【課題】ＥＵＶ光によるリソグラフィ工程において、アウトガスの発生を抑制し、かつ製造コストの低減を図る。
【解決手段】半導体装置の製造方法は、基板１０上に減圧又は真空雰囲気下においてアウトガスを発生する膜１１及び１２を形成する工程と、前記膜上に前記膜が露出しないように、減圧又は真空雰囲気下において前記膜よりも単位面積あたりのアウトガスの発生量が少ないレジスト膜１３を形成する工程と、前記レジスト膜に対してＥＵＶ（Extreme Ultra Violet）光によるパターン光を照射し、前記レジスト膜を露光する工程と、前記レジスト膜を現像する工程と、前記レジスト膜及び前記膜、又は前記膜をマスクとして前記基板を加工する工程と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】
硬化性が高い一方、室温での保存安定性の悪いシロキサンポリマーを含む被膜形成用塗布液について、保存安定性を向上させる。
【解決手段】
Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を有すると共にシラノール基を有する重合体と、式Ｒ^１（ＯＣＨ_２ＣＨＣＨ_３）_ｎＯＣＯＣＨ_３（Ｒ^１は炭素数１乃至４のアルキル基を示し、ｎは１又は２を示す）で表される有機溶媒と、シス型の二価カルボン酸を溶解可能な有機溶媒と、シス型の二価カルボン酸とを含む被膜形成用塗布液を用いる。 （もっと読む）

【課題】剥離時にカバーフィルムと感光性樹脂層との剥離性が良好で、剥離前にはカバーフィルムと感光性樹脂層との密着性が良好な感光性転写材料を提供する。
【解決手段】仮支持体と、層表面を二次イオン質量分析計で測定したときのモノマー二次イオン強度Ａ及びトータル二次イオン強度Ｂの比（Ａ／Ｂ）が０．００１７〜０．０１４５である感光性樹脂層と、前記感光性樹脂層の表面に接して設けられたカバーフィルムと、をこの順に有する感光性転写材料である。 （もっと読む）

【課題】高湿度の環境下で長期保存をしても感光層と裏塗り層が張り付いたり、感光層が剥がれる事がなく、更に裏からの光の反射、散乱による画質の低下が改善されたプロセスレス平版印刷版を提供する事である。
【解決手段】プラスチックフィルム支持体上に親水性層と、側鎖にビニル基が置換したフェニル基を有するカチオン性水溶性重合体または側鎖にビニル基が置換したフェニル基及びスルホン酸基を含有する水溶性重合体と、光重合開始剤または光酸発生剤を含有する感光層を少なくともこの順に有し、プラスチックフィルム支持体の該感光層を有する側の反対側の面に金属酸化物とカーボンブラックを含有する裏塗り層を有するプロセスレス感光性平版印刷版。 （もっと読む）

【課題】圧着・転写の処理量に応じてローラとの間の摩擦が低下しつつも、広幅状の転写材料を転写する際に長期的に気泡混入を防止することができる積層体の製造方法を提供する。
【解決手段】仮支持体上に転写層を有する広幅状の転写材料を基板に圧着する圧着ローラの前記仮支持体に対する静止摩擦係数の平均値が０．２５〜０．７の範囲であるときに、前記仮支持体と接する前記圧着ローラの軸芯方向における静止摩擦係数の相対標準偏差を０．２５以下に維持して圧着し、圧着後に前記仮支持体を剥離することにより前記転写層を前記基板に転写して積層体を作製する。 （もっと読む）

【課題】ＳｉＣの如き光透過性を有する基板材料上に所望のレジストパターンを精度よく且つ安定に形成することができるマスクパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】光透過性を有する半導体基板上に光反射膜を形成する。光反射膜の上にフォトレジストを形成する。半導体基板にフォーカス検出光を照射して光反射膜で反射される反射光に基づいて調整された焦点位置に原盤マスクを介して露光光を照射してフォトレジストを露光する。その後、フォトレジストの露光部分又は露光部分以外の部分を除去することによりフォトレジストにパターニング施す。 （もっと読む）

【課題】光触媒の作用により親水・撥水パターンを形成可能な平版印刷原版であって、親水性部分と撥水性部分とが十分なコントラストを有し、印刷濃度が良好な結果を得ることができる平版印刷原版を提供する。
【解決手段】基材上に、光触媒含有層と、撥水性薄膜層と、を順次積層した平版印刷原版であって、前記撥水性薄膜層の表面自由エネルギーが８ｍＪ／ｍ^２以上２０ｍＪ／ｍ^２以下である平版印刷原版である。これによれば、活性線を照射して、撥水性薄膜層を選択的に除去すると共に当該部分を親水化することにより、撥水性部分と親水性部分とが、十分なコントラストを有し、印刷濃度が良好な結果を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】透明性に優れ輝度の高い画素を形成することができる着色層形成用感放射線性組成物を提供すること。
【解決手段】本発明の着色層形成用感放射線性組成物は、（Ａ）着色剤、（Ｂ）デカハイドロナフチル基に代表される下記式（１）で表される基を有する重合体、（Ｃ）多官能性単量体、および（Ｄ）光重合開始剤を含有する。
【化１】


（式（１）において、Ｒはハロゲン原子、水酸基または１価の有機基を示し、ｎは０〜９の整数を示し、「＊」は結合手であることを示す。） （もっと読む）

【課題】顔料の含有率が高い場合であっても、高感度で硬化しうるとともに現像性に優れ、色相の良好な薄層着色領域を高精細で形成しうる着色硬化性組成物、該着色硬化性組成物により形成された薄層で色特性に優れた高精細の着色領域を備えるカラーフィルタ、及び、色特性に優れたカラーフィルタを備える固体撮像素子を提供することにある。
【解決手段】（ａ−１）顔料、（ａ−２）分子内に顔料母核構造とアミノ基とを有する化合物、および（ａ−３）酸基と重合性基を有する樹脂、を含む顔料分散液と、（Ｂ）オキシムエステル系開始剤と、（Ｃ）重合性化合物と、を含有する着色硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】基材との密着性、光堅牢性、及び耐熱性に優れた金属粒子含有膜を備え、種々の波長に対する遮光性に優れる遮光材料とその作製方法を提供すること。
【解決手段】基材と、該基材に結合した下記一般式（ｉ）で表されるポリマー、及び、該ポリマーに吸着させた金属イオン又は金属塩中の金属イオンを還元してなる金属粒子を含有する金属粒子含有膜と、を有する遮光材料、並びにその作製方法。
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【課題】微小網点再現性と印刷適性の両立可能な直描型水なし平版印刷版原版を提供すること
【解決手段】基板上に、少なくとも断熱層、感熱層およびシリコーンゴム層をこの順に有する直描型水なし平版印刷版原版であって、該断熱層が少なくともポリウレタン樹脂、活性水素基含有芳香族化合物および金属キレート化合物を含有し、該感熱層が少なくとも（Ａ）光熱変換物質、（Ｂ）金属含有有機化合物、（Ｃ）ノボラック樹脂および（Ｄ）ポリウレタン樹脂を含有し、（Ｃ）ノボラック樹脂と（Ｄ）ポリウレタン樹脂の重量比（ノボラック樹脂／ポリウレタン樹脂）が７以上５０以下であり、感熱層溶液として溶解度パラメーターが１９〜２４（ＭＰａ）^１／２の有機溶剤を１０重量％以上５０重量％以下含有するものを用いたことを特徴とする直描型水なし平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】
バリア性を示すレジスト下層膜を形成するための組成物、及びレジスト下層膜のバリア性を適当な数値に換算して評価する方法を提供する。
【解決手段】
バリア性を示すレジスト下層膜を形成するための組成物は、少なくとも１つのヒドロキシル基が結合した芳香族環を有する化合物と有機溶媒と架橋剤を含む。そして、所定の条件で第１のレジスト下層膜単層をベークする際に発生する昇華物の量、第２のレジスト下層膜単層を所定の条件でベークして形成する際に発生する昇華物の量、及び第１のレジスト下層膜上に第２のレジスト下層膜を所定の条件でベークして形成する際に発生する昇華物の量を定量した結果を用いて、第２のレジスト下層膜のバリア性を評価する。 （もっと読む）

【課題】長期保存後の平版印刷版の版面の部位による感度差が少なく、保存性が良好で、印刷画質が良好な平版印刷版を提供する。
【解決手段】支持体上の一方の面に少なくとも下塗層、ハロゲン化銀乳剤層及び物理現像核層をこの順に有する平版印刷版であり、該ハロゲン化銀乳剤層を有する側の層の少なくとも１層に現像主薬を含有し、前記支持体の他方の面に裏塗り層を有する平版印刷版において、該裏塗り層が２ｎｍ未満の細孔を有する無機多孔質化合物を含有することを特徴とする平版印刷版。 （もっと読む）

【課題】紫外光、可視光あるいは赤外光を放射する固体レーザー又は半導体レーザー光を用いて、デジタルデータから直接画像記録可能であり、高耐刷かつ耐汚れ性良好な平版印刷版を与える簡易処理型平版印刷版原版及びｐＨ２．０〜１０．０の水性現像液で現像可能であり、保存安定性に優れ、且つ非画像部の汚れを防止し、耐刷性に優れる平版印刷版を与える平版印刷版原版、並びにそれを用いた平版印刷版の作製方法及び平版印刷方法を提供する。
【解決手段】支持体上に、支持体吸着性基及び酸基を有し、酸基の少なくとも一部が塩基性化合物及び有機オニウムアルカリから選択される少なくとも１つの化合物により中和されている高分子化合物を含有する下塗り層とｐＨ１０以下の水溶液により現像可能であるか印刷機上において現像可能である画像形成層をこの順に有する平版印刷版原版並びにそれを用いた平版印刷版の作製方法及び平版印刷方法。 （もっと読む）

【課題】ダブルパターニング法によるパターン不良の発生を防止して、良好な形状を有する微細パターンを得られるようにする。
【解決手段】基板１０１の上にポジ型化学増幅レジストからなるレジスト膜１０２を形成し、その上にアルカリ可溶で芳香環を有するフッ素ポリマーを含む光吸収膜１０３を形成する。その後、第１のマスクを介した極紫外線からなる第１の露光光１０４をレジスト膜に光吸収膜を通して照射することにより第１のパターン露光を行う。続いて、第２のマスクを介した露光光１０５をレジスト膜に光吸収膜を通して照射することにより第２のパターン露光を行う。基板を加熱した後、レジスト膜を現像して光吸収膜を除去すると共にレジスト膜からレジストパターン１０２ａを形成する。第２のマスクの開口部は、第１のマスクにおける開口部が形成されていない非開口部に相当する領域に形成されている。 （もっと読む）

【課題】カバーフィルムを剥がす際に感熱マスク層に破れやキズを生じない高品位な樹脂凸版印刷版を作製できるコンピューター製版可能な感光性樹脂印刷版原版を提供することにある。
【解決手段】基板上に、水に溶解または分散可能な樹脂および紫外光により硬化可能なモノマーを含有する感光性樹脂層（Ａ）、接着力調整層（Ｂ）、および赤外線吸収物質を含有する感熱マスク層（Ｃ）がこの順に積層された感光性樹脂印刷原版であって、該接着力調整層（Ｂ）が少なくともアミン化合物を含有することを特徴とする感光性樹脂印刷版原版による。 （もっと読む）

【課題】カバーフィルム剥離時に感熱マスク層に破れやキズ、ピンホールを生じず、赤外レーザーの照射時に感熱マスク層が速やかに融除する、高品位な樹脂凸版印刷版を作製できるコンピューター製版可能な感光性樹脂印刷版原版を提供することにある。
【解決手段】基板上に、水に溶解または分散可能な樹脂および紫外光により硬化可能なモノマーを含有する感光性樹脂層（Ａ）、接着力調整層（Ｂ）、および赤外線吸収物質を含有する感熱マスク層（Ｃ）、剥離補助層（Ｄ）、剥離補助層（Ｄ）に接する面の表面粗さＲａが０．１〜０．６μｍであるカバーフィルム（Ｅ）を有する感光性樹脂印刷版原板において、剥離補助層（Ｄ）が特定の官能基を有する陰イオン界面活性剤を含有することを特徴とする感光性樹脂印刷版原版による。 （もっと読む）

【解決手段】(A)式(1)の化合物と式(2)の化合物との加水分解縮合で得られる金属酸化物含有化合物、
Ｒ¹_m1Ｒ²_m2Ｒ³_m3Ｓｉ(ＯＲ)_(4-m1-m2-m3) (1)
(Ｒはアルキル基、Ｒ¹〜Ｒ³はＨ又は１価有機基、m1〜m3は０又は１。m1＋m2＋m3は０〜３。)
Ｕ(ＯＲ⁴)_m4(ＯＲ⁵)_m5 (2)
(Ｒ⁴、Ｒ⁵は有機基、m4、m5は０以上の整数、Ｕは周期律表のＩＩＩ〜Ｖ族の元素。)
(B)式(3)又は(4)の化合物、
Ｌ_aＨ_bＸ (3)
(ＬはＬｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｒｂ又はＣｓ、Ｘは水酸基又は有機酸基、ａは１以上、ｂは０又は１以上の整数、ａ＋ｂは水酸基又は有機酸基の価数。)
Ｍ_aＨ_bＡ (4)
(Ｍはスルホニウム、ヨードニウム又はアンモニウム、ＡはＸ又は非求核性対向イオン、ａは１以上、ｂは０又は１以上の整数。)
(C)有機酸、
(D)有機溶剤
を含む熱硬化性金属酸化物含有膜形成用組成物。
【効果】本発明組成物で形成された金属酸化物含有中間膜を用いることで、良好なパターン形成ができる。 （もっと読む）

【課題】被処理基板依存性の低いレジストパターンを形成することができるレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】被処理基板上に、酸とその酸の塩とを含む緩衝剤含有膜を形成する工程と、前記緩衝剤含有膜の上に、光酸発生剤を含むフォトレジスト膜を形成する工程と、前記フォトレジスト膜を露光する工程と、前記フォトレジスト膜を現像する工程と、を備えたことを特徴とするレジストパターン形成方法が提供される。 （もっと読む）

【課題】良好な形状を有する微細なパターンを得ることのできるダブルパターニングを用いたパターン形成方法を提供することにある。
【解決手段】基板１０１上に下層膜１０２、中間層膜１０３を形成した後、第１のレジスト膜１０４を用いた１回目のパターン露光、及び第２のレジスト膜１０７を用いた２回目のパターン露光で形成されたレジストパターンを中間層膜１０３に転写し、さらに中間層パターン１０３ｂをマスクに下層膜１０２をエッチングして下層膜パターン１０２ｂを形成する。ここで、下層膜１０２は、フッ素系の界面活性剤又は無機のナノパーティクルを添加物として含み、酸素系プラズマに対する耐性が付与されている。 （もっと読む）