【課題】ブルー相を呈する液晶を用い、新規な構成を有する液晶表示装置及びその作製方法を提供する。
【解決手段】同一基板上に、複数の構造体（リブ、突起、凸部とも呼ぶ）を形成し、その上に画素電極とその画素電極に対応する電極（固定電位の共通電極）を形成する。画素電極に傾斜をつけ、その画素電極に対応する電極にも傾斜をつけることにより、ブルー相を呈する液晶層に電界をかける構造とする。隣り合う構造体の間隔を狭くすることにより、液晶層に強い電界を印加することができ、液晶を駆動させるための消費電力を少なくすることができる。 （もっと読む）

【課題】マイクロレンズ基板としての特性である、高透過率、高屈折率、高耐熱性、耐薬品性、耐光性、耐クラック性に優れるとともに、効率よく製造することができるマイクロレンズ基板、液晶パネル用対向基板、液晶パネル、および液晶パネル用対向基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】液晶滴下工法によって製造される液晶パネルであって、レンズ形状の複数の凹部が形成された凹部基板と前記凹部に樹脂組成物が充填されてなる凸レンズ基板とを有するマイクロレンズ基板を備え、前記樹脂組成物は、下記式（１）および（２）で示される化合物が縮重合されてなることを特徴とする液晶パネル。
Ａｒ_２Ｓｉ（ＯＨ）_２ …（１）
ＲＳｉ（ＯＲ’）_３ …（２） （もっと読む）

【課題】プラスチックフィルム基板と電界効果型トランジスタとの密着性を下地層を形成することで化学的に高め、フォトリソグラフィ工程で用いる強酸や強アルカリへの浸漬によっても電界効果型トランジスタがプラスチックフィルム基板から剥離することなく再現性良く製造する電界効果型トランジスタ及びその製造方法並びに画像表示装置を提供する。
【解決手段】基板、ゲート電極、ゲート絶縁層、ソース電極、ドレイン電極及び半導体を有して形成された電界効果型トランジスタであって、基板上に高分子化合物と金属化合物との混合物を含有する下地層を備えることを特徴とする電界効果型トランジスタ。 （もっと読む）

【課題】信頼性を簡便に向上できる温度調整機能付きの液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】本発明かかる液晶表示装置は、対向基板１０上に形成されたヒーター電極１５と、ヒーター電極１５上に絶縁層を介して形成され、ＴＦＴアレイ基板４０の画素電極に対向配置される対向電極１６と、ヒーター電極１５の形成領域上の絶縁層が除去されている第１除去部２０ａと、ヒーター電極１５の形成領域外の絶縁層が除去されている第２除去部２０ｂと、ＴＦＴアレイ基板４０と、第１除去部２０ａ内のヒーター電極１５とに接続するよう、第１除去部２０ａに形成されたヒーター電極用導電層３５と、ＴＦＴアレイ基板４０と、絶縁層上から第２除去部２０ｂ内に延在されている対向電極１６とに接続するよう、第２除去部２０ｂにヒーター電極用導電層３５と同じ導電材料によって形成された対向電極用導電層３６と、を備えるものである。 （もっと読む）

【課題】透明性、耐溶剤性、耐熱性、絶縁性、及びＩＴＯスパッタ適性の全てに優れた硬化膜と、この硬化膜を形成しうる保存安定性の良好なポジ型感光性樹脂組成物と、を提供すること。また、透明性、耐溶剤性、耐熱性、絶縁性、及びＩＴＯスパッタ適性の全てに優れた層間絶縁膜と、この層間絶縁膜を具備する、信頼性の高い有機ＥＬ表示装置、及び液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】アルカリ可溶性樹脂（Ａ）、該アルカリ可溶性樹脂（Ａ）とは異なる構造を有し、且つ、エポキシ基及びオキセタン基の少なくとも一方を含有する線状共重合体（Ｂ）、及び感光剤（Ｃ）を含有するポジ型感光性樹脂組成物、該組成物から形成された硬化膜、該硬化膜を用いた層間絶縁膜、該層間絶縁膜を具備する有機ＥＬ表示装置並びに液晶表示装置。 （もっと読む）

【課題】マスク数の少ない薄膜トランジスタの作製方法を提供する。
【解決手段】第１の導電膜１０２と、絶縁膜１０４と、半導体膜１０６と、不純物半導体膜１０８と、第２の導電膜１１０とを積層し、この上に多階調マスクを用いて凹部を有するレジストマスク１１２を形成し、第１のエッチングを行って薄膜積層体を形成し、第１の導電膜１０２がエッチングされた膜１１３に対してサイドエッチングを伴う第２のエッチングを行ってゲート電極層１１６Ａを形成し、その後ソース電極及びドレイン電極等を形成することで、薄膜トランジスタを作製する。半導体膜としては結晶性半導体膜１０６を用いる。 （もっと読む）

【課題】 多階調のハーフ露光をした後、現像して得られる感光性材料膜の形状不良の発生を未然に防ぐ。
【解決手段】 基板の上に形成した未感光の感光性材料膜を露光、現像して、前記基板の上に、厚さが２通り以上の前記感光性材料膜を形成する工程を有する表示装置の製造方法であって、当該工程は、前記感光性材料膜を露光するときに、ＣＡＤで作成されたレイアウトデータに基づいて、当該感光性材料膜を、完全に感光させる領域と、全く感光させない領域と、前記完全に感光させる領域に対する露光条件とは異なる条件で露光するハーフ露光領域とに分け、前記ハーフ露光領域は、感光させる厚さと感光させない厚さの比が異なる複数の露光条件のうちのいずれかを選択して露光し、前記レイアウトデータは、前記ハーフ露光領域を示す図形が当該領域に対する露光条件と対応した文字情報を有するパターンで塗りつぶされている表示装置の製造方法。 （もっと読む）

【課題】液晶注入後における気泡発生がなく、配向膜が均一に塗布され、画像品質に優れた半透過型液晶表示装置を提供する。
【解決手段】一画素内に透過表示領域と反射表示領域とを有する半透過型液晶表示装置に用いられ、かつ透明基板上に格子状に形成されたブラックマトリックスとブラックマトリックスの開口部に形成された画素と液晶層厚調整層とを有する半透過型液晶表示装置用カラーフィルター基板の製造方法において、感光性透明樹脂層を矩形開口部の四隅が曲率半径６μｍ以上１６μｍのフォトマスクを用いて近接露光および現像することにより、液晶層厚調整層を形成することを特徴とする半透過型液晶表示装置用カラーフィルターの製造方法。 （もっと読む）

【課題】電極における線状電極部を精度良く残すとともに、開口部における残渣の発生を抑制することが可能な電気光学装置を提供すること。
【解決手段】共通電極における開口部４６（間隙部分）には、共通電極を形成する際に、絶縁層７６よりもＩＴＯ膜の結晶化を抑制させる物質からなる下地層４６が形成されている。つまり、下地層４６が形成された間隙となる部分におけるＩＴＯ膜の結晶粒子は、絶縁層７６上におけるＩＴＯ膜の結晶粒子よりも小さくなっている。よって、透明電極材料としてのＩＴＯ膜をエッチングする際に、間隙となる部分におけるエッチングレートは、絶縁層７６上におけるエッチングレートより高くなるため、下地層４６上のＩＴＯ膜を選択的に除去することができる。従って、電極における線状電極部を精度良く残すとともに、開口部における残渣の発生を抑制することができる。 （もっと読む）

【課題】 製造に際し、当初、耐熱性の高い仮基板を用い、最終的に、耐熱性の低いフィルム基板を用い、仮基板を除去し、これにより得られた薄膜トランジスタパネルにおいて、画素電極（薄膜）が破損しにくいようにする。
【解決手段】 仮基板５１上に形成された分離層５２上に画素電極２を形成する。この場合、画素電極２下以外の領域における分離層５２が膜減りしたとしても、その上に下地絶縁膜１を形成し、仮基板５１および分離層５２を除去すると、下地絶縁膜１の下面に平板状の画素電極２が凹んだ状態で埋め込まれることになるので、画素電極２が破損しにくいようにすることができる。 （もっと読む）

【課題】 ＴＦＴ−ＬＣＤの層間有機絶縁膜の形成に使用されて、光配向用液晶工程での過露光による液晶偏り現象を改善することができるだけでなく、パターンの解像度調節が容易であり、層間有機絶縁膜の平坦化膜形成に特に適した感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 ＴＦＴ−ＬＣＤ用層間有機絶縁膜形成のための感光性樹脂組成物において、ＵＶ安定化剤またはラジカルスカベンジャーを０．０１〜２０質量％含むことを特徴とする感光性樹脂組成物、前記感光性樹脂組成物を利用するＴＦＴ−ＬＣＤ用層間有機絶縁膜の形成方法、及び前記感光性樹脂組成物の硬化体を層間有機絶縁膜として含むＴＦＴ−ＬＣＤ。 （もっと読む）

【課題】部品点数を減らすことができ、薄型化にも有利となる液晶表示装置を提供する。
【解決手段】液晶表示装置は、第１ガラス基板１と、同基板１上に形成された下部電極層２と、同層２上に形成された下部誘電体層３と、同層３上に形成されたＥＬ層４と、同層４上に形成された上部誘電体層５と、同層５上に形成された上部電極層６と、上部電極層６より上側に形成され、平坦な上面を有する平坦化絶縁層７と、その上側に配置された第１偏光層８と、その上に形成された薄膜トランジスタ９と、その上側を覆うように形成された層間絶縁膜１０と、その上側に設けられた液晶層１１と、その上側に配置されたカラーフィルタ層１２と、その上側に配置された第２ガラス基板１３と、液晶層１１より上側で第２ガラス基板１３の上側または下側に配置された第２偏光層１４とを備える。 （もっと読む）

【課題】溶剤の突沸に起因する欠陥やモヤムラ等が発生せず、塗膜全体にわたって均一で、高品質な塗膜を形成することができる感光性樹脂組成物及びそれを用いた表示装置等を提供することを目的とする。
【解決手段】樹脂（Ａ）、重合性モノマー（Ｂ）、重合開始剤（Ｃ）、溶剤（Ｄ）及び界面活性剤（Ｅ）を含んでなる感光性樹脂組成物であって、溶剤（Ｄ）が、沸点が１７５℃以下の溶剤を二種類以上含む溶剤であり、界面活性剤（Ｅ）の含有量が、界面活性剤を除いた感光性樹脂組成物１００質量％に対して０．００２５〜０.０２５０質量％であり、固形分量が１０〜３０質量％である感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】生産性及び表示品質を向上させることのできる表示装置を提供すること。
【解決手段】表示装置は、画素領域に液晶ドメインを形成するための陥没パターンを含むドメイン形成層及びドメイン形成層上に形成された画素電極を含む第１基板と、第１基板に対向する全面に形成された共通電極を含む第２基板と、第１基板と第２基板との間に介在し、陥没パターンを中心に液晶ドメインを形成する液晶分子を固定させる反応性メソゲンを有する液晶層と、を含む。よって、共通電極に別途のパターンが無くても液晶ドメインを形成することができ、開口率を向上させることができ、製造工程を単純化させることができるため、表示装置の生産性及び表示品質を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】高感度、高耐熱性、高い透明性と、金属下地に対する高い密着性を併せ持つポジ型感光性組成物の提供。
【解決手段】（ａ）ポリシロキサン、（ｂ）ナフトキノンジアジド化合物、（ｃ）酸および熱により脱離する有機基を有するリン酸エステル（１）、下記一般式（２）〜（３）から選ばれる少なくとも一種の化合物、および（ｄ）溶剤を含有するポジ型感光性組成物。


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【課題】表示に寄与する画素電極または共通電極の部分を大きくすることが可能な液晶表
示装置を提供する。
【解決手段】この液晶表示装置１００は、コンタクトホール１８ａの形状を反映した凹部
１９ａを含む画素電極１９と、画素電極１９に対向するように配置されるとともに、複数
のスリット２１ａおよび電極部２１ｂを有する共通電極２１と、画素電極１９と共通電極
２１との間に形成されるとともに、画素電極１９の凹部１９ａを埋めるように形成される
層間絶縁膜２０とを備え、層間絶縁膜２０のうちの画素電極１９の凹部１９ａに対応する
領域の表面上には、共通電極２１の電極部２１ｂが形成されている。 （もっと読む）

【課題】 既存のＳｉＮｘパッシベーション膜／アクリル系感光性有機絶縁膜の二重構造を一つの層に形成することにより、工程を単純化し、生産費を節減することができ、感度、解像度、工程マージン、透明性、耐熱変色性などの性能が優れると共に、特に低誘電率絶縁膜を可能にすることによって消費電力を低くすることができ、残像及びクロストーク、及びしきい電圧のシフト現象を防止することができ、また、優れた耐熱性による低アウトガスを可能にすることによって優れたパネル信頼性を確保することができ、これによって多様なディスプレイにおいてパッシベーション絶縁膜、ゲート絶縁膜だけでなく、平坦化膜などとしても有用に適用することができるポジティブ型感光性有機・無機ハイブリッド絶縁膜組成物を提供する。
【解決手段】 本発明によるポジティブ型感光性有機・無機ハイブリッド絶縁膜組成物は、ｉ）下記の化学式１で示される１〜３個のフェニル基を含む反応性シラン、（ii）下記の化学式２で示される４官能反応性シランのシラン単量体を触媒の存在下で加水分解及び縮合重合して得られたポリスチレン換算質量平均分子量（Ｍｗ）が１，０００〜２０，０００であるシロキサンオリゴマー化合物；（ｂ）１，２−キノンジアジド化合物；及び（ｃ）溶媒を含むことを特徴とする。
【化１】


（式中、Ｒ₁はフェニル基であり、Ｒ₂はそれぞれ独立して炭素数１〜４のアルコキシ基、フェノキシ基、またはアセトキシ基であり、ｎは１〜３の整数である。）
【化２】


（式中、Ｒ₃はそれぞれ独立して炭素数１〜４のアルコキシ基、フェノキシ基、またはアセトキシ基である。）。 （もっと読む）

【課題】 低温環境下での応答速度を向上させた液晶表示装置を提供する。
【解決手段】 液晶表示装置は、対向配置された一対のガラス基板と、前記一対の基板の各々の対向面に形成された透明電極パターンと、前記透明電極を覆って前記基板上に形成された、配向膜を含む膜構成と、前記一対の基板間に挟持された液晶層とを含む液晶表示素子であって、前記液晶層、前記膜構成の少なくとも一方が近赤外線吸収材料を含む液晶表示素子と、近赤外線を前記液晶表示素子の面法線に対して傾斜して入射する光源とを有する。 （もっと読む）

薄膜電子デバイスを製造する方法は、硬いキャリア基板（４０）に直接的に第１のプラスチックコーティング（ＰＩ−１）を設け、第１のプラスチックコーティング上に薄膜電子素子（４４）を形成することを有する。薄膜電子素子を覆う第２のプラスチックコーティング（４６）が設けられ、頂部に、第２のプラスチックコーティングによって離間されて付随の電子素子の真上に位置する部分を含む電極（４７）が備えられる。硬いキャリア基板（４０）は、レーザー解放プロセスによって第１のプラスチックコーティングから解き放たれる。この方法は、例えば薄膜トランジスタといった電子素子の製造用の基盤として、伝統的な材料を使用することを可能にする。第２のプラスチックコーティングは、既知のフィールド・シールデッド・ピクセル技術の部分を形成することができる。
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【課題】比較的硬い下地膜を形成しつつ可曲性を向上させた表示装置を提供すること。
【解決手段】表示装置は、画素電極を有する複数の画素と、前記画素電極の各々に接続されたスイッチ素子とを有する基板を含み、前記基板は、可曲性の絶縁基板と、前記絶縁基板上に設けられ互いに離間した複数の絶縁膜を含む第１の絶縁層とを含み、前記スイッチ素子は、前記各絶縁膜のいずれかの上に形成されている。 （もっと読む）