【課題】印刷版、特に、クッション性を有することにより、硬質な被印刷物に対してブランケットロールを用いないダイレクトなグラビア印刷が可能であり、段ボール印刷等、粗面に対するグラビア印刷が良好に行えて、液晶パネル用ガラスへカラーフィルタを構成するためのマトリックス画像をカラー印刷する、あるいはコンパクトディスク等に画像をカラー印刷するのに好適であるクッション性を有するグラビア版及びその製造方法を提供する。
【解決手段】ゴムまたはクッション性を有する樹脂からなるクッション層と、該クッション層の表面に形成されたネガ型感光性組成物層と、該ネガ型感光性組成物層の表面に形成されたグラビアセルと、を含み、該ネガ型感光性組成物層がネガ型感光性組成物からなり、該ネガ型感光性組成物が所定の組成を含有するようにした。 （もっと読む）

【課題】良好な形状を有する微細なパターンを得ることのできるダブルパターニングを用いたパターン形成方法を提供することにある。
【解決手段】基板１０１上に下層膜１０２、中間層膜１０３を形成した後、第１のレジスト膜１０４を用いた１回目のパターン露光、及び第２のレジスト膜１０７を用いた２回目のパターン露光で形成されたレジストパターンを中間層膜１０３に転写し、さらに中間層パターン１０３ｂをマスクに下層膜１０２をエッチングして下層膜パターン１０２ｂを形成する。ここで、下層膜１０２は、フッ素系の界面活性剤又は無機のナノパーティクルを添加物として含み、酸素系プラズマに対する耐性が付与されている。 （もっと読む）

【課題】紫外光、可視光及びあるいは赤外光を放射する固体レーザー及び又は半導体レーザー光を用いて記録することによりコンピューター等のデジタルデータから直接製版可能な平板版印刷版原版、特に、ｐＨ１０以下の水溶液や印刷機上において現像可能な高耐刷かつ耐汚れ性良好な簡易処理型平版印刷版の製版方法を提供する。
【解決手段】アルミニウム支持体上に感光層を有する平版印刷版原版を、特定の官能基を有する化合物を含有するｐＨ１０以下の現像液で現像するか、ｐＨ１０以下の現像液により現像した後、該官能基の何れかを有する化合物を含有するｐＨ１０以下の水溶液で非画像部のアルミニウム支持体表面を処理することを特徴とする平版印刷版の製版方法。 （もっと読む）

【課題】紫外光、可視光及びあるいは赤外光を放射する固体レーザー及び又は半導体レーザー光を用いて記録することによりコンピューター等のデジタルデータから直接製版可能な平板版印刷版原版、特に、ｐＨ１０以下の水溶液や印刷機上において現像可能な高耐刷かつ耐汚れ性良好な簡易処理型平版印刷版の製版方法を提供する。
【解決手段】アルカリ金属シリケート処理されたアルミニウム支持体上に感光層を有する平版印刷版原版を、以下の一般式（１）または（２）で表される官能基の何れかを有する化合物を含有するｐＨ１０以下の現像液で現像するか、ｐＨ１０以下の現像液により現像した後、以下の一般式（１）または（２）で表される官能基の何れかを有する化合物を含有するｐＨ１０以下の水溶液で非画像部のアルミニウム支持体表面を処理することを特徴とする平版印刷版の製版方法。 （もっと読む）

【課題】後染色工程を必要とせずに検版が可能であり、明室での取り扱いが可能で、シリコーンゴム層中での色素定着性に優れ、且つ高感度な水なし平版印刷版原版を提供すること。
【解決手段】基板上に、感光層または感熱層、および有色顔料を含むシリコーンゴム層を有する水なし平版印刷版原版であって、前記有色顔料のシリコーンゴム層中における体積濃度が５体積％以下であり、かつ有色顔料の平均粒子径が４００ｎｍ以下であることを特徴とする水なし平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】所望のレジストパターンプロファイルを得ることができるレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】被処理基板の上にレジスト膜を形成する工程と、レジスト膜における被処理基板側の底部の方が表面側の上部よりも温度が高くなるようにレジスト膜の膜厚方向に温度勾配を生じさせるベーク工程と、レジスト膜を露光する工程と、レジスト膜を現像する工程とを備えている。 （もっと読む）

【課題】有機高分子化合物を含有するバックコート層を有する平版印刷版原版から製版するに当たって、版の裏面から版面保護層が剥離することを抑制し、搬送、折り、孔穿、集積、印刷等の工程を汚染することのない、平版印刷版の製版方法を提供する。
【解決手段】アルミニウム支持体の片面に感光性記録層を有し、感光性記録層を有する面に対して反対面のアルミニウム支持体上に有機高分子化合物を含有するバックコート層を有する平版印刷版原版を、画像様に露光し、現像処理した後に、下記一般式（１）で示される共重合体を含む版面保護液で処理する製版方法。
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【解決手段】（Ａ−１）酸を触媒として用いて加水分解性ケイ素化合物を加水分解縮合することにより得られるケイ素含有化合物、
（Ａ−２）塩基を触媒として用いて加水分解性ケイ素化合物を加水分解縮合することにより得られるケイ素含有化合物、
（Ｂ）式（１）又は（２）で表される化合物、
Ｌ_aＨ_bＸ （１）
（ＬはＬｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｒｂ又はＣｅ、Ｘは水酸基、又は有機酸基であり、ａは１以上、ｂは０又は１以上）
Ｍ_aＨ_bＡ （２）
（Ｍはスルホニウム、ヨードニウム又はアンモニウムであり、Ａは上記Ｘ又は非求核性対向イオン）
（Ｃ）有機酸、
（Ｄ）環状エーテルを置換基として有するアルコール、
（Ｅ）有機溶剤
を含む熱硬化性ケイ素含有膜形成用組成物。
【効果】本発明の熱硬化性ケイ素含有膜形成用組成物で形成されたケイ素含有中間膜を用いることで、良好なパターン形成ができる。また、フォトレジストパターンを転写可能で、基板を高い精度で加工できる。 （もっと読む）

【解決手段】（Ａ）酸を触媒として用いて加水分解性ケイ素化合物を加水分解縮合することにより得られるケイ素含有化合物、
（Ｂ）式（１）又は（２）で表される化合物、
Ｌ_aＨ_bＸ （１）
（ＬはＬｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｒｂ又はＣｅ、Ｘは水酸基、又は有機酸基であり、ａは１以上、ｂは０又は１以上）
Ｍ_aＨ_bＡ （２）
（Ｍはスルホニウム、ヨードニウム又はアンモニウムであり、Ａは上記Ｘ又は非求核性対向イオン）
（Ｃ）有機酸、
（Ｄ）環状エーテルを置換基として有するアルコール、
（Ｅ）有機溶剤
を含む熱硬化性ケイ素含有膜形成用組成物。
【効果】本発明の熱硬化性ケイ素含有膜形成用組成物で形成されたケイ素含有中間膜を用いることで、良好なパターン形成ができる。また、フォトレジストパターンを転写可能で、基板を高い精度で加工できる。 （もっと読む）

【課題】高密度に金属粒子が存在し、且つ、支持体に対する密着性に優れた画像様の金属膜を備えた薄層金属膜材料を提供すること。
【解決手段】本発明の薄層金属膜材料は、支持体と、該支持体上に重合性基を有するカップリング剤を用いて形成された中間層と、該中間層に対し、架橋性基を有する化合物を含む組成物を接触させた後、該組成物に画像様にエネルギーを付与して生成した、該中間層表面に直接結合してなるポリマーからなる画像様のポリマー層と、該画像様のポリマー層中に含有される金属粒子と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】エッジ形状が良好で段差のない、しかも高光学濃度であるカラーフィルターを提供できるカラーフィルター形成方法及びそれにより得られるカラーフィルターを提供する。
【解決手段】（１）支持体上に少なくとも光熱変換層、レッド（Ｒ）、グリーン（Ｇ）、ブルー（Ｂ）またはブラック（Ｋ）の画像形成層を有する４種のレーザー熱転写シートを受像シートと重ねあわせ熱転写シート側からレーザー光を像様に照射して受像シート上に画像形成層を転写してＲ、Ｇ、Ｂ及びＫからなる画像を形成する方法であって、該４種のレーザー熱転写シートの少なくとも１種を２回以上転写することを特徴とするカラーフィルターの形成方法。 （もっと読む）

【課題】熱リソグラフィーを応用して、簡便に微細中空体を形成する方法、および該方法により形成された微細中空体の提供。
【解決手段】支持体とレジスト膜との間に、熱リソグラフィーにおいて用いられる露光光源の波長の光を吸収するレジスト下層膜を有するレジスト積層体に対し、前記レジスト下層膜に吸収される波長の光を用いて選択的露光を行うことを特徴とする、微細中空体の形成方法、および該微細中空体の形成方法により形成された微細中空体。 （もっと読む）

【課題】本発明は、半導体素子の微細パターン形成方法に関する。
【解決手段】より具体的には被食刻層が備えられた基板上に第１〜第３のマスクパターンからなる積層パターンを形成する段階と、前記第３のマスク膜を食刻バリアに利用して第２のマスクパターンを側面食刻する段階と、前記第３のマスクパターンを除去する段階と、前記第２のマスクパターンの上部を露出するスピンオンカーボン層を形成する段階と、前記スピンオンカーボン層を食刻バリアに利用して被食刻層を露出させる段階と、前記スピンオンカーボン層を除去する段階とを含む半導体素子の微細パターン形成方法に関する。 （もっと読む）

【解決手段】フォトレジスト材料を基板上に塗布する工程と、加熱処理後、炭素数４〜１０の高級アルコールを含む溶液でフォトレジスト膜表面を濡らした後に、保護膜を塗布し、加熱処理後、高エネルギー線で露光する工程と、現像液を用いて現像する工程とを含むことを特徴とするパターン形成方法。
【効果】本発明のパターン形成方法によれば、フォトレジスト膜は、保護膜を適用する液浸リソグラフィープロセスにおいて、保護膜を塗布する前にレジスト膜表面を炭素数４〜１０の高級アルコールで濡らしておいてから保護膜を塗布することによって、レジスト添加物の保護膜層への移動を防ぐことによってパターン形状の変化を最小限に抑えることができる。また、アルコール処理によってレジスト膜表面を親水性化することによってブロッブ欠陥の発生を防ぎ、保護膜を塗布するときのディスペンス量を削減することができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、高強度で、厚み精度および寸法精度が高く、短時間に作成できる印刷用中空芯材または中空円筒状印刷基材の提供することを目的とする。
【解決手段】短繊維を含む印刷用中空芯材用感光性樹脂組成物（Ａ１）であって、前記短繊維が、そのアスペクト比が５以上５０００以下であり、２０℃において液状であって、２０℃における粘度が０．１Ｐａ・ｓ以上５０ｋＰａ・ｓ以下である感光性樹脂組成物（Ａ１）を開示する。 （もっと読む）

【課題】ダブルパターニングの解像度を最大限に発揮し得るパターン形成方法を提供することにある。
【解決手段】基板１０１上に下層膜１０２、中間層膜１０３、及び第１のレジスト膜１０４を形成した後、１回目の露光を行い、第１のレジストパターン１０４ａを形成する。その後、第１のレジストパターン１０４ａを中間層膜１０３に転写して、第１の中間層パターン１０３ａを形成した後、その上に第２のレジスト膜１０７を形成し、２回目の露光を行い、第２のレジストパターン１０７ａを形成する。その後、第２のレジストパターン１０７ａを中間層膜１０３に転写して、第２の中間層パターン１０３ｂを形成する。第２のレジスト膜１０７を除去後、第２の中間層パターン１０３ｂをマスクに下層膜１０２をエッチングして、下層膜パターン１０２ｂを形成する。 （もっと読む）

【課題】
半導体装置製造のリソグラフィープロセスにおいて用いられるレジスト下層膜形成組成物を提供する。
【解決手段】 半導体装置製造のリソグラフィープロセスにおいてフォトレジストの下層に使用されるレジスト下層膜を電子線照射によって硬化する組成物であって、重合性物質を含むレジスト下層膜形成組成物。前記重合性物質が電子線照射により重合可能な反応性基を少なくとも一つ有する化合物である。電子線照射による重合可能な反応性基が、炭素と炭素の不飽和多重結合を有する反応性基、又はエポキシ基を有する反応性基である。炭素と炭素の不飽和多重結合を有する反応性基が、アクリレート基、メタクリレート基、又はビニルエーテル基である。 （もっと読む）

【課題】感度、耐刷性を劣化させることなく、保存安定性に優れたレーザー光での直接描写可能なネガ型感光性平版印刷版を提供することである。
【解決手段】支持体に中間層及び感光層を有する感光性平版印刷版において、該感光層が重合開始剤及び重合性化合物を含有し、該中間層がピペリジン環構造を有する高分子化合物を含有することを特徴とする感光性平版印刷版。 （もっと読む）

【課題】熱リソグラフィーによって形状に優れたレジストパターンを形成できる熱リソグラフィー用レジスト組成物、該熱リソグラフィー用レジスト組成物を用いたレジスト積層体、該レジスト積層体を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】熱リソグラフィーにおいて用いられる露光光源の波長の光を吸収する熱リソグラフィー用下層膜上に、前記露光光源の波長の光に感光しないレジスト膜を形成するための熱リソグラフィー用レジスト組成物であって、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）と、熱の作用により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とが、ポリアルキレングリコール系溶剤（Ｓ１）を含む有機溶剤（Ｓ）に溶解してなることを特徴とする熱リソグラフィー用レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】クッション層を支持体から簡便にしかも短時間で除去することが可能な印刷基材の提供。
【解決手段】支持体上にクッション層が積層された印刷基材であって、該クッション層が、その内部に繊維又はフイルムからなる強化材を有する印刷基材、及び、（ａ）円筒状支持体上にシート状繊維強化材を少なくとも１周巻き付ける工程と、（ｂ）前記シート状繊維強化材を内部に有するクッション層を形成する工程と、を含む円筒状印刷基材の製造方法。 （もっと読む）