膜１０１をウエットエッチングしてシリコン基材１００側に縮径していくほぼ截頭円錐状の第１のノズル孔部１１０ａを形成する工程と、シリコン基材１００を酸化膜１０１に設けた第１のノズル孔部１１０ａの縮径側よりドライエッチングしてほぼ円筒状の第２のノズル孔部１１０ｂを形成する工程と、酸化膜１０１を設けた反対側の面よりシリコン基材１００を研削して第２のノズル孔部１１０ｂを貫通させる工程とによってノズル孔を形成する工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】吐出電極の針先に液を安定供給することにより、液滴径１ミクロン程度の液滴の安定吐出を実現する。
【解決手段】本発明は、インクタンクと、このインクタンクの吐出液吐出側の面に所定ピッチで配置された複数の開口部と、該開口部のそれぞれに先端部が挿入される複数のニードル及び該ニードルのそれぞれに電圧を印加するバイアス電源及びパルス電源と、対向電極と、該対向電極に電圧を印加する液滴加速用電源とを備えて、ニードルの移動を制御することにより吐出液の供給量を制御する。そして、このニードルは、先端部を円錐形の針形状にして親水処理をし、かつ、開口部は、内壁面を撥水処理する。 （もっと読む）

【課題】 ピエゾインクジェットヘッドにおいて、吐出方法、ヘッド構造を見直すことにより圧電材料の加工、組立てを低減、簡略化し、簡便にインクジェットヘッドを作成する。また、耐久性の高いインクジェットヘッドを作成する。
【解決手段】 ピエゾインクジェットヘッドにおいて、インク室隔壁部材料に圧電材料を用い、インク吐出方向に伸縮する構造とする。また、オリフィス部材にも隔壁部材料と同一且つ連続な圧電材料を用いる。インク室，ノズル穴などは切削加工などにより形成する。さらに、駆動用電極を用いてメッキすることにより、オリフィス面に高い撥水性を付与できる。 （もっと読む）

【課題】記録メディア上での定着性や画像濃度に優れ、且つインクの長期保存安定性にも優れており、普通紙やインクジェット専用紙はもちろんのこと、水吸収性の悪い商業印刷用の塗工紙に対しても高品位な画像を形成できる記録用インク、並びに記録方法、記録装置を提供すること。
【解決手段】少なくとも水と水溶性有機溶剤、界面活性剤及び表面に親水基を有するカーボンブラックを含有してなり、該カーボンブラックの２０Ｗｔ％分散液中に溶出するフミン酸の検出量が、２３０〜２６０ｎｍの波長で測定される最大吸光度で５．０〜２０．０であることを特徴とする記録用インク。 （もっと読む）

【課題】ノズル長のばらつきを低減し、安定した吐出特性を得ることができ、ひいては歩留まりの安定化を図ることが可能な液滴吐出用のノズルプレート製造方法及び液滴吐出ヘッドの製造方法を提供する。
【解決手段】Ｓｉ層から成る活性層４１ａとＳｉ層から成る支持体４１ｂとの間に、ＳｉＯ₂ 層から成る誘電体層４１ｃが接合された構成のＳＯＩ基板４１の活性層４１ａ側の表面にエッチングマスク４２を形成する工程と、活性層１４ａに、エッチングを複数回繰り返すことにより、径が異なる複数の孔１１ａ，１１ｂを同一軸上に有する構成のノズル孔を、活性層４１ａに形成する工程と、ＳＯＩ基板４１の支持体４１ｂを除去する工程と、ＳＯＩ基板４１の誘電体層４１ｃを除去する工程とを有するものである。 （もっと読む）

【課題】液滴吐出ヘッドでは、液滴の微細化がさらに進むと、空気抵抗などにより液滴を目標位置に正確に飛ばすことが難しくなり、液滴の直進飛行安定性を十分に確保することが困難となるという課題がある。
【解決手段】圧力室に接続され、液滴を吐出する貫通部が形成されるノズルプレート１０と、ノズルプレート１０の貫通部の内側に位置する、プレスなどの工程で製造された液滴誘導部１３を備える液滴吐出ヘッドを、液滴吐出装置に搭載する。液滴吐出ノズルプレート１０内に液滴誘導部１３が設けられているため、液滴は液滴誘導部１３に導かれるように流れる。そのため液滴の直進飛行安定性を確保することが可能とする液滴吐出ヘッド、液滴吐出ヘッドの製造方法、および液滴吐出装置を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】広角のテーパ形状を有するノズルを形成でき、且つ、吐出安定性を向上できること。
【解決手段】（Ｂ）透光性基板２２の一方の面に、Ｒ形状の開口部５１ｂを有する非透光性のＲ形状開口層３２を形成し、（Ｃ）透光性基板２２のＲ形状開口層３２が形成されている面に、感光性材料２４を付着させ、（Ｄ）透光性基板２２上のＲ形状開口層３２をマスクとして用いて、透光性基板２２の裏面に対して斜め方向から光を入射させつつ、透光性基板２２を回転させて、感光性材料２４を露光することにより、感光性材料２４中にテーパ形状の感光部２５を形成する。その後、感光性材料２４を現像して、テーパ形状の感光部２５を残し非感光部を除去し、テーパ形状の感光部２５を型として用いて、Ｒ形状開口層３２上に、Ｒ形状の開口部５１ｂに連結したテーパ形状の開口部を有するテーパ形状開口層を形成し、テーパ形状の感光部２５および透光性基板２２を除去する。 （もっと読む）

【課題】液滴吐出ヘッドに用いられるノズルプレートの製造方法において、微小なノズルから正確で安定した液滴の吐出が可能なノズルプレートの製造方法を提供する。
【解決手段】基板の第１の面に開口する大径孔部と、他方の面である第２の面に吐出孔を開口し大径孔部の断面より小さな断面の小径孔部とで構成される貫通孔からなるノズルを形成する工程であって、貫通孔が形成される部位の基板の厚みを測定する工程と、第１の面に切削により基板の厚みに応じて所定の深さの大径孔部を形成する工程と、を有する第１の工程と、第１の工程に続いて第２の面にフォトリソグラフィ処理を行い小径孔部のパターンマスクを形成する工程と、パターンマスクを用いてドライエッチング処理を行い小径孔部を形成する工程と、を有する第２の工程と、を備え、第１の工程は、荒加工工程と仕上加工工程とにより大径孔部を形成し、荒加工工程の孔径は仕上加工工程の孔径よりも大きい。 （もっと読む）

【課題】サテライト滴を発生させることなく高粘度液体の吐出を可能にする。
【解決手段】圧力室内の液体に圧力変化を与える圧電素子と、前記圧力室に連通し前記液体を吐出するノズル５１と、液体吐出の際に前記ノズルから吐出方向に細長く柱状に形成される液柱１２０の表面を誘導帯電させる電極６４と、前記電極に印加される電圧を制御する電圧制御手段と、を備え、前記電圧制御手段は、前記液柱が所定長さに成長した時点で前記電極の極性を反転させる。 （もっと読む）

【課題】液室が作り込まれた流路部材にノズルを形成する部材を積層してノズル穴を形成するとき高精度のノズルを形成することができない。
【解決手段】液体を吐出するノズル２１が形成されたノズル板２と、ノズル２１が連通する液室１１が形成された流路部材１と、ノズル板２と流路部材１との間に液室１１を覆う状態で介在し、ノズル２１と液室１１とを連通する貫通穴３１が形成された樹脂フィルム部材３とを備え、液室１１などが形成された流路部材１上に樹脂フィルム部材３による平坦な面を形成し、この平坦な面上でノズル板２のノズル２１の穿孔を行う。 （もっと読む）

【課題】サブピコリットルオーダー以下といった極めて微小な液滴を吐出する液体吐出ヘッドを提供する。
【解決手段】吐出口４には、吐出口プレート５の吐出口４が開口した面である吐出口面５ａに対して凹となる位置に、絞り部７、すなわち吐出口４の横断面積を他の部分と比較して急激に絞り込んだ部分が設けられている。また、吐出される液体は、吐出口４内において、吐出口面５ａと絞り部７との間でメニスカス８を形成して保持される。したがって、絞り部７は、液流路３から、吐出口プレート５の吐出口面５ａまでの経路における液中に位置している。 （もっと読む）

【課題】着弾特性・飛翔特性などの動作特性が良く、かつ、生産性にも優れたインクジェットヘッド及びインクジェットヘッドの製造方法を提供する。
【解決手段】液体を加圧する圧力室を有するノズル本体と、加圧した液体を吐出させるためのノズル孔１２を有するノズルプレート１１と、を備え、前記圧力室と前記ノズル孔１２との間には、角錐形状の流入口１２ａが、前記ノズル孔１２に向けて断面積が小さくなる方向に設けられていること、を特徴とするインクジェットヘッドが提供される。 （もっと読む）

【課題】 液体吐出ヘッドにおける吐出方向の制御を行う。
【解決手段】 ノズルは隔壁により分割された第１ノズル領域は前記第１圧力室と連通し、前記第２ノズル領域は前記第２圧力室と連通しており、第１ノズル領域より供給される液体の吐出方向と、第２ノズル領域より供給される液体の吐出方向とは異なるものであり、第１ノズル領域より供給される液体と、第２ノズル領域より供給される液体とが、ノズル先端部分で合体することにより液体を吐出するものであって、単一の圧電素子に電界を印加し制御することにより、第１圧力室と前記第２圧力室とは、異なる周波数で共振させ、第１ノズル領域より供給される液体の吐出速度と、第２ノズル領域より供給される液体の吐出速度とを異なるものとすることにより、前記ノズルより吐出する液体の飛翔方向を制御することを特徴とする液体吐出ヘッド。 （もっと読む）

【課題】液滴の吐出量の変動を吸収して安定した吐出及び高品質な印字が可能で、簡易かつ安価な液滴吐出ヘッド、液滴吐出装置及び液滴吐出ヘッドの製造方法を提供するを提供する。
【解決手段】ノズルプレート２に、流路部材１３に形成された液滴供給路１２に対応する領域に、液滴の吐出量の変化を吸収して安定した吐出を可能とするダンパー部１１を形成し、また、ノズルプレート２の液滴吐出側の表面の、ノズル２ａの周辺及びダンパー部１１の一部に保護部材９をさらに配設し、ダンパー部１１のうち保護部材９が配設された部分によってダンパー補強部１１ａ及び保護部材９が配設されていない部分によってダンパー機能部１１ｂを形成するように構成する。 （もっと読む）

【課題】外形加工工程におけるシリコンの切り屑の問題がなく、それ以降のハンドリングが容易であり、かつ製造工程を簡略化できるシリコンノズルプレートの製造方法の提供。
【解決手段】シリコン基板の表面にシリコン基板をエッチングするためのエッチングマスクとなる膜を設けるための膜形成工程と、ノズル穴加工パターン及び外形加工パターンに対応して膜を部分的に除去するパターン膜形成工程と、パターン膜をエッチングマスクとしてシリコン基板をエッチング処理してノズル穴を形成すると共に外形加工パターンのうち少なくとも一部にハーフエッチング部を形成するエッチング処理工程と、シリコン基板を前記ハーフエッチング部に沿って割ることにより分離する分離工程と、を有することを特徴とするシリコンノズルプレートの製造方法。 （もっと読む）

【課題】従来は液滴同士が接触・合体していたような狭い間隔で細孔を配置しても液滴の接触が起こらず、吐出液滴数を増加することができる液体吐出ヘッドを提供する。
【解決手段】この液体吐出ヘッドは、液体の吐出部１が液体を滴として吐出する方向に開口した凹形状部１ａを持ち、この凹形状部１ａの底面に複数の孔径の異なる細孔（貫通孔）２が液流路３に通じるように設けられた構成である。吐出部１における複数の細孔２は、一つの吐出用エネルギー発生素子であるところのヒータ４に対応して配置されている。 （もっと読む）

【課題】撥水膜形成前の液滴吐出面への酸化膜形成を、安価な設備で、一度に大量に処理することができ、製造コストを下げることができるノズル基板の製造方法等を提供する。
【解決手段】２段形状で連通されたノズル孔１１をエッチング加工によってシリコン基材１００に形成する工程と、シリコン基材１００の大径孔１１ｂ側の面１００ａに支持基板１２０を貼り合せる工程と、シリコン基材１００の小径孔１１ａ側の面１ｂを薄板化して小径孔１１ａの先端部を開口し薄板化加工面１ｂを形成する工程と、薄板化加工面１ｂに湿式酸化洗浄で酸化膜１０４ａを形成する工程と、薄板化加工面１ｂの酸化膜１０４ａ上に撥水膜１０６を形成する工程と、支持基板１２０をシリコン基材１００より剥離する工程とを含むものである。この場合、湿式酸化洗浄がオゾン水洗浄よりなるものである。 （もっと読む）