【課題】表面を斜めの検査角度において高い解像度で検査できるようにする方法及び装置を提供する。
【解決手段】表面に対して斜めのビュー角度に沿って表面のエリアを像形成するための装置は、ビュー角度に向けられた光学軸に沿ってエリアから光学放射を収集することによりエリアの初期傾斜像を形成するように適応された無限焦点光学リレー(192)を備えている。傾斜補正ユニット(194)が、初期像の傾斜を補正するように結合されて、実質的に無歪の中間像を形成する。中間像を像検出器に収束するために拡大モジュール(19８)が結合される。 （もっと読む）

【課題】 荷電粒子ビームの焦点距離の急速な調節の為のシステム及び方法を提供する。
【解決手段】 荷電粒子ビームの焦点距離を急速に変更する装置および方法であって、上記方法は、荷電粒子ビームの焦点距離と制御信号電圧値との関係に応答して、制御信号を変更するステップを備える。 （もっと読む）

【課題】空間像エミュレーティング光学によってレチクルを評価する。
【解決手段】レチクル評価のためのシステム、方法及びコンピュータ可読媒体であり、該方法は、（i）イメージングプロセス中に、異なる偏光条件及び必要に応じて干渉条件下で、レチクルの複数のイメージを得るステップと、（ii）（i）該複数のイメージ及び（ii）イメージングプロセスと露光プロセスの違いに応じて、出力空間像を生成するステップとを含み、該露光プロセス中に、該レチクルのイメージがウェーハ上に投影される。 （もっと読む）

【課題】欠陥検出、特にフォトリソグラフィープロセスに使用されるマスクの欠陥検出のためのシステム、方法およびコンピュータプログラム製品を提供する。
【解決手段】（i）オブジェクトの第１の画像のテスト済み画素に対応する第２の画像の第２の画素を検索するステップであって、該第１の画像および第２の画像は異なる取得方法を使用して得られたステップ１５０と、（ii）該第２の画素の隣接部分が第３の画素の隣接部分に類似するような該第２の画像の該第３の画素を探すステップ１６０と、（iii）該第３の画素に対応する該第１の画像の第４の画素を検索するステップ１７０と、（iv）該テスト済み画素と該第４の画素を比較するステップ１８０とを含んでいる。 （もっと読む）

光学放射を発生するための装置は、複数の横モードで同時に動作するように構成されて、第１のスペックルコントラストで特徴付けられる入力ビームを発生するためのレーザを備えている。入力ビームの横モードを光学的に混合して、第１のスペックルコントラストより実質的に小さい第２のスペックルコントラストを有する出力ビームを発生する。
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帯電粒子ビームの角状変位を判断し、高い側壁角度均一性の側壁を含むテストオブジェクトの複数の測定値に基づく帯電粒子ビームシステムを較正する為のシステムおよび方法を提供する。帯電粒子ビームの経路は、複数のビーム制御パラメータにより制御される。方法は、角状変位を実質的に減少させるパラメータを判断し、これらを適用して帯電粒子ビームシステムを較正する。
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パターン化及び非パターン化物体を光学的に検査するためのシステム及び方法。この方法は、物体から反射された光の偏光状態を決定するステップと、入射光の偏光状態を確立するステップと、反射光を偏光によりフィルタして、検出器により検出される光学信号を与えるステップとを備えている。
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製造検査のための方法は、半導体基板及び該基板を覆って形成された非導電層を含むウェーハを受け取ることと、それに続いて、該非導電層を貫通して該基板に達するコンタクト開口のエッチングを実行することであって、該コンタクト開口が、該ウェーハ上の検査領域内に予め画定されたテストパターン内に配列されたコンタクト開口から構成される配列を含むこととを含む。電子ビームは、該検査領域を照射するように向けられ、該電子ビームに反応して該基板を流れる試料電流が測定される。該試料電流は、該コンタクト開口の寸法を評価するために分析される。
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パターンを走査する為の装置および方法。方法は、（ｉ）第１走査路に沿ってパターンと相互作用する等の為に荷電粒子ビームを導くステップと、（ｉｉ）第２走査路に沿ってパターンと相互作用する等の為に荷電粒子ビームを導くステップと、を含む。ビームとの相互作用の結果、パターンは、その特性の一つを変える。第１走査路と第２走査路間の距離は、荷電粒子径より大きくてもよい。第１走査路と第２走査路の各々は、複数の連続したサンプルを含み、第１走査路と第２走査路との間の距離は、隣接したサンプル間の距離より大きくてもよい。走査路の位置は、測定間、特に、測定セッション間で変更してもよい。荷電粒子ビームの横断面は、楕円面でもよい。
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サンプルを検査する装置は、サンプルの表面のエリアに光学放射を向けるように適応された放射ソースと、複数の像センサとを備えている。各像センサは、上記エリアから異なる各々の角度範囲へ散乱された放射を受け取って、上記エリアの各像を形成するように構成される。像プロセッサは、各像の少なくとも１つを処理して表面上の欠陥を検出するように適応される。
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