【課題】膜内で均一に一軸配向した共役系高分子薄膜を提供し、さらに得られた一軸配向共役系高分子薄膜を用いて、新規なパターン状偏光素子とパターン状偏光高分子発光ダイオードを提供する。
【解決手段】〔１〕共役系高分子の薄膜において、薄膜面内にパターンがあり、該パターンにおいて該膜が３００ｎｍから８００ｎｍに少なくとも１種類以上の吸収ピークを持ち、該吸収ピーク波長において該パターン以外の部分よりも高い二色性比を有することを特徴とする一軸配向共役系高分子薄膜パターン。
〔２〕前記の〔１〕記載の一軸配向共役系高分子薄膜パターンを有する高分子フィルムまたはガラス板もしくは透明電極を有するガラス板からなる２次元パターン状偏光素子。
〔３〕前記の〔１〕記載の一軸配向共役系高分子薄膜パターンに流れる電流により該パターン内において偏光が発生することを特徴とする偏光高分子発光ダイオード。 （もっと読む）

【課題】表面の微細凹凸形状の断面形状が矩形でない場合であっても、基材の軟化温度にかかわらず製作することのできるようにする。
【解決手段】基板２の表面に断面形状が矩形の微細凹凸形状８が形成し、等方的な条件でエッチングを施して三角形の断面形状とする。その上に堆積を行い、かまぼこ型に盛り上がった凸条１４として隣接する凸条１４間を接触させる。その後、凸条１４にスパッタリングを施すことにより断面形状を三角形に近づける。 （もっと読む）

【課題】効率よく偏光の揃った光を出射することができ、設計自由度の高い新規な無機材料からなる光処理素子を提供する。
【解決手段】上面から入射した光は、入射波長に共鳴反射するように平行に形成された１次元周期パターンからなる回折格子層２で回折され、その伝播定数が下部に形成された高屈折率の２次元導波路（導波層３）の伝播モードに一致するとき、回折波は導波層３を伝播する。導波層３を伝播している光は回折格子層２によって再度回折波となり基板上部に放射される。分離されて透過した光は、偏光回転処理領域６によって任意の偏光方向の光に変換され、基板下部５から出射される。 （もっと読む）

【課題】光の透過率が高く、十分な位相差を与えることが可能で、設計自由度の高い新規な無機材料からなる光処理素子を提供する。
【解決手段】光処理素子１は、光学的に平坦な基板２、３を重ね合わせたのと同様の構成を有している。各基板２、３上にはそれぞれ微小または微細な金属構造体４によるパターンが形成されている。入射側の基板２は、光を選択的に通過させる単位処理領域としての偏光分離処理領域の機能を有し、出射側の基板３は、光の偏光状態を選択的に変化させる単位処理領域としての偏光回転処理領域の機能を有している。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、大面積に微細な凹凸構造が設けられた薄型シートを高精度に高速に製造する手法を提供することにある。また、その手法により製造された生産性、均一性の高い光学フィルム、ワイヤグリッド偏光子、及び位相差フィルムを提供することにある。
【解決手段】凹凸構造が設けられた光学フィルムの製造方法において、凹凸構造が設けられたエンドレスベルト状またはロール状モールドに第１の樹脂が溶媒中に溶解された溶液を塗布し、モールド上に樹脂溶液層を形成する工程、該樹脂溶液層中の溶媒が完全に乾燥する前に、前記樹脂溶液層と、前記樹脂溶液中の溶媒を吸収する第２の樹脂を含むフィルム支持体とを貼り合わせる工程、該樹脂溶液層と前記フィルム支持体とが貼り合わされた光学フィルム中の溶媒が完全に乾燥する前に、前記光学フィルムを該モールドから剥離する工程、からなることを特徴とする凹凸構造が設けられた光学フィルムの製造方法。 （もっと読む）

【課題】位相差板などの光学部品において、格子のアスペクト比が大きなものであっても、形状ばらつきの少ない微細格子を得、位相差のゆらぎを低減する。
【解決手段】ガラス基板１１上に誘電体１２（例えばSiO₂膜）を形成し、その上にパターンマッチング用のメタルマスク層１３としてタングステンシリサイドを成膜し（図１（ｂ））、その後フォトレジスト層１４を形成する。次に微細格子が表面に形成された金型をフォトレジスト層１４に押し付けて金型パターンをレジストに転写し、金型を離型して図１（ｄ）のような微細格子パターンを形成する。その後パターニングされたフォトレジスト（１４）をマスクとしてマスク層１３をパターニング（エッチング）し、その後フォトレジスト層１４を除去する。次に、パターニングされたマスク層１３によりガラス基板１１上の誘電体（１２）をエッチングによりパターニングした後、マスク層１３を除去する（図１（ｈ））。 （もっと読む）

【課題】各画素における最適な位相差補償により斜め方向からの視野角拡大に優れた特性を示すカラーフィルタを効率よく、高い生産性をもって製造する方法を提供すること。
【解決手段】基板上に隔壁を形成する工程、前記隔壁間に、所定のリタデーションを有する複数の着色画素パターンを、フォトリソグラフィー法により形成する工程、前記着色画素パターン上に、配向処理された配向膜を形成する工程、及び前記複数の着色画素パターンのそれぞれのリタデーションに対応して、前記配向膜上にインクジェット法により、液晶位相差層を形成する工程を具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】偏光効率を高いレベルで維持しつつ、ナノメータサイズまで小型化させることが可能な偏光板を提供する。
【解決手段】ガラス板１１中に特定の偏光成分のみを透過させる偏光子１２を配列させる際に、偏光子１２は、入射された光を吸収する複数の量子ドット２２を列状に１列以上配置させた量子ドット列２１と、量子ドット列２１の底部に対して近接配置され、当該量子ドット列２１方向に対して垂直方向に延長された長軸方向の長さが１μｍ以下である入射側の金属棒２３と、入射側の金属棒２３に対して略平行とされた上で、長軸方向の長さが入射側の金属棒２３よりも短く構成された出射側の金属棒２４とを備える。 （もっと読む）

【課題】ナノメータサイズまで小型化させることが可能な偏光板を提供する。
【解決手段】出射側から入射側にかけて板厚方向に第１層１３、第２層１４、第３層１５に区分されたガラス板１１と、ガラス板１１中に配設される偏光子１２とを備え、偏光子１２は、ガラス板１１の第１層１３を始端として延長されている第１の金属細線２１と、一端が第１の金属細線２１に第２層１４を介して連結されて第３層１５中に配設される第２の金属細線２２と、一端が第２の金属細線２２の他端に第２層１４を介して連結されて第１層１３中において終端まで延長されている第３の金属細線２３とを有し、第１の金属細線２１〜第３の金属細線２３は、長軸方向が１μｍ以下のサイズで構成されるとともに互いに略平行とされ、さらに始端及び終端は、長軸方向に対して垂直方向へ離間している。 （もっと読む）

【課題】ナノメータサイズまで低コストで小型化させることが可能な偏光板を提供する。
【解決手段】ガラス板１１中に特定の偏光成分のみを透過させる偏光子１２を配列させ、この偏光子１２は、入射された光の偏光方向を略垂直に回転させる偏光回転部１３と、偏光方向が回転させられた光を伝播光に変換してこれを放出する長さ１μｍ以下の金属細線からなる光放出部１４とを有し、上記偏光回転部１３は、長さ１μｍ以下の金属細線が入射側から出射側にかけて、近接場−光相互作用が生じる間隔で複数段に亘り形成され、その長軸方向が、入射側に近づくにつれて上記光放出部１４の長軸方向に対して略垂直となるように、また出射側に近づくにつれて光放出部１４の長軸方向に対して略平行となるように配向させる。 （もっと読む）

【課題】金属細線長を短くすることにより、ナノメータサイズまで微細化することが可能な偏光板を提供する。
【解決手段】ガラス板１１上に特定の偏光成分のみを透過させる偏光子を配列させる際に、偏光子１２は、１０μｍ以下の長さで構成される金属細線１３を平行に２本並べることにより１グループとされ、当該グループをガラス板１１上に縦横方向へ周期的に配列させてなり、さらに金属細線１３の長軸方向と略同一方向の偏光成分のみを透過させる。 （もっと読む）

【課題】可視域で機能することができ、素子の構造界面における密着力を向上させることが可能となる３次元構造を有する光学素子及び光学素子の製造方法を提供する。
【解決手段】基板１上に、少なくとも第１の層２と第２の層３とを有する光学素子をつぎのように構成する。
すなわち、前記第１の層と前記第２の層が、可視光の波長以下のピッチの空間と構造体との繰り返し構造を備え、
前記第１の層と前記第２の層との界面において、前記第１の層の繰り返し構造と前記第２の層の繰り返し構造とが、積層方向にオーバーラップした構造を有する構成とする。 （もっと読む）

【課題】液晶セル内に光学異方性層を形成するのに有用な積層構造体を提供すること、特に、液晶セル内に光学補償能を有する光学異方性層付きの液晶セル用基板を作製するのに有用な積層構造体を提供すること。
【解決手段】二種以上の反応性基を有する化合物を含む液晶性組成物からなる少なくとも一層の光学異方性層と、少なくとも一層の感光性樹脂層とを有する積層構造体。 （もっと読む）

【課題】耐熱性、耐光性に優れ、外的損傷に強く、素子の厚さが薄く、光の透過率または反射率の高い偏光制御素子を実現する。
【解決手段】本発明の偏光制御素子１００は、二つ以上の微小な金属構造体１０３が入射光の波長以下の領域に配置された単位配列パターン１０６と、前記金属構造体１０３を支持する一層以上の膜１０１，１０２を有し、該膜内部の２次元平面内に複数個の単位配列パターン１０６が同一の配向を有して配置された複合配列パターンを有することを特徴としており、無機材料である金属構造体１０３を用いた偏光特性の制御を実現しているので、耐熱性、耐光性に優れ、また、極めて薄い偏光制御素子を実現することができる。また、金属構造体１０３が膜１０１により被覆された構成であることから、外的損傷に対する耐性を実現することができる。 （もっと読む）

【課題】偏光子の耐光性や耐熱性を向上させることにより、コントラストが高く、明るい画像を安定して表示できるプロジェクタを提供する。
【解決手段】プロジェクタは、光源装置と、光源装置からの光を変調する電気光学装置と、電気光学装置の光入射面側および光射出面側にそれぞれ配置された２つの偏光子と、電気光学装置からの光を投写する投写光学系とを備える。２つの偏光子のうちの少なくとも一方は、構造複屈折型偏光板である。 （もっと読む）

【課題】大型の液晶表示装置に好適に用いうる偏光板であって、製造効率が良く、低コストで、耐熱性に優れ、複屈折が小さい偏光板を提供する。
【解決手段】ノルボルネン系樹脂からなる透明な基板と、基板上に互いに平行かつ等間隔で配設された複数の金属細線と、基板との屈折率の差が０．０１以下である透明な被覆層とを備えている偏光板。基板を形成するノルボルネン系樹脂は、一般式（１）：


で表される１種の化合物を含む単量体を（共）重合して得られた樹脂である。 （もっと読む）

【課題】液晶セルが正確に光学的に補償され、且つ生産性に優れ、色視野角特性が改善された液晶表示装置を提供する。
【解決手段】第一の基板と第二の基板（２１）との間に液晶（３１）が挟持された液晶表示装置であって、前記第一の基板（２１）が微細領域にパターニングされたパターン層を有し、該パターン層が基板法線方向に積層されたカラーフィルタ層（２３）と光学異方性層（２７）とを含み、且つ各パターン層の境界部分に隔壁（２２）が形成されていることを特徴とする液晶表示装置である。 （もっと読む）

【課題】 黒表示時の光漏れが少なく、従ってコントラストが高く、角度による色味変化が少なく、且つ生産性に優れた液晶表示装置を提供する。
【解決手段】 第１の偏光層と、一対の基板、及び該一対の基板に挟持された液晶分子が黒表示時に前記基板に対して実質的に平行に配向する液晶層を有する液晶セルと、
前記第１の偏光層と前記液晶層との間に配置され、面内レターデーションが０〜１０ｎｍであり、且つ厚さ方向のレターデーションが−４００〜−３０ｎｍである第１の光学異方性層３４と、面内レターデーションが２０〜１５０ｎｍである第２の光学異方性層とを有する液晶表示装置であって、少なくとも前記第１の光学異方性層３４が、前記一対の基板のうち前記第１の偏光層のより近くに配置された基板（第１の基板（３０））上に形成された層であり、且つ前記第２の光学異方性層が、前記第１の光学異方性層３４と前記第１の偏光層との間に配置されている液晶表示装置である。 （もっと読む）

【課題】液晶セル内に光学異方性層を形成するのに有用な転写材料の提供、およびパターン状の光学異方性層を有する積層構造体の簡便な製造方法の提供。
【解決手段】酸性基を有するモノマーおよび／または酸もしくは塩基により酸性基を有するモノマーを生成するモノマーを含む液晶性組成物からなる光学異方性層と感光性樹脂層とを含む転写材料及び下記［１］及び［２］の工程を含むパターン状の光学異方性層を有する積層構造体の製造方法。
［１］該転写材料を、フォトマスクを用いてパターン露光する工程。
［２］アルカリ水溶液を用いて現像し、該転写材料の未露光部分を除去する工程。 （もっと読む）

【課題】斜め角度堆積を使用して、少なくとも１つの稠密構造複屈折層を有するＡプレート光学リターダを提供する。
【解決手段】一実施形態によれば、稠密構造複屈折層は、ＬＣＤ複屈折補償のための全誘電体完全機能Ａ／−Ｃプレート・トリム・リターダを提供するように、ＦＢＡＲスタックの一部として堆積される。完全機能Ａ／−Ｃプレート・トリム・リターダの稠密構造は、高度な耐久性および／または安定性を提供し、それにより、高光フラックス偏光ベース投影システムにおいて偏光補償を提供するのに十分適するものとなることが有利である。 （もっと読む）