説明

Fターム[2H090JB02]の内容

液晶−基板、絶縁膜及び配向部材 (35,882) | 基板の材質 (2,919) | 材料 (2,643) | ガラス (1,713)

Fターム[2H090JB02]に分類される特許

1,701 - 1,713 / 1,713


ウエハWを略水平姿勢で所定の回転数で回転させながらその表面に所定流量で純水を供給してウエハWをリンス処理した後に、ウエハWへの純水の供給流量を低減し、かつ、純水供給点をウエハWの中心から外側へ移動させる。こうして純水供給点の略外側で液膜を形成しながらウエハWをスピン乾燥処理する。 (もっと読む)


円偏光板は、λ/4位相差板(1)と、λ/4位相差板(1)の遅相軸に対して、吸収軸が略45°の角度を有するように、λ/4位相差板(1)の主表面に積層された直線偏光板(2)とを備える。λ/4位相差板(1)は、逆波長分散の特性を有し、Nz係数が1.6以上である。または、円偏光板は、逆波長分散の特性を有し、Nz係数が1.6以上であるλ/4位相差板と、λ/4位相差板の主表面に積層された直線偏光板とを備える。平面形状が四角形に形成され、該四角形の一辺に平行な方向を基準の方向としたときに、λ/4位相差板の遅相軸の方向が基準の方向に対して略+90°の角度を有し、直線偏光板の吸収軸の方向が基準の方向に対して略+45°の角度を有するように形成されている。これらのうちいずれかの構成を採用することにより、視野角特性に優れた円偏光板およびこれを備えた垂直配向型の液晶表示パネルを提供できる。
(もっと読む)


本発明のフレキシブル基板10は、無機ガラス層110とポリマー層120A,120Bとの積層体からなるフレキシブル基板10であって、ポリマー層120A,120Bはポリオルガノシルセスキオキサンを主成分として含むポリマー層であることを特徴とする。 このため、本発明のフレキシブル基板10によれば、優れた柔軟性、優れた耐衝撃性及び優れたガスバリア性を有するのに加えて優れた耐熱性をも有するフレキシブル基板となる。 (もっと読む)


設定ガラス歪レベルを達成するために複数の熱サイクルのパラメータを決定する方法は、ガラス基板についての複数の入力パラメータ及び複数の熱サイクルについての複数のパラメータを提供する工程を含む。方法は、最終熱サイクル完了後のガラス歪が設定ガラス歪より大きくならないように、複数の熱サイクルパラメータの内の少なくとも1つを反復修正する工程も含む。方法の一態様は、特定のガラス歪が達成できるか否かを、ガラス製造業者及びガラスをさらに処理できる別のエンティティ(例えばガラス製造業者の顧客)の材料パラメータ及びプロセスシーケンスからユーザが判定することが可能になる点で有用であり、達成できない場合でも、例示実施形態のより所望のガラス歪を満たすための顧客のプロセスにおける変化の製造業者による計算が可能になる。

(もっと読む)


所定の間隔の複数の狭小線を有するプリント板(20、40)を用い、プリント板に、印刷媒体を充填し、さらに基板に線を印刷することによって、構造部(31、51、91)が基板(30、50、90)に印刷される。印刷線の間の間隔は、隣接線からの印刷媒体が合体して構造部が形成されるように定められる。
(もっと読む)


基板上にパターン化薄膜を適用する方法は、基板をプラズマ処理する工程を含む。オルガノポリシロキサンポリマー、オルガノポリシロキサンオリゴマー、シロキサン樹脂及びポリシランの群から選択される1つ又は複数の化合物を含む液体コーティング材料をソフトリソグラフィック印刷法、好ましくはマイクロコンタクトプリンティングにより基板表面に塗布して、該基板上にパターン化皮膜を形成する。必要な場合は、任意の残留液体コーティング材料は基板表面から除去され得る。このプロセスは、デカール転写マイクロリソグラフィ法で必要とされるような硬化工程を液体コーティング材料が経ることを必要としない。任意の適切な形態のプラズマ処理を用いて、印刷前に基板を活性化し得る。

(もっと読む)


外側パネル(52)、内側パネル(54)、光透過制御層(56)および衝撃吸収層(58)を備えた不透明性調節可能な窓(50)が提供される。外側パネル(52)と内側パネル(54)は、それらの間に空洞(60)を提供し、前記光透過制御層および衝撃吸収層が該空洞内に配される。該衝撃吸収層は、前記光透過制御層を支持および保護する可撓性シート(62)である。光透過制御層は、液晶セル(66)で構成される。該セルの透過率は、可変制御が可能である。 (もっと読む)


システム全体をコンパクトなものとし、また、各種基板を効率よく分断することを可能とする基板分断システムを提供すること。 本発明の基板分断システムは、互いに対向して配置された一対のスクライブライン形成手段と、前記一対のスクライブライン形成手段の一方が基板の第1面上でX軸方向に移動し、前記一対のスクライブライン形成手段の他方が前記基板の第2面上でX軸方向に移動するように、前記一対のスクライブライン形成手段を支持する一対のスクライブ装置と、前記一対のスクライブ装置がY軸方向に移動可能なように、前記一対のスクライブ装置を支持するスクライブ装置ガイド体と、前記一対のスクライブライン形成手段が前記基板の前記第1面および前記基板の前記第2面をスクライブするために、前記基板をX−Y平面上に支持する基板支持手段とを具備する。 (もっと読む)


本発明は、アクティブマトリクス型液晶ディスプレイパネルの製造に使用するための基板製品に関する。この製品は、ディスプレイパネルとして使用するのに適したディスプレイ基板を含む。ディスプレイ基板は、0.4mm以下の厚さ、アルカリを実質的に含まない組成、および研磨および/または研削の前処理工程を必要とせずにその上に薄膜トランジスタを直接形成できる表面平滑性を有する。この製品は、ディスプレイ基板に取外し可能に取り付けられる少なくとも1つの支持基板も含む。
(もっと読む)


【課題】複数の線パターンの形成領域から一時的に溢れ出した機能液同士が接触しないように機能液を吐出することによって短絡を防止すると共に、線パターンと線パターンとをより近接させる。
【解決手段】線パターンの形成方法であって、隣合うバンク間34から一時的に溢れ出した上記機能液X同士が接触しないように各上記バンク間34の幅方向の中央Aに対し当該幅方向に変位した位置を各々のバンク間34の吐出位置として上記機能液Xを吐出することによって複数の上記バンク間34に同時に機能液を配置する。 (もっと読む)


【課題】電気光学装置に設けられる半透過反射基板の製造時に、その下地層の部分的な剥離を防止する。
【解決手段】半透過反射基板の製造工程においては、まず、図5(a)に示すように第2基板120上に感光性樹脂132を塗布し、続いて、図5(b)に示すようにフォトマスク145にて露光した後、現像して下地層130を形成する。このうち、露光処理においては、開口部125と凹凸面132bとが離間するように露光し、それらの間隙が平坦となるような処理を施す。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、視認性に優れた多重ドメイン液晶表示装置及びそれに用いられるトランジスタ基板を提供することを目的とする。
【解決手段】 絶縁基板、絶縁基板上に第1方向に形成されている第1信号線、絶縁基板上に第2方向に形成されていて第1信号線と絶縁されて交差している第2信号線、第1信号線及び第2信号線に連結されている第1薄膜トランジスタ、第1薄膜トランジスタが連結されている第1信号線及び第2信号線に連結されている第2薄膜トランジスタ、第1薄膜トランジスタに連結されている第1画素電極、第2薄膜トランジスタに連結されている第2画素電極を含み、第1薄膜トランジスタの第1ドレーン電極及びゲート電極の間に形成される第1静電容量、第2薄膜トランジスタの第2ドレーン電極及びゲート電極の間に形成される第2静電容量が互いに異なる薄膜トランジスタ基板を提供する。 (もっと読む)


【課題】 各種レシピに対応した洗浄槽の配列構成が可能で、汎用性に富むとともに、スループットにも優れる基板洗浄技術を提供する。
【解決手段】 基板洗浄部Bは、複数種類の薬液で洗浄処理可能な多機能洗浄槽3(3a、3b)と、専用の薬液で洗浄処理可能な単機能洗浄槽4(4a、4b)とを組み合わせてなる洗浄槽列1(1a、1b)が2組設けられてなり、各種レシピに対応した洗浄槽の配列構成が可能で、スループットにも優れる。 (もっと読む)


1,701 - 1,713 / 1,713