【課題】ケイ素含有無機膜をレジスト中間層膜として使用する場合において、この膜をより薄くすることができ、かつ反射防止膜とケイ素含有無機膜のエッチング加工においてフォトレジスト膜への負荷を従来の方法よりも下げることのできるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】レジスト下層膜・第１のレジスト中間層膜・ケイ素樹脂を含有するケイ素樹脂膜である第２のレジスト中間層膜・レジスト上層膜を含む多層レジスト膜を形成し、該多層レジスト膜のパターン回路領域を露光した後、現像液で現像してレジスト上層膜にレジストパターンを形成し、レジスト上層膜をマスクにして第１および第２のレジスト中間層膜をエッチングし、第１および第２のレジスト中間層膜をマスクにしてレジスト下層膜をエッチングし、さらに、レジスト下層膜をマスクにして基板をエッチングして基板にパターンを形成することを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 感光層を薄膜化した場合でも、感光層が被着体表面の凹凸に追従性よくラミネートされ、高い製造歩留まりを実現可能であるとともに、良好な解像度を得ることが可能な感光性フィルムを提供すること。
【解決手段】 支持フィルム１０、クッション層１２、感光層１４及び保護フィルム１６がこの順に積層されており、クッション層１２と感光層１４との間の層間接着力が、感光層１４と保護フィルムと１６の間の層間接着力よりも大きく、支持フィルム１０とクッション層１２との間の層間接着力が、クッション層１２と感光層１４との間の層間接着力よりも大きく、保護フィルム１６の１２０℃、２０分間での加熱収縮率が、縦方向で５．０％以下、横方向で３．０％以下であり、感光層１４は、感光性樹脂組成物を保護フィルム１６上に塗布し、乾燥することで形成された層である、感光性フィルム。 （もっと読む）

【課題】 合紙を用いずに積層した場合であっても、輸送等による擦れ傷及び保存時の接着故障が記録層に生じず、且つ、自動供給装置（オートローダー）を備えた露光装置にも好適に用いられる赤外線感光性ポジ型平版印刷版原版を提供すること。
【解決手段】 支持体の片面に、水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂と、赤外線吸収剤と、を含み、赤外線照射により画像を形成し得る記録層を有し、
前記支持体の記録層を有する面とは反対側の面に、長鎖アルキル基含有ポリマー、及び、該長鎖アルキル基含有ポリマーとは異なるポリマーを含む有機ポリマー層を有することを特徴とする赤外線感光性平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】多層レジストプロセス用のレジスト下層膜材料であって、基板エッチング後に行うアッシングの速度が速く、このため、アッシング中にレジスト下層膜の直下の基板が変質するのを防ぐことのできるレジスト下層膜材料を提供する。
【解決手段】リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト下層膜材料であって、少なくとも、ベースとして、炭素の含有量が５０質量％未満の炭素含有化合物、特には糖類を含むものであることを特徴とするレジスト下層膜材料。 （もっと読む）

【課題】 露光に対し高感度でありかつ可視域レーザ等を操作することによりデジタルデータに基づき直接パターン形成が可能な応用範囲の広い導電性パターン材料及びその形成方法を提供すること。
【解決手段】 支持体上に露光により直接に親疎水性が変化する官能基又は露光により発生した熱又は酸の作用により親疎水性が変化する官能基を有するパターン形成層を備えたパターン形成材料に対し、光照射手段からの光を受光し出射する描素部をｎ個有する光変調手段により前記光照射手段からの光を変調させた後、前記描素部における出射面の歪みによる収差を補正可能な非球面を有するマイクロレンズを配列したマイクロレンズアレイを通した光でパターン露光を行い、前記パターン形成層に親／疎水性パターンを形成し、該親／疎水性パターンを構成する親水性領域又は疎水性領域に導電性素材層を形成してなることを特徴とする導電性パターン材料及びその形成方法。 （もっと読む）

【課題】 高感度、高精度のハーフ露光パターンを得るための二層レジストの構造と、この二層レジストを用いて形成した薄膜トランジスタを具備した表示装置の製造方法を実現する。
【解決手段】 レジスト１２はベースフィルム１１、クッション層１０、上層レジスト８、下層レジスト７、カバーフィルム９の五層で構成される。構造材の厚みは、ベースフィルム１１が５０乃至１００μm、クッション層１０が１０乃至３０μm、上層レジスト８が０．５乃至１．０μm、下層レジスト７が０．５乃至１．０μm、カバーフィルム９が１０乃至３０μmである。 （もっと読む）

【課題】多層レジストプロセス用のレジスト下層膜材料であって、基板エッチング後に行うアッシングの速度が速く、このため、アッシング中にレジスト下層膜の直下の基板が変質するのを防ぐことのできるレジスト下層膜材料を提供する。
【解決手段】リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト下層膜材料であって、少なくとも、αヒドロキシメチルアクリレートを繰り返し単位として含むものであることを特徴とするレジスト下層膜材料。 （もっと読む）

【課題】円筒状印刷版に使用される継ぎ目がない印刷基材用円筒状クッション体の簡便な製造方法、及び連続図柄の印刷が可能であるクッション層を有する円筒状印刷原版の簡便な製造方法の提供。
【解決手段】円筒状支持体（Ａ）上にシート状クッションテープ（ｂ）を貼り付け、円筒状クッション層（Ｂ）を製造する方法であって、円筒状支持体（Ａ）上にシート状クッションテープ（ｂ）を両端部が重ならないように巻きつけた際に、該シート状クッションテープ（ｂ）両端部の接合部位に存在する凹部に、厚さ０．０１ｍｍ以上０．５ｍｍ以下のシーリングフィルム（Ｃ）を橋かけして貼ることを特徴とする印刷基材用円筒状クッション体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 パターン形成材料上に結像させる像の歪みを抑制し、かつ、永久パターンが形成される基体に対して凹凸追従性に優れたパターン形成材料を用いることにより、前記永久パターンを高精細に、かつ、効率よく形成可能なパターン形成方法の提供。
【解決手段】 露光ヘッドについて、使用描素部指定手段により、使用可能な前記描素部のうち、Ｎ重露光（ただし、Ｎは２以上の自然数）に使用する前記描素部を指定する工程と、前記露光ヘッドについて、描素部制御手段により、前記使用描素部指定手段により指定された前記描素部のみが露光に関与するように、前記描素部の制御を行う工程と、支持体上に、クッション層と感光層とをこの順に有するパターン形成材料における該感光層に対し、前記露光ヘッドを走査方向に相対的に移動させて露光を行う工程とを含むことを特徴とするパターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】基板との密着性に優れ、所望の領域に種々の機能性材料を付与することで、安価な装置を用いて簡易に機能性パターンを形成しうるグラフトパターンの形成方法、及び、基板との密着性と導電性に優れた導電性パターンを安価な装置を用いて簡易に形成しうる導電性パターン形成方法を提供する。
【解決手段】露光によりラジカルを発生しうる基材表面上に、ラジカル重合可能な不飽和化合物を接触させ、３６０ｎｍ〜７００ｎｍの波長のレーザにより像様露光して、該基材表面上に基材と直接結合したグラフトポリマーをパターン状に生成させることを特徴とするグラフトパターン形成方法である。ここで形成されたグラフトポリマー生成領域に導電性を付与することで導電性パターンを形成しうる。 （もっと読む）

【課題】改良された印刷要素は、従来の印刷要素よりも一貫性のある印刷要素を提供する一体型フロア層、及び任意の圧縮性層を含んで形成できる。
【解決手段】一体型画像形成印刷面を有するレリーフ像印刷要素、及びレリーフ像印刷要素の調製方法を記載する。レリーフ像印刷要素は、寸法安定性基質層、硬化時の弾性が少なくとも４０％である、感光性樹脂、及びポリマーからなる群より選択される硬化したポリマーからなるフロア層、並びに少なくとも１つの画像形成材料層を含む。最も好ましくは、フロア層は、印刷要素の表面から面露光で硬化することで形成される。印刷要素は、基質層とフロア層との間に圧縮性層を更に含んでもよい。 （もっと読む）

【課題】 赤外線レーザー走査による画像記録および機上現像が可能であり、機上現像性を良好に保持しつつ、細線再現性および耐刷性が優れた平版印刷版原版、および、該平版印刷版原版を用いた平版印刷方法を提供する。
【解決手段】 支持体上に、酸性基を有する構造単位を有し、塩基性基を有する構造単位とエチレン性不飽和結合を有するモノマーの少なくとも一つがイオン結合により結ばれているポリマー、または塩基性基を有する構造単位を有し、酸性基を有する構造単位とエチレン性不飽和結合を有するモノマーの少なくとも一つがイオン結合により結ばれているポリマーを含む光重合層を有することを特徴とする平版印刷版原版。 （もっと読む）

レーザーおよび他の化学放射線のディジタル光源に露光した際の直接硬化による画像生成速度が増加している、改善されたディジタル的に画像を生成させ得る凸版印刷要素。本発明の印刷要素は、感光性樹脂層の下方に反射層を具備し、従って化学放射線の光子は反射層によって吸収されずに反射されて感光層の中に戻り、これによって印刷要素の硬化速度を向上させる。 （もっと読む）

【課題】 感光性樹脂組成物層を薄膜化しても、感光性樹脂組成物層が被着体表面の凹凸に追従性よくラミネートされ、被着体と感光性樹脂組成物層との未接着部分の発生が充分に抑制され、高い製造歩留まりを実現でき、露光時に感光性樹脂組成物層を大気中に曝露しても、優れた解像度、密着性及びレジスト形状が得られる感光性フィルムの提供。
【解決手段】 樹脂フィルム１０、クッション層１２及び感光性樹脂組成物層１４が順に積層され、クッション層１２は、樹脂フィルム１０と感光性樹脂組成物層１４とを結着可能で、樹脂フィルム１０に対する結着力が感光性樹脂組成物層１４に対する結着力よりも大きく、感光性樹脂組成物層１４は、２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体及びα−アミノアルキルフェノンを含有する感光性樹脂組成物からなり、室温で粘着性を示さない感光性フィルム。 （もっと読む）

【課題】 デジタル信号に基づいた走査露光による直接製版が可能であり、耐刷性に優れ、かつ不要な画像部における消去性の良好な平版印刷版原版を提供する
【解決手段】 支持体上に、炭素数５以上の脂肪族基、又は芳香族基を置換基として有するチオエーテル基を末端に有し、オニウム基を側鎖に有するポリマーを含有する中間層と、赤外線レーザー感光性ポジ型記録層と、を順次設けたことを特徴とする平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】ゲート電極近傍の過度のエッチングを抑制する方法を提供する。
【解決手段】 パターニングすべき膜４３，４４が形成された基板の上にアモルファスカーボン膜４６を形成する。アモルファスカーボン膜４６の表面上に所定の領域にパターニングされたレジストパターン４７を形成する。レジストパターン４７をマスクとして、アモルファスカーボン膜と、パターニングすべき膜の少なくとも下層部分４３を残して一部上層部分をエッチングする。その後、レジストパターン４７を除去する。さらに、アモルファスカーボン膜４６をマスクとして、パターニングすべき膜の少なくとも下層部分４３を選択的にエッチングする。 （もっと読む）

【課題】多数枚重ねられても、画像記録層の傷付きが発生せず、また、裏面と画像記録層とが接着しない平版印刷版原版の提供。
【解決手段】板状の支持体と、前記支持体の一方の面に設けられた画像記録層とを有する平版印刷版原版であって、前記支持体の他方の面が陽極酸化皮膜を有し、かつ、前記陽極酸化皮膜上に厚さ５〜１００μｍのバックコート層を有する平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】多層レジストプロセス用、特には２層レジストプロセス用、３層レジストプロセス用のレジスト下層膜材料であって、基板からのアミン性の汚染物質を中和する機能があり、これにより、上層レジストのレジストパターンの裾引きなどの悪影響を低減できるレジスト下層膜材料、を形成する方法を提供する。
【解決手段】リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト下層膜材料であって、少なくとも、酸発生剤として、下記一般式（１）で示される繰り返し単位を有する重合体を含むものであることを特徴とするレジスト下層膜材料。
（もっと読む）

【課題】レジスト下層膜材料であって、必要により反射防止効果のあるレジスト中間層膜と併せることで露光光に対して優れた反射防止効果を示し、かつ、ポリヒドロキシスチレン、クレゾールノボラックなどよりも基板エッチング時のエッチング耐性に優れ、耐ポイゾニング効果が高く、多層レジストプロセス、例えば２層又は３層レジストプロセスでの使用に好適なレジスト下層膜材料を提供する。
【解決手段】リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト下層膜材料であって、少なくとも、下記一般式（１）で示される繰り返し単位を有する重合体を含むものであることを特徴とするレジスト下層膜材料。
（もっと読む）

【解決手段】式（１）で示されるビスフェノール基を有する化合物を含有するフォトレジスト下層膜形成材料。


（Ｒ¹、Ｒ²は水素原子、アルキル基、アリール基、又はアルケニル基、Ｒ³、Ｒ⁴は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アセタール基、アシル基、又はグリシジル基、Ｚは芳香族骨格を含む２価の炭化水素基、縮合多環式炭化水素基であってもよく、また、炭化水素基中にヘテロ原子を含んでいてもよい。）
【効果】本発明のフォトレジスト下層膜形成材料は、必要により反射防止効果のある中間層と組み合わせることにより、２００ｎｍ以上の膜厚で十分な反射防止効果を発揮できる吸光係数を有し、基板加工に用いるＣＦ₄／ＣＨＦ₃系ガス、Ｃｌ₂／ＢＣｌ₃系ガスエッチング速度も通常のｍ−クレゾールノボラック樹脂よりも強固で、高いエッチング耐性を有し、パターニング後のレジスト形状も良好である。 （もっと読む）