【課題】支持体の素材に関わらず、非画像部の親水性とその持続性に優れ、更に画像部と支持体との密着性に優れた平版印刷版原版を提供すること。
【解決手段】支持体上に、該支持体表面と直接化学結合しうる反応性基、及び、該支持体表面と架橋構造を介して化学結合しうる反応性基のうちの少なくとも１種の反応性基と、正電荷を有する置換基と、を有する親水性ポリマーが前記支持体表面に化学結合してなる親水性層と、画像形成層と、をこの順で有することを特徴とする平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】アルミニウム純度が９９．４〜９５質量％の比較的低純度のアルミニウムを用いた場合であっても、耐汚れ性、耐刷性、および感度のいずれにも優れるポジ型平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】アルミニウム含有量が９９．４〜９５質量％であるアルミニウム基板上に、アルミニウム基材表面と直接化学結合し得る反応性基、及び、アルミニウム基材表面と架橋構造を有する構成成分を介して化学結合しうる反応性基、のうちの少なくとも１種の反応性基を有する親水性ポリマーが化学結合してなる層と、ポジ型画像形成層と、をこの順に有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】非画像部の現像速度が良好であり、汚れを防止するとともに、現像浴中の現像カス発生が抑制され現像処理安定性に優れた平版印刷版の作製方法を提供すること。
【解決手段】支持体上に、（Ａ）開始剤化合物、（Ｂ）重合性化合物及び（Ｃ）バインダーを含有する感光層を有する平版印刷版原版を、画像様露光後、ｐＨが２〜１０の現像液を用いて処理することにより非露光部の感光層を除去する平版印刷版の作製方法であって、前記現像液が、特定の界面活性剤を含有することを特徴とする平版印刷版の作製方法。 （もっと読む）

【目的】ポリイミド残渣を除去して、且つ、高精度で開口寸法を確保できるポリイミドのパターン形成方法を提供する。
【解決手段】第１のポリイミド用レジストマスク６でポリイミド２のパターニングを行い、第２のポリイミド用レジストマスク１２でポリイミド残渣７を除去することで、ポリイミド２のサイドエッチを防止しながらポリイミド残渣７を除去して、高精度で開口寸法を確保できる。 （もっと読む）

【課題】乾燥後の感放射線性樹脂組成物のタック性が乏しくても、カバーフィルムの粘着力により、感放射線性樹脂組成物とカバーフィルムの密着性が良好であり、また容易にカバーフィルムを剥離できるドライフィルムレジストを提供すること。
【解決手段】ベースフィルム上に厚さ２〜２００μｍの感放射線性樹脂組成物層を有する積層フィルムと、フィルム上に自己粘着性樹脂層を有するカバーフィルムとが、感放射線性樹脂組成物層と自己粘着性樹脂層とが直接接触するように積層されているドライフィルム。 （もっと読む）

【課題】エッチング耐性に優れ、ドライエッチングプロセスにおいて、下層膜パターンが折れ曲がり難く、レジストパターンを忠実に再現性よく被加工基板に転写することが可能なレジスト下層膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】レジスト下層膜形成用組成物は、（Ａ）ターシャリブトキシカルボニル基を含むフラーレン誘導体化合物と、（Ｂ）溶剤と、を含有するレジスト下層膜形成用組成物。 （もっと読む）

【課題】ゲートパターンを形成するとき、セル領域のＣＤは一定に維持しつつ、周辺領域のＣＤのみ選択的に縮小することができる半導体素子の製造方法を提供すること。
【解決手段】セル領域と周辺領域を有する基板上にゲート用導電物質層を形成するステップと、該ゲート用導電物質層上にハードマスクパターンを形成するステップと、前記セル領域のハードマスクパターンを備える全体構造上に前記周辺領域を露出させるマスクパターンを形成するステップと、前記周辺領域のハードマスクパターンをトリミングするステップと、前記マスクパターンを除去するステップと、前記ハードマスクパターンを用いて前記ゲート用導電物質層をエッチングしてゲートパターンを形成するステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】赤外線レーザーにより画像記録が可能であり、実用的なエネルギー量で良好な印刷物を多数枚得ることができ、インキ着肉性も良好な平版印刷版原版およびその製造方法を提供する。
【解決手段】支持体上に、画像記録層およびオーバーコート層をこの順に有する平版印刷版原版であって、該オーバーコート層中に含まれる全ポリマー成分中５０質量％以上のポリマー成分が質量平均分子量１１万以上のポリマーであることを特徴とする平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】微小網点の現像ラチチュードの広い直描型水なし平版印刷版原版を提供すること。
【解決手段】基板上に、少なくとも断熱層、感熱層およびシリコーンゴム層をこの順に有する直描型水なし平版印刷版原版であって、該感熱層が少なくとも（Ａ）光熱変換物質、（Ｂ）金属含有有機化合物、（Ｃ）ノボラック樹脂および（Ｄ）ポリウレタン樹脂を含有し、（Ｃ）ノボラック樹脂と（Ｄ）ポリウレタン樹脂の重量比（ノボラック樹脂／ポリウレタン樹脂）が７以上５０以下であることを特徴とする直描型水なし平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】インプリント法において、モールドパターン破壊を低減するインプリントモールドおよびその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明のインプリント用モールドは、凹凸状パターンの少なくとも凹部の角をラウンド形状にしたことを特徴とすることにより、インプリントにおけるモールド離型時に、モールド材料中の応力集中を緩和することが出来る。このため、モールドパターンの破壊を低減することが可能となる。特に、高アスペクト比のパターン転写であってもモールドパターン破壊を低減することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】レーザー露光による書き込みが可能な平版印刷版原版であり、また、合紙を挟み込むことなく積層した際の版材同士の接触による感光性記録層側の擦りキズの発生、及び版材同士の滑りを防止しうる平版印刷版原版、並びに該平版印刷版原版の積層体を提供する。
【解決手段】支持体上の一方の面に感光性記録層を有し、前記支持体の他方の面にロジンを含有するバックコート層を有することを特徴とする平版印刷版原版、及び該平版印刷版原版の積層体。 （もっと読む）

【課題】レーザ露光による書き込みが可能であり、また、合紙を挟み込むことなく積層した際の印刷版同士による擦れキズを防止しうる平版印刷版原版を提供すること。また、印刷版同士による擦れキズが防止され、製版作業における生産性を向上しうる平版印刷版原版の積層体を提供すること。
【解決手段】支持体の一方の面に感光性記録層を有し、前記支持体の他方の面にエポキシ樹脂を含有するバックコート層を有することを特徴とする平版印刷版原版、及びその積層体。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、取り扱い等による製版工程での傷が発生せず重大なトラブルのない、耐刷力の高く、耐薬品性に優れた良好な平版印刷版材料、且つ該平版印刷版材料を用い画像情報に基づきレーザー露光し、現像処理を施さずに印刷することを特徴とする印刷方法を提供することにある。
【解決手段】アルミニウム支持体上に、親水性層、画像形成層を順次有する平版印刷版材料において、該親水性層にコロイダルシリカおよび珪酸塩化合物を含有することを特徴とする平版印刷版材料。 （もっと読む）

【課題】直線性に優れたパターンを形成できる緑色感光性樹脂組成物、それを用いた感光性転写材料、良好な色度と高い色純度とを有するカラーフィルタ基板、及び該カラーフィルタ基板を備えた表示装置の提供。
【解決手段】顔料と、顔料分散剤と、バインダーと、光重合性化合物と、光重合開始剤と、を少なくとも含有し、前記顔料の少なくとも一種が下記一般式で表される化合物であり、前記顔料分散剤の少なくとも一種がアミノ基を含有する化合物であることを特徴とする緑色感光性樹脂組成物及びそれを用いて作製した感光性転写材料並びにそれらを用いたカラーフィルタ基板及びこの基板を備えた表示装置
【化１】



（式中、Ｍは所定の金属原子を表す。Ｘ_１〜Ｘ_１６のうちの任意の８〜１６箇所は所定のハロゲン原子で表され残りは水素原子で表される。Ｙはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子又は酸素原子を表し、ｍは０〜２の整数を表す。） （もっと読む）

【課題】本発明は、光や電子線に対する感度が高く、より少ない露光で、明瞭かつ微細なパターンを形成可能なレジスト材料を提供することを主目的とするものである。
【解決手段】上記目的を達成するために、本発明は、金属化合物を有するレジスト材料であって、上記金属化合物を構成する金属元素が、第１４族または第１５族の金属元素であり、かつ、上記金属化合物が化学量論的に不完全な化合物であることを特徴とするレジスト材料を提供する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、光や電子線に対する感度が高く、より少ない露光で、明瞭かつ微細なパターンを形成可能なレジスト材料を提供することを主目的とするものである。
【解決手段】上記目的を達成するために、本発明は、金属化合物を有するレジスト材料であって、上記金属化合物を構成する金属元素が、第１４族または第１５族の金属元素であり、かつ、上記金属化合物が化学量論的に不完全な化合物であることを特徴とするレジスト材料を提供する。 （もっと読む）

【課題】
配線パターンが形成された半導体ウェーハ等のパターン間の段差を埋めて平坦化するための塗装方法を提供する。
【解決手段】
基板Ｗ上には複数の配線パターン１が形成されており、それらの間隙が段差となっている。この段差のある基板Ｗを不揮発分濃度の高い塗布液で処理して大まかな厚さの塗膜２を得る（ａ）。次に、不揮発分濃度の低い塗布液で、段差に残った窪みの埋め込み処理を行う。この場合、低濃度の塗布液は頭頂部１ａに溜まることなく低い段差部へ流動して塗膜３を形成する（ｂ）。 （もっと読む）

【課題】フォトレジストなどの高価の工程を経なくても高解像度の微細パターン形成が可能なので、製造工程を単純化し且つ製造コストを節減することが可能な有機層パターン形成方法の提供。
【解決手段】ヘテロ原子を含むヘテロ芳香族ペンダント基をポリイミド主鎖に持つポリイミド系高分子、光開始剤および架橋剤を含むコーティング液を塗布および乾燥して薄膜を形成する段階と、得られた薄膜を、所望のパターンが形成されたフォトマスクを介して露光させた後、露光した薄膜を現像して前記薄膜の非露光部を除去することにより、ネガティブパターンを得る段階とを含む、有機層パターン形成方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】熱リソグラフィーにおいて、熱変換体として利用でき、かつ有機材料で構成される熱リソグラフィー用下層膜形成用材料、該熱リソグラフィー用下層膜形成用材料を用いたレジスト積層体およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】支持体とレジスト膜との間に熱リソグラフィー用下層膜を形成するための熱リソグラフィー用下層膜形成用材料であって、膜形成能を有する有機化合物（Ａ１）と、熱リソグラフィーにおいて用いられる露光光源の波長の光を吸収する染料（Ｂ）とを含有し、当該熱リソグラフィー用下層膜形成用材料を用いて形成される熱リソグラフィー用下層膜が、前記露光光源の波長において、膜厚１００ｎｍあたり０．２６以上の吸光度を有する有機膜であることを特徴とする熱リソグラフィー用下層膜形成用材料。 （もっと読む）

【課題】支持体上に高精細かつ高アスペクト比のパターンを形成できるパターン形成方法の提供。
【解決手段】支持体上に下層膜を形成する工程、該下層膜上にシリコン系ハードマスクを形成する工程、該ハードマスク上に化学増幅型ネガ型レジスト組成物を塗布して第一のレジスト膜を形成する工程、第一のマスクパターンを介して該レジスト膜を選択的に露光・現像して第一のレジストパターンを形成する工程、該レジストパターンをマスクとし、ハードマスクをエッチングして第一のパターンを形成する工程と、前記第一のパターン上に化学増幅型ポジ型シリコン系レジスト組成物を塗布して第二のレジスト膜を形成する工程、第二のマスクパターンを介して該レジスト膜を選択的に露光・現像して第二のレジストパターンを形成する工程、該レジストパターンをマスクとし、下層膜をエッチングして第二のパターンを形成する工程とを含むことを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）