【課題】 対象基材上に、絶縁樹脂組成物の塗膜による被覆層が、テープ基材の剥離によっても接着性および電気絶縁性が劣化せず、その特性が維持された状態で形成される被覆層形成方法の提供。
【解決手段】 被覆層形成方法は、テープ基材上に粘着膜が形成された保護テープを用い、対象基材の一面上に、その粘着膜が前記対象基材の一面上に接触する状態に保護テープを貼り合わせる工程と、粘着膜に熱または光を与えて気体を発生させた後、テープ基材を粘着膜から剥離する工程とを、この順に行って粘着膜による被覆層を対象基材の一面上に形成する方法であって、粘着膜が、熱または光を受けることにより気体を発生する気体発生剤を含有する絶縁樹脂組成物の塗膜よりなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】低比誘電率の硬化パターンを形成できるネガ型感放射線性組成物、これを用いたパターン形成方法並びに硬化パターンを提供する。
【解決手段】本ネガ型感放射線性組成物は、（Ａ１）アルキレングリコール鎖を有するラジカル重合性化合物に由来する構造単位（Ｉ）及びアルコキシシリル基を有するラジカル重合性化合物に由来する構造単位（ＩＩ）を有する重合体、（Ｂ）感放射線性酸発生剤、及び、（Ｃ）溶剤を含有する。本方法は、（１）基板表面に前記組成物用いた被膜を形成する工程と、（２）得られた被膜を熱処理する工程と、（３）熱処理された被膜を露光する工程と、（４）露光された被膜を現像して前駆パターンを得る工程と、（５）得られた前駆パターンを硬化処理して硬化パターンを得る工程と、を備える。本硬化パターンは、前記パターン形成方法によって得られる。 （もっと読む）

【課題】撥液性に優れる硬化膜を形成することができるポジ型感光性組成物、該組成物による硬化膜、及び該硬化膜を有する表示素子を提供する。
【解決手段】フッ素を含むシルセスキオキサン基とアルカリ可溶性官能基とを有する、フッ素を含む重合体（Ａ）及び１，２−キノンジアジド化合物（Ｂ）を含有する感光性組成物を構成し、該組成物を焼成して硬化膜を形成し、該硬化膜を有する表示素子を提供する。 （もっと読む）

【課題】液浸露光フォトレジスト膜において、アルカリ可溶性樹脂と併用するＳｉ原子及び／又はＦ原子を有する化合物の働きを、更に高めたフォトレジスト膜用トップコート組成物、及び該レジスト膜用トップコート組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】成分（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、成分（Ｂ）Ｓｉ原子及び／又はＦ原子を有する化合物、成分（Ｃ）沸点１７５℃未満の溶剤、及び、成分（Ｄ）下記式（１）で表される添加剤を含有することを特徴とするレジスト膜用トップコート組成物、及びパターン形成方法。


（前記式（１）において、Ｒ₁及びＲ₂はそれぞれ独立に炭素数４〜６のアルキル基を表し、Ｘは炭素数１〜４のアルキレン基又は−（Ｃ＝Ｏ）−Ｙ−（Ｃ＝Ｏ）−基を表し、Ｙは炭素数１〜４のアルキレン基を表す。） （もっと読む）

【課題】撥液性に優れる硬化膜を形成することができるポジ型感光性組成物、このポジ型感光性組成物による硬化膜、及びこの膜を有する表示素子を提供する。
【解決手段】ケイ素数３以上の直鎖のシロキサン構造とラジカル重合性官能基とを有するラジカル重合性モノマー（ａ−１）と、フェノール性水酸基を有するビニルケトンであるラジカル重合性モノマー（ａ−２）とを含むモノマーのラジカル重合体（Ａ）と、１，２−キノンジアジド化合物（Ｂ）とを含有し、アルカリ可溶性重合体（Ｃ）を含有していてもよい感光性組成物を構成し、この感光性組成物から硬化膜を形成し、この硬化膜を表示素子中の膜に用いる。 （もっと読む）

【課題】液浸露光フォトレジスト膜において、アルカリ可溶性樹脂と併用するＳｉ原子及び／又はＦ原子を有する化合物の働きを、さらに高めたフォトレジスト膜の保護層用トップコート組成物、並びに該レジスト膜の保護層用トップコート組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】成分（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、成分（Ｂ）Ｓｉ原子及び／又はＦ原子を有する化合物、及び成分（Ｃ）下記式（１）で表される溶剤を含有することを特徴とするレジスト膜の保護層用トップコート組成物、並びにパターン形成方法。


（前記式（１）において、Ｒ₁は炭素数２〜３のアルキレン基、Ｒ₂は炭素数３〜４のアルキル基を表す。） （もっと読む）

【課題】紫外線光の波長よりも十分小さい平均粒子径をもつ金属酸化物粒子を感光性ペースト中に均一に分散することができ、隔壁のパターン形成性と隔壁の白色化を両立できる感光性ペーストを提供する
【解決手段】
無機粒子ならびに感光性有機成分を含む有機成分からなる感光性ペーストであって、該無機粒子が低融点ガラス粉末と動的光散乱法による中心径０．００３〜０．０５μｍの金属酸化物粒子とを含み、該有機成分に少なくとも側鎖にアルコキシシラン基を有するアクリル共重合体を含有することを特徴とする感光性ペースト。 （もっと読む）

【課題】 レジストパターンの倒れ、ラインエッジラフネス、並びにスカムの発生が改良され、プロファイルの劣化も少なく、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるレジストパターンを形成することが可能なレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】 （Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有する樹脂（ｃ）を２以上含有する樹脂、及び（Ｄ）溶剤、を含有するポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】その塗膜が熱圧着時の流動性に優れ、接着性および密着性の良好な硬化膜を形成することのできるポジ型感光性絶縁樹脂組成物の提供。
【解決手段】組成物は、一般式（１）による構造単位（ａ１）、特定のアクリル酸エステル系の構造単位（ａ２）およびフェノール性水酸基を有する構造単位（ａ３）を含有し、構造単位（ａ１）が１〜５０質量％含有される重合体（Ａ）と、キノンジアジド基を有する化合物（Ｂ）と、架橋剤（Ｃ）と、溶剤（Ｄ）とを含有するポジ型感光性絶縁樹脂組成物。ただし、式中、Ｒ¹、Ｒ²はフェニレン基または−ＣＯＯ−、Ｒ³およびＲ⁴は各々独立にフェニル基、炭素数１〜６のアルキル基またはアルコキシ基、Ｒ⁵は炭素数１〜６のアルキル基、ｎは０〜３の整数、ｍは１〜１０の整数である。
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【課題】感放射線感度と現像密着性の高い感光性重合体組成物と、これを用いて得られるパターン状透明膜と、該パターン状透明膜を有する表示素子を提供する。
【解決手段】下記式（Ｉ）で表される化合物を含むモノマーのラジカル重合による共重合体と１，２−キノンジアジド化合物とを含有し、化合物（Ｉ）を含まないモノマーのラジカル重合による共重合体をさらに含有してもよいポジ型感光性重合体組成物を提供する。
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【課題】廃液の発生がなく明室下での作業性に極めて優れ、印刷性、特に画像部の刷り出し時のインキ乗りが良好で、優れた耐刷性を有する感熱性平版印刷版を提供することにある。
【解決手段】支持体上に、親水性樹脂と熱溶融性微粒子を含有する感熱層を有する感熱性平版印刷版において、前記熱溶融性微粒子がジエン系合成ゴムを主体とするものであって、かつ感熱層がジスルフィド結合を有する化合物を含有することを特徴とする感熱性平版印刷版。 （もっと読む）

【課題】着色がなく、可視光に対する高い透過率を有するパターンを形成することができる新たな感光性樹脂組成物と、それを用いて形成された硬化樹脂パターン及び表示素子を提供することを目的とする。
【解決手段】ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）、光重合性化合物（Ｂ）（ただし、（Ａ）とは異なる）、光重合開始剤（Ｃ）及び溶剤（Ｄ）を含有し、光重合性化合物（Ｂ）が、ケイ素原子、シロキサン骨格及び２以上の（メタ）アクリル基及び／又は（メタ）アクリロイル基を含有し、ケイ素原子に、非加水分解性基が結合されてなる光重合性化合物であることを特徴とする感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】耐熱光透過率に優れたパターンを形成し得る感光性樹脂組成物、該感光性樹脂組成物を用いて形成されるパターン及び表示装置を提供する。
【解決手段】ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）、シロキサン化合物（Ｂ）（ただし、（Ａ）を除く。）、感光物質（Ｃ）を含有する感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】液浸露光によるパターニングにおいて、良好にレジスト膜表面を疎水化し、液浸液追随性を良好とするとともに、塗布欠陥、現像欠陥の抑制に効果を示す樹脂、及び、その製造方法、該樹脂を含有するポジ型レジスト組成物を提供することである。
【解決手段】表面に偏在化してレジスト膜の表面を疎水化する、レジスト組成物に添加する樹脂であって、ゲルパーミッションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定される分子量分布において、分子量３万以上の高分子量成分のピーク面積が、全体のピーク面積に対して０．１％以下であることを特徴とする樹脂その製造方法、該樹脂を含有するポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】撥インク性がより向上した着色感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】光重合性化合物（Ａ）と、撥インク性化合物（Ｂ）と、光重合開始剤（Ｃ）と、着色剤（Ｄ）と、を含有する着色感光性樹脂組成物において、撥インク性化合物（Ｂ）として、エチレン性不飽和基及びケイ素原子に結合した少なくとも１つのアルコキシ基を有するケイ素含有モノマー（Ｂ１）と、該ケイ素含有モノマー（Ｂ１）と共重合可能なフッ素系モノマー（Ｂ２）とを少なくとも共重合させた共重合体を用いる。 （もっと読む）

【課題】より高い絶縁性を有する層間絶縁膜用感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】アルカリ可溶性樹脂成分（Ａ）及び感光剤（Ｂ）を含む層間絶縁膜用感光性樹脂組成物であって、前記アルカリ可溶性樹脂成分（Ａ）が酸性基含有構成単位（ａ１）、架橋性基含有構成単位（ａ２）及びアルコキシシリル基含有構成単位（ａ３）を含む共重合体（Ａ１）を含む。 （もっと読む）

【課題】通常露光（ドライ露光）のみならず液浸露光においても、ＰＥＢ温度依存性が小さく、パターン倒れも少なく、良好なプロファイルを示し、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるレジスト組成物、及びそれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）疎水樹脂（Ｃ）が重合開始剤とチオール化合物誘導体とを使用して重合することにより得られる疎水性樹脂、および、（Ｄ）溶剤、を含有するレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】液浸露光技術において、液浸媒体への溶出を抑制してレジストの機能を損なわず、前記液浸媒体に対して高い接触角を有し、微細なレジストパターンを形成可能な液浸露光用レジスト組成物、及びそれを用いた半導体装置の製造方法の提供。
【解決手段】本発明の液浸露光用レジスト組成物は、レジストの基材樹脂の他に、シリコン含有側鎖を有し、酸によりアルカリ可溶性に変化する樹脂を含有するものであって、全樹脂中のシリコン含有量が１質量％以下である。本発明の半導体装置の製造方法は、被加工面上に、本発明の前記液浸露光用レジスト組成物を用いてレジスト膜を形成した後、該レジスト膜に対して液浸露光により露光光を照射し、現像することによりレジストパターンを形成するレジストパターン形成工程と、該レジストパターンをマスクとしてエッチングにより前記被加工面にパターンを転写するパターン転写工程とを少なくとも含む。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される、高精度な微細パターンを安定的に形成する為のパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（ア）酸の作用により極性が増大する樹脂を含有し、活性光線又は放射線の照射により、ポジ型現像液に対する溶解度が増大し、ネガ型現像液に対する溶解度が減少する、特定のネガ型現像用レジスト組成物を塗布する工程、（イ）液浸媒体を介して露光する工程、及び（ウ）ネガ型現像液を用いて現像を行う工程、を含むことを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】通常露光（ドライ露光）のみならず液浸露光に於いても、プロファイルの劣化が少なく、パターン倒れが改良され、スカムの発生が抑制された、レジスト組成物及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）疎水性樹脂及び
（Ｄ）溶剤を含有し、樹脂（Ａ）の重量平均分子量と疎水性樹脂（Ｃ）の重量平均分子量との差が、下記式を満たすレジスト組成物及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法。
樹脂（Ａ）の重量平均分子量 − 疎水性樹脂（Ｃ）の重量平均分子量 ≧３０００ （もっと読む）