レジスト組成物は、（Ａ）水素シルセスキオキサン樹脂と、（Ｂ）酸解離性基含有化合物と、（Ｃ）光酸発生剤と、（Ｄ）有機溶媒と、任意で（Ｅ）添加剤とを含む。このレジスト組成物により、フォトレジストとして好適なリソグラフィ特性（例えば、高い耐エッチング性、透明性、解像度、感度、フォーカス許容性、ラインエッジラフネス及び密着性）が改良される。 （もっと読む）

【課題】２層構造の微細構造を２種のポジ型レジストで生成する場合に、少なくとも下層における熱架橋処理が不要な微細構造の形成方法、およびこの微細構造の形成方法を利用した液体吐出ヘッドとその製造方法を提供する。
【解決手段】ヒータを形成した基板上に下層としての第１のポジ型レジスト層（ＰＭＩＰＫ）を形成し、その上に上層としての第２のポジ型レジスト層（ＰＭＭＡ系共重合体）を形成し、第２のポジ型レジスト層が分解反応する波長域の電離放射線にて上層のポジ型レジスト層１３を露光、現像して所定のパターンを形成し、更に、第１のポジ型レジスト層が分解反応する波長域の電離放射線にて下層のポジ型レジスト層１２を露光、現像して所定のパターンとして微細構造を得る。この方法を用いた液体吐出ヘッドの製造方法と、その方法で製造された液体吐出ヘッド。 （もっと読む）

本発明は、式（Ｉ、IIまたはIII）の新規な光酸発生剤化合物であり、ここで、Ｒ₁は、例えばＣ₁〜Ｃ₁₈アルキルスルホニルまたはフェニルスルホニル、フェニル−Ｃ₁〜Ｃ₃アルキルスルホニル、ナフチルスルホニル、アントラシルスルホニルまたはフェナントリルスルホニルであり、すべては、場合により置換されているか、あるいはＲ₁は、基（ａ，ｂまたはｃ）であり；Ｘ₁、Ｘ₂およびＸ₃は、互いに独立に、ＯまたはＳであり；Ｒ’₁は、例えば、フェニレンジスルホニル、ナフチレンジスルホニル、ジフェニレンジスルホニルまたはオキシジフェニレンジスルホニルであり、すべては、場合により置換されているか；Ｒ₂は、ハロゲンまたはＣ₁〜Ｃ₁₀ハロアルキルであり；Ｘは、ハロゲンであり；Ａｒ₁はヘテロアリーレンであり、例えば、ビフェニリルまたはフルオレニルであり、あるいは置換ナフチルであり；Ａｒ’₁は、場合により置換されており；Ｒ₈、Ｒ₉、Ｒ₁₀およびＲ₁₁は、例えば、非置換またはハロゲンで置換されているＣ₁〜Ｃ₆アルキルであるか；あるいはＲ₈、Ｒ₉およびＲ₁₀は、非置換またはＣ₁〜Ｃ₄アルキルもしくはハロゲンで置換されているフェニルであるか；あるいはＲ₁₀およびＲ₁₁は一緒に、非置換またはＣ₁〜Ｃ₄アルキルもしくはハロゲンで置換されている１，２−フェニレンまたはＣ₂〜Ｃ₆アルキレンである。
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【課題】目的とするインク流路を正確に形成可能なインクジェットヘッドの製造方法を提供すること。
【解決手段】 流路パターンを規定する型となる溶解除去可能な固体層（流路となる構造）とそれを被覆するネガ型レジスト層とを少なくとも用いたインクジェットヘッドの製造において、流路となる構造を、一般式（１）で表されるポリメタクリレート共重合体系樹脂とメラミン系の縮合性架橋剤とを有する分子間架橋型のポジ型感光性樹脂組成物の、電離放射線の照射による主鎖の崩壊反応により形成する。
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【課題】 カルボン酸無水物構造を有するアクリル樹脂を用いたポジ型感光性樹脂組成物の露光感度を向上させるととも、感光波長の選択幅を広げること、更には、このポジ型感光性樹脂組成物を用いることで基板から吐出口方向への高さ方向に形状が変化するインク流路を精度良く、かつ効率良く形成できるパターン形成方法及びそれを用いたインクジェットヘッドの製造方法を提供すること。
【解決手段】 少なくともカルボン酸無水物構造を有するアクリル樹脂と光酸発生剤とを用いてポジ型の感光性樹脂組成物を調製する。 （もっと読む）

本発明は次式で表される新規の光酸発生剤に関する。式中の残基は明細書に記載の意味を有する。
【化１】

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本発明は、カルボン酸を含有するモノマーを少なくとも５０ｍｏｌ％含有し得るフォトレジストの現像を改善するために界面活性剤を含有する、現像剤として用いられる組成物に関する。本発明はまた、この組成物の使用方法である。 （もっと読む）

本発明は、保護ポリマー層およびＵＶ遮断剤を含んでなる新規の組成物に関する。これは、厚膜ペーストを用いる電子デバイスの作製において使用される。また本発明は、該組成物を用いた電子デバイスの作製方法でもある。保護ポリマー層は、厚膜ペースト中に含有されるエステル系溶媒に照射後に不溶性である材料から作製される。保護膜ポリマーの適切な選択によって、保護膜は厚膜ペーストと適合性であることが可能であり、そして更に、厚膜ペーストの一部をＵＶ照射から遮蔽するために使用することができる。
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新規なポジティブ・ワーキング・フォトレジスト組成物が開示されている。該レジストの原樹脂のモノマーは、ポリマンタン系においてアダマンタンよりも高級なダイヤモンド状核含有側基、例えば、ジアマンタン、トリアマンタン、テトラマンタン、ペンタマンタン、ヘキサマンタン等を含有している。該ダイヤモンド状核含有側基は、水酸基のような親水性増進置換基を有することが出来、ラクトン基を含有することが出来る。本組成物の利点には、改良された解像度、感度、及び基体への接着性が含まれる。
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【課題】 電子線リソグラフィーを用いて、良好な形状を有する数十ナノメートル径のホールパターンを形成する。
【解決手段】 下地表面上に、ポジ型の電子線レジストを含有するレジスト層を形成し、前記レジスト層に電子線を照射した後、現像することにより、前記レジスト層にホールを形成する工程を有し、前記ホールの平均径をＷ（単位：nm）とし、Ｗが８０のときの最適な電子線照射量をＤ₈₀としたとき、４０≦Ｗ≦７０であるホールを形成する際に、電子線照射量Ｄ_Wが０．８５×６０／（Ｗ−２０）≦Ｄ_W／Ｄ₈₀≦１．１×６０／（Ｗ−２０）
を満足するように電子線を照射するレジストパターンの形成方法。 （もっと読む）