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Fターム[2H041AA06]の内容

機械的光制御・光スイッチ (6,180) | 制御パラメータ・機能 (1,713) | 強度 (287) | 同時に複数の光路 (18)

Fターム[2H041AA06]に分類される特許

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【課題】共焦点レーザー走査型顕微鏡の観察光と刺激光による試料の高速走査を目的とする。
【解決手段】本発明では、試料を観察する観察用励起光を走査する為の第1の走査光学系と、試料の一部分を光刺激する刺激光を走査する為の第2の走査光学系とを備える共焦点レーザー走査型顕微鏡に、観察用励起光および刺激光を同時多点に反射できるマイクロミラーデバイスを備えた構成とする。 (もっと読む)


【課題】反射型空間変調素子を用いたレーザ加工装置において、反射型空間変調素子の反射面の劣化を遅延させ、装置寿命を向上できるようにする。
【解決手段】レーザ加工装置100が、レーザ光源30と、レーザ光源30から出射されたレーザ光31bを空間変調する空間変調素子6と、空間変調素子6によって一定方向に向けて反射されたオン光32を加工可能領域内に結像する結像レンズ7および対物レンズ10と、レーザ光源30と空間変調素子6との間の光路上に配置される可変マスク5と、空間変調素子6の空間変調データを生成する空間変調データ生成部と、空間変調データに基づいて、微小ミラーの傾斜角を切り換える空間変調素子駆動制御部24と、空間変調データに基づいて、照射領域の大きさおよび位置を設定する照射領域設定部とを備える。 (もっと読む)


【課題】 映像表示に利用されないオフ光を利用して各々の光源の光出力を補正することによって、各光源の效率が一定でない場合に発生し得る映像の歪曲を防止することができる映像再生装置及びその制御方法を提供する。
【解決手段】 本発明は、映像再生装置及びその制御方法に関する。本発明の映像再生装置は、相異なる色の光を出力する複数の光源と;前記複数の光源から出力された光を映像表示に利用するための第1方向と、前記第1方向と異なる第2方向のうちのいずれか一方向に反射させる複数のミラーエレメントを備えたデジタルミラーパネルと;前記デジタルミラーパネルの少なくとも一つのミラーエレメントによって前記第2方向に反射された光が入射する位置に備えられ、入射する前記光の光量を感知する感知部と;前記感知部の感知結果に基づいて前記各光源の光量を判断し、前記判断結果に基づいて前記各光源の光出力を制御する補正制御部とを含む。 (もっと読む)


【課題】周囲光の影響を受け難いスイッチパネルを提供する。
【解決手段】タッチプレート31、イメージ生成器32、イメージングシステム34、及び光源35を有するスイッチパネル40。タッチプレート31は第1及び第2の表面36,37を有する光学的に透明な層を含み、該層内に光信号が内部反射により閉じこめられる。イメージ生成器32は第1の表面からタッチプレート31を見ている人に複数のボタン位置を含むイメージを表示する。ユーザがボタン位置の1つで第1の表面に触れた際に、閉じこめられる光信号を生成する多LED光源35からの光が接触点に対応する位置でタッチプレート31から出る。タッチプレート31を出た光はイメージングシステム34によってイメージ化されて接触点の位置を判定するために使用される。光源35内の異なるLEDを用いて取得されたイメージを使用して接触の判定を行うことにより周囲光による影響を低減させることができる。 (もっと読む)


【課題】フォトリソグラフィ工程の一層の高効率化を可能とする露光装置又は露光方法を提供する。
【解決手段】露光装置1に、動作制御により露光パターンを形成することが可能な露光パターン形成手段と、前記露光パターン形成手段の動作を制御して前記露光パターン形成手段に所望の露光パターンを形成させる制御部12と、前記露光パターンを基板上で走査する偏向反射手段としてのガルバノミラ−9とを設け、ガルバノミラ−9のミラー面に前記露光パターンを該露光パターンと同一の複数の露光パターンに分岐させ、分岐した複数の露光パターンで同時に基板の露光を行う反射型回折光学素子を形成する。 (もっと読む)


【課題】複数の光源を用いて画像記録媒体にむらのない所望の画像を高精度に記録することのできる光量調整方法、画像記録方法及び装置を提供する。
【解決手段】テストデータメモリ80から供給されるテストデータに基づき、基板Fにテストパターンを形成してその線幅を測定し、光源制御部89により光源ユニット28a〜28jを調整して露光ヘッド24a〜24j間での線幅変化量を補正した光量を設定するとともに、マスクデータ設定部86において、露光ヘッド24a〜24jを構成するDMDの特定のマイクロミラーをオフ状態に制御するマスクデータを設定し、マスクデータを用いて出力データを補正して所望の画像を基板Fに露光記録する。 (もっと読む)


【課題】 重畳領域での帯状の輝度分布を見えなくできるとともに、遮光板の厳密な位置調整を不要にでき、かつ色ずれや着色を生じ難くできる減光装置を提供すること。
【解決手段】減光装置20では、電動モータ25を駆動させると、遮光板23が左右方向に往復動し、エッジ部23Aの凸部および凹部のスイッチング機能により、スクリーンへの投射光の遮光および透過が高速で切り替えられる。この結果、スクリーン上は、重畳領域でフリッカが視認されない良好なグラデーションを得ることができ、エッジ形状が重畳領域に生じるのを防止できる。また、投射レンズの色収差等に起因して生じていた色ずれや着色は、遮光板23が高速で往復動することにより時間平均されるため、視認し難くなる。そして、遮光板23の往復動により、往復動方向の遮光板23の位置決めは大まかでよく、減光装置20の設置に手間がかからない。 (もっと読む)


【課題】 材料物質を選択的に除去することによる、干渉変調器の製造方法を提供する。
【解決手段】 干渉変調器等のMEMSデバイスを形成する方法は、材料物質の犠牲部分を選択的に除去して、内部キャビティを形成することと、材料物質の残る部分をそのまま残して、支柱構造を形成することとを含む。材料物質は、残る部分に対し、選択的に除去可能である犠牲部分を定義するために堆積され、かつ選択的に変更されたブランケットでありうる。あるいは、材料物質層は、覆っている層内の開口部から離れて横方向に凹ませることができる。これらの方法は、リリースされていない及びリリースされた干渉変調器を形成するのに用いることができる。 (もっと読む)


【課題】光干渉変調器ディスプレイを照明するためのシステム及び方法。
【解決手段】本方法及び装置は、遠隔光源から光干渉変調器の構造の中へ光を向けるために開示される。反射構造、散乱中心、及び蛍光材料又は燐光材料を含む、光リダイレクタが、光源から光干渉変調器の構造の中に向け光の向きを変えるために使用される。 (もっと読む)


【課題】低消費電力化された微小電気機械システムMEMSを提供する。
【解決手段】干渉変調器素子のバイステイブルな性質によって、各変調器素子の状態は、共通の電圧差を持つアクチュエート状態、又はリリース状態のうちの何れかに保持される。変調器素子はしばしば、状態を変化させるために、ライン時間で割り当てられたよりも少ない時間しか必要としないので、変調器素子のアレイによって消費される電力は、入力電源を、変調器素子を駆動するのに適切なレベルへ増幅するように構成された行電圧ブーストモジュール及び列電圧ブーストモジュールのうちの一つ又は両方をディセーブルすることによって減少される。例えば、ライン時間の後半部分の間、列電圧が取り除かれると、ライン時間の残りの間、安定電圧範囲内で、行電圧と、揺らいでいる列電圧との間の電圧差を維持するのに十分なレベルに行電圧が設定される。 (もっと読む)


【課題】 材料物質を選択的に除去することによる、干渉変調器の製造方法を提供する。
【解決手段】 干渉変調器等のMEMSデバイスを形成する方法は、材料物質の犠牲部分を選択的に除去して、内部キャビティを形成することと、材料物質の残る部分をそのまま残して、支柱構造を形成することとを含む。材料物質は、残る部分に対し、選択的に除去可能である犠牲部分を定義するために堆積され、かつ選択的に変更されたブランケットでありうる。あるいは、材料物質層は、覆っている層内の開口部から離れて横方向に凹ませることができる。これらの方法は、リリースされていない及びリリースされた干渉変調器を形成するのに用いることができる。 (もっと読む)


【課題】モジュレータ内における熱反応を処理するためのデバイス及び方法
【解決手段】インターフェロメトリックモジュレータは、一方の表面が他方の表面の前部に蒸着されている2つの表面の間の間隔を変えることによって、該2つの表面から反射される光波の間において建設的な及び/又は破壊的な干渉を選択的に作り出す。該希望される間隔は、一方の表面又は両方の表面を変形させることによって達成させることができる。特定の表面に関わる加熱素子は、該表面のうちの1方の表面又は両方の表面を形成する材料を加熱することによって変形を引き起こす。該変形量は、加えられる熱量を変えることによって変えられ、その結果該表面間の距離を制御することが可能になり、それによって希望される建設的な及び/又は破壊的な干渉が作り出される。 (もっと読む)


【課題】 低倍率かつ高開口数の対物レンズを使用した場合においても、試料から戻る蛍光を無駄なく回収し、時間的な分解能を低下させることなく、高い解像度の蛍光画像を得る。
【解決手段】 光源2と、光源2からの励起光を2次元的に走査する光走査部14と、走査された励起光を集光して試料に照射する対物光学系5と、該対物光学系5と光走査部14との間に配置され、対物光学系5を介して戻る試料Aからの戻り光から蛍光を分離するダイクロイックミラー17と、分離された蛍光を集光して中間像を形成する集光レンズ18と、中間像位置近傍に配置され、複数の平行なスリット状の蛍光透過部と遮光部とを交互に配列してなるスリット部材19と、該スリット部材19を蛍光透過部と遮光部との配列方向に移動させるスリット部材移動機構28と、スリット部材19の蛍光透過部を通過した蛍光を検出する光検出器21とを備える光走査型共焦点観察装置1を提供する。 (もっと読む)


機械的構造物は熱又は放射線のような非機械的手段によって第1形状を有する第1状態と第1形状とは異なる第2形状を有する第2状態との間で可動な素子を有する。この目的のため、素子は、そのような手段が与えられたときに異方的な膨張を示す配向した重合液晶層を含む。素子製造を促進するため、素子は重合した液晶の高架橋領域及び低架橋領域を有する基板上に設置される。そのような構造物を製造するため、配向した重合液晶層が基板上に形成される。基板は重合した液晶に対する高架橋を与える架橋領域及び重合した液晶に対する低架橋を与える非架橋領域を与えるパターニングされた面と共に供される。重合後、たとえば熱衝撃を与えることで、非架橋領域で重合した液晶層が剥がれる一方で、架橋領域では固定されたままである。よって、方法は時間のかかる下部エッチング工程を必要としない。
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本発明は、フォトリソグラフィ用のフォトマスクの製作、並びに半導体基板などの他の基板への直接描画を含めて、工作物の生成及び精密パターン処理に関する。詳細には、本発明は、SLM露光スタンプ・フィールド内の歪みの修正など、パターン・データに修正を適用することに関する。本発明を利用して基板上にデバイスを生成することができる。或いは、本発明は、ここで開示する方法を実施する装置、或いは、ここで開示する方法を実施するように適合されたプログラムを含む製品、特に、揮発性メモリ又は不揮発性メモリとして実施することができる。
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少なくとも2つの異なる状態を有する分離層または移動層を利用する、例えば光スイッチのような表示装置である。流体(5)の一方は、例えば油等であって、第1の状態では、少なくとも第1の支持板(3)に隣接し、第2の状態では、他の流体(6)の少なくとも一部が、第1の支持板に隣接する。画像素子は、親水性表面を有する領域(13)によって分離される。

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少なくとも2つの異なる状態を有する層配置または層分離に基づく、例えば光スイッチのような表示セルである。流体(5)の一方は、例えば油等であって、第1の状態では、少なくとも第1の支持板(3)に隣接し、第2の状態では、他の流体(6)の少なくとも一部が、第1の支持板に隣接する。油の移動を制御するため、均一電極(7)の一部が除去される。

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【課題】 本発明は、大型化を招くことなく、高コントラストでゴーストのない投影画像が得られるプロジェクタ用光学系を提供することを目的とする。
【解決手段】 画像の各画素と対応するように、微小なミラー素子が一平面内で規則的に配列され、各々の該ミラー素子が、入力される映像信号に応じて、オン状態またはオフ状態をとることにより、照明光を投影光学系の光軸方向また前記光軸方向とは異なる方向に択一的に反射するDMDと、前記DMDと前記投影光学系の間に配置されており、照明光を反射して前記DMDに導くとともに、前記DMDで反射された光を透過する第1の面を有するプリズムとを備えたプロジェクタ用光学系において、前記プリズムは、第1の面を透過された光のうち、前記オン状態のミラー素子により反射された光を透過し、オフ状態のミラー素子により反射された光を反射する第2の面を有する構成とする。 (もっと読む)


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