【課題】コスト安で、製造工程の容易化を図る液晶配向用基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】電圧を印加するＩＴＯ電極膜を有する基板と、ＩＴＯ電極膜が設けられた側の基板に、液晶分子を所定の方向に配向させる配向膜とを有する液晶配向用基板の製造方法であって、配向膜の上記液晶分子と接触する側の接触面４ａに、液滴吐出方式により上記液晶分子に対する撥液材料を含む液滴５０を選択的に塗布して撥液性領域を形成する撥液部形成工程を有するという構成を採用する。 （もっと読む）

【課題】耐湿性を向上させつつ高品位な表示を実現可能とした液晶装置の製造方法を提供する。
【解決手段】一対の基板間に、液晶を挟持してなる液晶装置の製造方法において、前記一対の基板の少なくとも一方に無機配向膜を形成する無機配向膜形成工程と、前記無機配向膜の表面をシランカップリング剤により疎水性に改質する表面改質処理工程と、反応性ガスにより前記無機配向膜上の前記シランカップリング剤を除去するアッシング工程と、を具備する構成とした。 （もっと読む）

【課題】本発明は、表示素子の視認性を向上させつつ、表示装置の耐水性向上に寄与する防眩性基板を有する表示装置を提供することを課題とする。
【解決手段】表示素子、及び該表示素子と対向して配置される防眩性基板を有する表示装置であり、該防眩性基板の外表面には、略平面の表面上に、触針式表面走査計で表面状態を観察したときに、正面視で平均面積が８０〜４００μｍ²の円状である小丘体状の凸状体が配置され、該凸状体が液晶表示素子の画素面積に相当するサイズでガラス基板表面を区画した場合に、配置度合いは各区画にランダムに５個以上配置され、該凸状体が配置された表面の表面粗さが０．１〜０．４μｍである凹凸のパターンが形成され、さらに該外表面が水滴の保持性に優れ、且つ該外表面の水滴の静的接触角を８０〜１３０°のものとすること。 （もっと読む）

【課題】塗布性に優れ、ラビング処理を行わずに、偏光または非偏光の放射線照射によって液晶配向能を付与することが可能な液晶配向膜の形成に用いられる、ポリオルガノシロキサンを提供すること。
【解決手段】 下記式（１）


ここで、Ｚは波長２００〜４００ｎｍの光により架橋反応もしくは異性化反応を生じる感光基であり、Ｘは水酸基、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数１〜２０のアルコキシル基、あるいは他の繰り返し単位のＸと一緒になって−Ｏ−を介して架橋を形成していてもよい、
で表わされる繰り返し単位を有し且つ重量平均分子量が１，０００〜１００，０００の範囲にあるポリオルガノシロキサン。 （もっと読む）

【課題】垂直配向性に優れ、電圧保持率を維持しつつ、かつ蓄積電荷を低減させる液晶配向膜を与え、さらに優れた印刷性を備えた液晶配向剤およびそれを用いた液晶表示素子を提供する。
【解決手段】液晶配向剤は、下記式（Ｉ−１）


で表される構造単位を有する重合体を含有する。液晶表示素子は上記液晶配向剤から形成された液晶配向膜を具備する。 （もっと読む）

【課題】短時間で均一性の高い表面処理を行う。
【解決手段】シランカップリング剤を気化する気化装置２０２と、被処理物Ｐが配置されるとともに気化装置２０２によって気化されたシランカップリング剤が導入される処理装置２０３と、気化装置２０２の内部の処理雰囲気と処理装置２０３の内部の処理雰囲気とを個別に制御可能な制御装置２０５とを備える。 （もっと読む）

【課題】 液晶表示素子における機能性材料膜のパターン精度を向上させる。
【解決手段】
各々が電極を備えた一対の基板を準備する。基板における各々の電極が形成された側に、インクジェット法により絶縁膜を形成する。基板における各々の絶縁膜の上に、インクジェット法により配向膜を形成する。一対の基板を、絶縁膜、配向膜が形成された面同士を向かい合わせると共に、間隙を持って貼り合わせ、間隙に液晶を注入する。以上を含む製造方法により液晶表示素子を作成する。 （もっと読む）

【課題】ＴＦＴ特性が良好な薄膜トランジスタ、それを用いた表示装置、及びそれらの製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明にかかる薄膜トランジスタ（ＴＦＴ１０８）は、ゲート電極２と、ゲート電極２を覆うように形成されたゲート絶縁膜３と、ゲート絶縁膜３を介して、ゲート電極２上に形成され、チャネル領域４ｄを有する半導体膜４と、半導体膜４と接続する流域の少なくとも一部がゲート電極２と重なる位置に配置されているソース電極６ａ及びドレイン電極６ｂと、半導体膜４、ソース電極６ａ、及びドレイン電極６ｂを覆うように形成され、半導体膜４のチャネル領域４ｄに直接接し、熱処理により水分を放出する第１上部絶縁膜７と、第１上部絶縁膜７を覆うように、水分の拡散を抑制する第２上部絶縁膜８とを有するものである。 （もっと読む）

本発明は、電極パターン（４１；４２）に隣接するバルク層（４４）の第１サブ容積部に対して、前記電極パターン（４１；４２）によって発生される均一でない面内電界と前記第１サブ容積部内および／または前記電極パターン（４１；４２）上に塗布された配向膜（４３）内に含まれる分極状態にある液晶との間の線型結合、例えば強誘電結合および／またはフレクソエレクトリック結合によって駆動される液晶デバイスに関し、前記分極は、（ｉ）前記第１サブ容積部、前記配向膜（４３）の外部および、（ｉｉ）他方の基板の内側表面に隣接するバルク層の第２サブ容積部、または第２配向膜、もしくはその上に塗布された第２電極パターンの外部における、前記バルク層（４４）のいかなる起こり得る同様な液晶分極よりも強力となっている。
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【課題】所望の液晶配向性を有する配向膜を効率良く成膜する。
【解決手段】本発明の配向膜製造方法は、第一の成膜圧力で底面層をせいまくした後、真空槽５１内部の圧力を第一の成膜圧力よりも高い第二の成膜圧力に上昇させて、底面層の表面に表面層を積層し、底面層と表面層との積層膜で配向膜を構成する。底面層は低圧力で形成されるため、表面層と同じ傾斜角度で成膜した場合であっても屈折率が高い。屈折率が高い程バリア性が高いので、本発明により成膜される配向膜はバリア性と配向性を兼ね備える。 （もっと読む）

【課題】高い耐熱性及びとフレキシビリティ（柔軟性）を具えると共に、ＴＦＴ等の電子デバイスを構成する膜の剥離及びクラックの発生を防止することができる電子デバイス基板用絶縁被覆金属箔及びその製造方法を提案する。
【解決手段】電子デバイス基板用絶縁被覆金属箔には、表面粗さＲａが３０ｎｍ以上５００ｎｍ以下である金属箔と、有機基で修飾された無機ポリマーからなり、前記金属箔の表面を被覆する絶縁膜と、が設けられている。また、有機基で修飾された無機ポリマーの絶縁膜では、Ｓｉに結合している有機基がメチル基又はフェニル基の一方又は両方であり、ヤング率が１０²ＭＰａ以上１０⁴ＭＰａ以下である。また、有機基で修飾された無機ポリマー膜の絶縁膜の厚さが０．８μｍ以上４０μｍ以下である。前記金属箔が、ステンレス箔であり、光沢度Ｇｓ（４５°）が３００以上５００未満で、表面粗さＲａが１００ｎｍ以下である。 （もっと読む）

【課題】高い耐久性を有する調光材料を提供すること。
【解決手段】一対の透明電極間に、少なくとも１層の液晶層を備えて、入射光の透過率を変化させる調光材料である。基板として、プラスチックフィルム上に、少なくとも１層の有機層と、少なくとも２層の無機層とを備え、該有機層と無機層とを交互に積層してなるバリア性フィルム基板を用いる。このバリア性フィルム基板の有機層は、少なくとも一つのオキシラン環を有するポリマーを含有する。 （もっと読む）

【課題】トランジスタの配線を絶縁する絶縁膜をトランジスタの遮光性を確保する最小限の薄さに形成する際、トランジスタ特性を劣化させることなく、形成された絶縁膜の側壁部におけるショートマージンを十分確保することができる構成を有する電気光学装置を提供する。
【解決手段】第１層間絶縁膜４１は、高密度プラズマＣＶＤによって、ゲート電極３ａを平面視した状態で覆うよう形成された第１の絶縁膜４１ｈと、ゲート電極３ａの形状に起因して形成された第１の絶縁膜４１ｈの少なくとも側壁部４１ｐを平面視した状態で覆う位置に、第１の絶縁膜４１ｈに設定厚さ積層されて形成された第２の絶縁膜４１ｔと、により構成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】電圧保持率及び長期信頼性に優れた液晶表示素子用の液晶配向剤、それを用いて形成される液晶配向膜、及びそれを具備した液晶表示素子を提供する。
【解決手段】オキセタン、チイラン、アジリジン、及びオキサゾリンの構造の一又は二以上を有するヘテロ環化合物を、ポリアミック酸及びその誘導体に、ポリアミック酸及びその誘導体に対して総量で０．１〜５０重量％添加して液晶配向剤とし、これを用いて液晶配向膜を作製し、またそれを具備する液晶表示素子を作製する。 （もっと読む）

【課題】配向膜の性能を向上させ、また、高性能の配向膜を簡便に形成する方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板１０上に透明導電性膜１３として例えばＩＴＯ膜を形成した後、透明導電性膜１３上に、アモルファスシリコン膜１５を形成し、次いで、アモルファスシリコン膜１５にレーザー光照射を施し、アモルファスシリコン膜１５を結晶化し、この結晶化において多結晶シリコン膜１５ａ（複数の結晶粒の境界部）に生じた隆起部（凸部）をその後の酸化工程後においても維持し、それを利用して液晶に配向性を持たせ、配向膜とする。 （もっと読む）

【課題】無機配向膜表面の水酸基の影響が極めて少なく、耐光性及び耐湿性に優れた液晶装置の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、対向配置された一対の基板間に液晶が挟持された液晶装置の製造方法であって、一対の基板１０のそれぞれの液晶側に無機配向膜１６を形成する配向膜形成工程と、シランカップリング剤を用いて無機配向膜１６の表面を処理するシランカップリング処理工程と、シランカップリング処理が施された無機配向膜１６の表面にシリコーンポリマー膜１８を形成するシリコーンポリマー膜形成工程と、シリコーンポリマー膜１８を架橋反応させる架橋反応工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】無機水平配向膜の表面と液晶分子との反応を抑制するとともに、液晶分子に対す
る配向規制力を向上して、長期間に亘って高画質の画像表示を行うことができる液晶装置
を提供する。
【解決手段】配向膜１６の表面をエポキシシランカップリング剤で処理しておくことによ
り、液晶装置１の動作時に、液晶分子５０ａと光化学反応するシラノール基を減少させる
。同時に、エポキシシランカップリング剤で形成された反応層３１の親和性により、配向
膜１６による液晶分子５０ａの配向規制力を向上させる。 （もっと読む）

【課題】高い調光機能を有する防眩ミラーを提供すること。
【解決手段】少なくとも一方が透明電極である一対の電極間に、少なくとも一種の下記一般式（１）で表される置換基を有する二色性色素と、少なくとも一種のホスト液晶と、を含有することを特徴とする防眩ミラー。一般式（１）中、Ｈｅｔは酸素原子又は硫黄原子を表し、Ｂ¹及びＢ²は、各々独立に、アリーレン基、ヘテロアリーレン基又は２価の環状脂肪族炭化水素基を表し、Ｑ¹は２価の連結基を表し、Ｃ¹はアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基又はアシルオキシ基を表し、ｊは０又は１を表し、ｐ、ｑ及びｒは、各々独立に０〜５の整数を表し、ｎは１〜３の整数を表す。但し、（ｐ＋ｒ）×ｎは３〜１０の整数である。
一般式（１）：−（Ｈｅｔ）_j−｛（Ｂ¹）_p−（Ｑ¹）_q−（Ｂ²）_r｝_n−Ｃ¹ （もっと読む）

【課題】
薄膜トランジスタの性能のばらつきの低減を図ることができる薄膜トランジスタ装置及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】
本発明にかかる薄膜トランジスタ装置は、絶縁基板上１にソース領域２ａ、ドレイン領域２ｂ及びチャネル領域２ｃを含むシリコン層２と、ゲート絶縁層３と、ゲート電極４とを有する薄膜トランジスタと、薄膜トランジスタを覆う層間絶縁層５と、層間絶縁層５に設けられたコンタクトホール６を介して、ソース領域２ａ、ドレイン領域２ｂ及びゲート電極４に電気的に接続された配線７とを備えた薄膜トランジスタ装置である。配線７及び層間絶縁層５を覆い、配線７及び層間絶縁層５の表面凹凸を緩和する第一の上部絶縁層８ａと、第一の上部絶縁層８ａを覆う第二の上部絶縁層８ｂとを備え、第二の上部絶縁層８ｂの水素拡散係数が第一の上部絶縁層８ａの水素拡散係数より小さいことを特徴とするものである。 （もっと読む）

【課題】膜のパターニング時に高感度を発現し、２００℃〜２８０℃の熱処理後に得られる硬化膜が高解像度、高透明性、耐溶剤性を有する感光性シロキサン組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）ポリシロキサン、（ｂ）キノンジアジド化合物、（ｃ）溶剤、（ｄ）一般式（１）で表される化合物を含有する感光性シロキサン組成物。


（Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３は水素原子、炭素数１〜３のアルキル基、アルコキシ基のいずれかを表す。Ｒ^１とＲ^２が結合して環構造を形成してもよい。） （もっと読む）