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Fターム[2C057AP12]の内容

Fターム[2C057AP12]に分類される特許

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【課題】液滴がより微細化しても、高精度な描画をすることが可能な液滴吐出ヘッドの製造方法、液滴吐出ヘッド、および液滴吐出装置の製造方法、液滴吐出装置を提供する。さらに、ノズルの向く方向が微妙にずれてしまっても、高精度な描画をすることを実現可能にする。
【解決手段】液滴吐出ヘッドは、圧力室としての材料室に接続され、液滴を吐出する貫通部としてのノズル21が形成された基板としてのノズルプレート59を備え、ノズルプレート59の貫通部としてのノズル21に形成された液滴を誘導する複数の液滴誘導部22を有し、液滴誘導部22の各々が、液滴を吐出する方向に向かって曲率を有して延在している。 (もっと読む)


【課題】いかなるサイズの液滴がノズル面に接触しても、該ノズル面に対する液滴の接触角を大きくすることができる液滴吐出ヘッド、液滴吐出装置及び液滴吐出ヘッドの製造方法を得る。
【解決手段】凹部50に内接する円の最大半径をRmaxとして、2Rmax、いわゆる最大内接円直径よりも凹部50の深さdを深くすることで、凹部50内にミスト100が入り込んだとしても、凹部50の上縁部と凹部50内のミスト100との間には隙間を設けることができる。つまり、いかなるサイズのインク滴がノズル面56に付着しても、該凹部50内に空気層54を形成することができ,超撥水性を保持することができる(ノズル面56に対する接触角を大きくすることができる)。 (もっと読む)


【課題】吐出不良を防止できると共に各ノズルから吐出される液滴の吐出特性を均一化することができる液体噴射ヘッド及び液体噴射装置を提供する。
【解決手段】ノズルプレート20に設けられる分流路部を構成する各細溝25の深さがその幅よりも深くなっており、且つキャビティ基板及びノズルプレート20の少なくとも何れか一方に、並設された各分流路部間に対応する領域に、キャビティ基板とノズルプレート20とを接着するための接着剤の逃げとなる溝部30を設ける。 (もっと読む)


【課題】ノズルプレート等のノズル形成部に対して撥水性皮膜等の撥水部を煩雑な工程を経ることなく、且つ精度良く形成することができる液体噴射ヘッド等を提供すること。
【解決手段】液体を吐出するためのノズル部331aが形成されているノズル形成部331を有し、ノズル部を含むノズル形成部に撥水膜334を形成し、レーザ部が照射するレーザで撥水膜を除去することで、少なくとも、ノズル形成部の液体の突出面には、撥水部が形成される液体噴射ヘッド100。 (もっと読む)


【課題】薄板化処理した後にノズル孔内部に異物が侵入することがない高歩留まりのノズル基板の製造方法等を提供する。
【解決手段】小径孔11a先端が基材100により閉じられ大径孔11b基端が基材100表面に開口されて2段形状で連通されたノズル孔11をエッチング加工によってシリコン基材100に形成する工程と、シリコン基材100の大径孔11b側の面にワックス層50aを形成する工程と、シリコン基材100のワックス層50aが形成された側の面と支持基板120とを貼り合わせる工程と、シリコン基材100の小径孔11a側の面100bを薄板化して小径孔11aの先端部を開口する工程と、シリコン基材100を撥インク処理する工程と、支持基板120を剥離する工程と、シリコン基材100に形れたワックス層50aをアルカリ性溶剤によって溶解して除去する工程を含む。 (もっと読む)


【課題】初期の撥インク性だけでなく、ワイピング等による機械的耐久性に優れたインクジェットノズルにおけるノズルプレートを用いる信頼性の高いインクジェット記録装置及びインクジェット記録方法の提供。
【解決手段】インクジェット記録用インクに刺激を印加し、該記録用インクを飛翔させて画像を記録するインク飛翔手段を少なくとも有し、前記インク飛翔手段におけるインクジェットヘッドのノズルプレート面が、シリコーン樹脂を含有する撥インク層を有し、前記インクジェット記録用インクが、少なくとも顔料、水、フッ素系界面活性剤、及びノニオン系界面活性剤を含有するインクジェット記録装置である。 (もっと読む)


【課題】ノズルのテーパ部を自由な断面形状・角度にすることができ、ノズルのテーパ部と直線部の位置合わせができるノズルプレートの製造方法を提供することである。
【解決手段】シリコン基板の一方の面に前記シリコン基板のエッチングの進行を阻止するエッチストッパ層を形成するエッチストッパ層形成工程と、前記シリコン基板の他方の面にマスク層を形成するマスク層形成工程と、前記マスク層の開口部をパターニングするマスクパターニング工程と、前記マスク層側からドライエッチングを行うことにより前記シリコン基板にノズルのテーパ部を形成するテーパ部形成工程と、前記マスク層側からドライエッチングを行うことにより前記エッチストッパ層にノズルの直線部を形成する直線部形成工程と、前記マスク層を剥離するマスク層剥離工程と、を有すること、を特徴とする。 (もっと読む)


【課題】所望の凹部を高精度に形成することができるシリコン基板の加工方法及びノズルプレートの製造方法を提供する。
【解決手段】第1のパターンを有する保護膜301aをシリコン基板300上に形成し、その保護膜301aをマスクとして前記シリコン基板300をドライエッチングする第1エッチング工程と、第1エッチング工程後に保護膜301aの少なくとも一部を除去して第2のパターンを有する保護膜301bとする保護膜除去工程と、前記第2のパターンを有する保護膜301bをマスクとして前記シリコン基板300をドライエッチングする第2エッチング工程により、前記シリコン基板300に深さが異なる凹部350を形成するシリコン基板の加工方法であって、前記第1エッチング工程と第2エッチング工程との間に、少なくとも前記第1エッチング工程でエッチングした領域を酸とアルカリとの混合液で洗浄する洗浄工程を有する。 (もっと読む)


【課題】 高精細で良好な画像形成可能なノズル成型のための電鋳用型を提供する。
【解決手段】 導電性基板上に円板状の第1金属層を形成し、前記第1金属層上に前記第1金属層の円板状の円の面積よりも狭い底面を有する円柱状の第2金属層を形成し、少なくとも前記円柱状の第2金属層に、第1金属層、第2金属層を構成する材料の融点よりも低い融点からなる低融点金属材料を付着させ、前記低融点金属材料を付着させたものを前記低融点金属材料の融点以上に加熱し、前記円柱状の第2金属層の側面の一部にテーパー部を形成することにより、前記導電性基板上に前記低融点金属材料からなるテーパー部と前記円柱状の第2金属層からなるストレート部を形成したことを特徴とする電鋳用型の製造方法を提供することにより、前記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】微小なノズルから正確で安定した液体の吐出が可能なフラットな吐出面を有するノズルプレート製造方法、この製造方法により製造されるノズルプレート及びこのノズルプレートを有する液体吐出ヘッドを提供する。
【解決手段】吐出孔から液体が液滴として吐出されるノズルを有し液体吐出ヘッドに用いられるノズルプレートにおいて、フラットな第1の面に吐出孔となる一方の開口を持つノズルの小径部を有するSiO2層と、小径部の他方の開口に通じ第1の面の反対の第2の面に開口を持つ小径部の径より大きい径であるノズルの大径部を有するSiO2板と、が積層されている。 (もっと読む)


【課題】インクジェットヘッドの基材表面に形成される撥インク膜の開口部縁端から開口部近傍の部分がワイピングによっても剥離を生じにくい形状であり、噴射安定性にも優れる形状に形成されたインクジェットヘッドを用いて、その記録性能を最大限に活かすことができるようにする。
【解決手段】記録媒体(インクジェット専用紙など)として、気温23℃、相対湿度50%RHの条件下での、接触時間100msにおけるインクの記録媒体への転移量が2〜40ml/m2であり、かつ接触時間400msにおけるインクの記録媒体への転移量が3〜50ml/m2であるものを用いる。 (もっと読む)


【課題】所望のテーパ形状と吐出口精度を両立させたノズル加工を行える液滴吐出ヘッドの製造方法を提供する。
【解決手段】ワーク18に第一の加工位置にて角度の大きいテーパ形状に穴開け加工を行う。第二の加工位置(=結像位置)にワーク18を移動させ、マスク14のパターン通りに結像したレーザ光12にて加工する。これによりノズル22の吐出口24における開口径を本来の20μmに拡大し、かつ開口径とノズル間ピッチを整え、さらに吐出口24近辺の形状を整えバリなど吐出性能に影響する可能性のある要素を取り除くことができる。また第二の加工ではテーパ角度は約8°で直管構造に近い加工を行うので、第二の加工が終了した時点では図2(c)に示すように吐出口24近辺においてはテーパ角度の小さい(直管に近い)断面、吐出口24から遠い側(図中上)ではテーパ角度の大きい断面の理想的なノズル22構造とすることができる。 (もっと読む)


【課題】 CR製法において、ノズル材の硬化収縮によるチップ反り・剥がれを防止する。
【解決手段】 ・エポキシ樹脂
・オキセタン樹脂
・スピロオルト樹脂
を含むノズル材を用いる。
エポキシ樹脂の剛性・オキセタン樹脂の反応性・スピロオルト樹脂の体積膨張性が同時に発現する比率を規定する。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、ノズルプレートに付着するインクミストや被記録媒体の紙粉、糸粉などのゴミに影響をされず長時間安定したインク吐出を実現させ、高品位の文字、画像の印刷を可能にしたインクジェットヘッド及びその製造方法を提供する。
【解決手段】
ノズルプレート表面に親水処理を施し、ノズル開口27の淵から40±15μmの範囲に撥水膜を形成した。ノズル開口近傍に浮遊し付着したインクミストや被記録媒体の紙粉、糸粉などは親水処理側に引き寄せられるのでノズル開口内のインクとは接触せず、メニスカスを正常に保つことができる。さらに、親水処理部ではインクの接触角度が非常に小さくなるためにインクミストが集合して液滴になることは無く、印字の際に生じる振動で被記録媒体に滴下することも無い。 (もっと読む)


【課題】安定した吐出特性を有するとともに、ノズル密度すなわち高密度化を図ることができる液滴吐出用のノズルプレート製造方法及びノズルプレート、液滴吐出ヘッドの製造方法及び液滴吐出ヘッド、並びに液滴吐出装置の製造方法及び液滴吐出装置を提供することを目的とする。
【解決手段】ノズル孔11が、吐出方向の先端側が円形の一定断面の円筒状ノズル部分で構成され、その後側が後方に向けて開口断面が段階的に大きくなるテーパー状ノズル部分で構成されており、フォトリソグラフィー法によって形成したレジストエッチングマスクを用いて基板をエッチング除去する工程を少なくとも2回以上繰り返し行うことでテーパー状ノズル部分を形成するものである。 (もっと読む)


【課題】安価にかつ高精度に微細孔を加工する。
【解決手段】第1の材料の上に第2の材料を積層して成る2層の部材を加熱し、突起形状を有する成型用金型により、前記2層の部材をその積層方向に、前記第2の材料の層を貫通し、かつ前記第1の材料の層の途中までプレス成型する工程と、前記成型用金型から前記2層の部材を離型する工程と、成型された前記第1の材料の層と、前記第2の材料の層とを分離する工程と、を有することを特徴とする有孔プレートの製造方法を提供することにより前記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】微小構造体を、低コストで効率よく成形する成形方法を提供する。
【解決手段】冷却によって硬化する溶融状態の成形材料を成形金型の空隙部に充填し、成形材料を冷却させて空隙部の形状が転写された形状を有する構造体の成形方法において、第1の金型と、第2の金型と、第1の金型と第2の金型とが型締めされて成す空間に侵入することで成形金型の空隙部を成す微細金型と、を成形材料の熱変形温度以上に加熱する金型加熱工程と、微細金型が第1の位置に後退していることで成す空隙部より広い空間に成形材料を充填する成形材料充填工程と、微細金型を第1の位置より空隙部を成す第2の位置まで移動させる微細金型移動工程と、成形材料を冷却する冷却工程と、を含む。 (もっと読む)


【課題】シリコン基材を薄板化加工する際に破損させずに加工し、しかもノズル孔先端の稜線部に樹脂残渣等が残ることがない液滴吐出ヘッドの製造方法等を提供する。
【解決手段】2段形状で連通したノズル孔11をエッチング加工によってシリコン基材100に形成する工程と、ノズル孔11内にシリコン酸化膜50を充填する工程と、シリコン基材100の大径孔11b側の面に樹脂層62を介して支持基板120を貼り合わせる工程と、シリコン基材100の小径孔11a側の面100bを薄板化して小径孔11aの先端部を開口する工程と、充填されたシリコン酸化膜50を除去する工程と、シリコン基材100の小径孔11a側の面100bに酸化膜105、撥水膜106を成膜する工程と、支持基板120をシリコン基材100より剥離する工程とを有するノズル基板1の製造方法を用いて、液滴吐出ヘッド10を製造する。 (もっと読む)


【課題】開口部のエッジの形状が均一で、該開口部の直径の誤差が小さい貫通孔をプレートに形成し、加工によって生じた生成物を容易に除去できるレーザ加工方法およびインクジェットヘッド製造方法を提供する。
【解決手段】レーザビーム5によりオリフィスプレート1にオリフィス8を形成するレーザ加工方法は、オリフィスプレート1のインク吐出面に、粘着力を有する粘着フィルム4を設ける工程と、オリフィスプレート1のレーザ照射面に、流動性を有した流動層2と、上面保護フィルム3とをこの順に設ける工程と、オリフィスプレート1のレーザ照射面に対してレーザビーム5を照射し、オリフィスプレート1にオリフィス8を形成する工程と、粘着フィルム4および保護フィルム3を除去する工程と、流動層2を除去する工程とを含む。 (もっと読む)


【課題】オリフィス形成工程において発生する副生成物を容易に除去することにより、高品質のオリフィスプレートを製造し、かつ生産性の高いプロセスを実現し得るインクジェット記録ヘッドの製造方法を提供する。
【解決手段】オリフィスプレート基材21の両面に撥水膜23a・23bを形成する撥水膜形成工程と、撥水膜23a・23bを形成したオリフィスプレート基材21のヘッド本体側面にレーザーを照射することにより、撥水膜23a・23bを形成したオリフィスプレート基材21にオリフィス22を形成するオリフィス形成工程と、レーザー照射側面の撥水膜23aをプラズマ処理により除去する撥水膜除去工程と、オリフィス22を形成したオリフィスプレート20のヘッド本体側面をヘッド本体に貼着する貼着工程とをこの順に含む。 (もっと読む)


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