【課題】 電子ビームの照射により生じる基板電流を検出する技術をさらに改善し、コンタクトホールの詳細な形状や半導体デバイスの内部状態を非破壊で検査する。
【解決手段】 平行電子ビーム２を試料５に照射して試料５に流れる電流を電流計９により測定する。電子ビーム２の加速電圧を変えて測定を繰り返し、データ処理装置１０において、加速電圧の違いによる試料５への電子ビーム２の透過率の違いに基づく電流値の違いから、試料５の深さ方向の構造に関する情報を求める。 （もっと読む）

本発明は、方法および測定システムを提供する。当該方法は：測定画像情報を含む測定モデルを提供するステップと；上記測定画像情報を利用することにより測定領域を突き止めるステップと；測定結果情報を提供する為に少なくとも一つの測定を実施するステップと；を含む。
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【課題】走査電子顕微鏡において、観察視野の選択時に有効である異種倍率像の同時表示機能では、広い領域の走査に必要な高い感度の偏向コイルをそのまま用いて高倍率とするために走査信号の振幅を縮小していたので、高倍率像走査時には、偏向コイル駆動電流のＳ／Ｎ比が低下し、倍率比の大きな異種倍率像を得る事が困難であった。
【解決手段】高感度偏向コイルと低感度偏向コイルを使用し、低倍率像は、高感度偏向コイルを走査し、高倍率像は低感度偏向コイルを走査することで、Ｓ／Ｎ比低下の問題を解決し、倍率比の大きな異種倍率像を得る事が可能である。
【効果】倍率比の大きな異種倍率像を表示できるので、効率良く視野選択ができ、操作性を向上する効果がある。 （もっと読む）