【課題】遮蔽体を少なくし、あるいは無くすことができるとともにＳ／Ｎ比を改善することができるＸ線計測装置及びＸ線計測方法を提供する。
【解決手段】Ｘ線検出データのうち、衝突点９においてＸ線４が発生している時に対応する検出データを有効化し、その他のデータを無効化して、Ｘ線波形を生成する。例えば、レーザ光３がパルスレーザ光であり、電子ビーム１が連続状又はパルスレーザ光のパルス幅と同じかそれより長いパルス幅をもつパルス状の電子ビームである場合は、レーザ光３を検出し、Ｘ線検出データとレーザ光検出データとを、衝突点９に関して時間軸を一致させて乗算して、Ｘ線波形を生成する。 （もっと読む）

【課題】単色性の高いレーザーコンプトン光を得る。
【解決手段】偏向空洞１３を通過した電子パルス１２は、線形加速器１４を通過する。線形加速器１４中において、この電子パルス１２は高周波加速を受け、高エネルギー電子パルス１５となる。レーザー光源１６は、可視光あるいは近赤外光でありパルス状のレーザー光１７を発する。レーザー光１７は、反射鏡１８で反射されて、高エネルギー電子パルス１５と衝突点１９で衝突する設定とされる。衝突点１９から、高エネルギー光（Ｘ線、ガンマ線等）とされたレーザーコンプトン光２０が発せられる。偏向空洞１３によって電子パルス１２はその進行方向に対して傾斜角をもち、衝突点１９においては、この傾斜角が大きくなった状態となるような設定とされる。 （もっと読む）

本発明は、切り換え可能な疑中性ビームシステムを用いてリアルタイムで基板を処理して、フォトレジスト層のエッチング耐性を改善する装置及び方法を供してよい。それに加えて、前記の改善されたフォトレジスト層は、エッチング処理において、ゲート及び/又はスペーサの限界寸法(CD)のより正確な制御、ゲート及び/又はスペーサのCD均一性の正確な制御、並びに、ライン端部粗さ(LER)及びライン幅粗さ(LWR)の除去に用いられてよい。
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本発明は、粒子放射線治療用に使用可能なパルス化ビーム粒子加速器に関する。特に、ビームパルス内の粒子数を制御するデバイス及び方法が提供される。粒子加速器は、ビーム制御パラメータの値の関数として、最小値から最大値の間で、そのパルス化イオンビームの各ビームパルス内の粒子数を変更する手段を備える。各粒子照射に対して、各ビームパルスに対する所要の粒子数は、較正データに基づいてビーム制御パラメータに対する値を定めることによって、制御される。
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【課題】電子ビーム電流又はＸ線強度安定性において、高強度のＸ線を発生するＸ線発生装置を得る。
【解決手段】電子銃及び前記電子銃電源は、電子を放出するカソードと、カソードに対して高電位で電子を加速するアノードと、アノードに電圧を印加する電源と、カソードから熱電子を放出させるカソード加熱手段とを含む二極管であり、電子銃から出射される電子ビーム電流又は、電子ビームにより発生したＸ線の強度を測定し測定値を得るモニターと、モニターで測定した測定値に基づいて電子銃電源を制御するコントローラとを備え、コントローラにより、発生する電子ビームの単位時間あたりの平均電流を制御して、Ｘ線強度を一定にするようにした。 （もっと読む）

【課題】 エネルギーが同じである中性化ビームを発生する中性粒子ビーム発生装置を提供する。
【解決手段】 本発明の中性粒子ビーム発生装置は、プラズマを生成し、イオン粒子を放出するイオン源と、イオンビームをパルス化するパルス化手段と前記イオンビームから多価イオン粒子を除去する多価イオン粒子除去手段と、イオン粒子を中性化して中性粒子を生成する中性粒子生成手段と、前記中性粒子生成手段により生成された中性粒子に含まれる他の粒子を除去する除去手段と、前記他の粒子が除去された中性粒子ビームが照射される処理手段とを備える。 （もっと読む）

高エネルギー粒子パルスの発生装置が提供される。この装置は、１０¹⁸Ｗ／ｃｍ²より大きく、好ましくは１０²⁰Ｗ／ｃｍ²（ワット／平方センチメートル）より大きなピーク強度に集束されることができる、パルス幅が１００ｆｓ（フェムト秒）より短いレーザーパルスを発生させるレーザーシステムと、前記少なくとも１パルスのレーザーパルスに付随する時間的強度プロファイルを、レーザーコントラストが１０⁵以上、好ましくは１０⁷以上、特に１０¹⁰に高まるように整形する装置と、少なくとも１パルスの前記レーザーパルスが照射されると、高エネルギー粒子パルス、特に電子または陽子パルス、を放出することができるターゲットとを備える。この装置を用いた対応する方法も記載される。
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