【課題】感度低下させることなく分光増感剤からの余分な蛍光発光の影響を除去し、解像度（リニアリティ）及び耐刷性に優れた感光性平版印刷版材料、その製造方法及びそれを用いた製版方法を提供する。
【解決手段】支持体上に、少なくとも、Ａ）付加重合可能なエチレン性二重結合含有単量体、Ｂ）光重合開始剤、Ｃ）高分子結合材とを、含有する感光性組成物を含む光重合性感光層を有する感光性平版印刷版材料において、該感光性組成物を塗布する支持体の陽極酸化処理以降感光性組成物を塗布する前までの工程において、該支持体が４００ｎｍ以上５００ｎｍ以下に吸収極大波長を有する染料を含有する溶液により処理されることを特徴とする感光性平版印刷版材料。 （もっと読む）

【課題】面取り処理を必要とする平版印刷版においても現像時に圧力カブリによる感光材料端面部の溶出不良部に起因する自動製版機への悪影響が無く、また搬送ロールの表面に汚れが固着することなく長期に渡って安定な現像処理を行うことが可能な平版印刷版の処理装置を提供する事。
【解決手段】端面が面取り処理された平版印刷版を、ロール挟持により搬送しつつ、少なくとも現像液中に浸漬し非画像部を溶出除去した後に水洗処理する処理装置において、水洗処理部の搬送ロールの内、少なくとも入口上側のロール表面が撥水撥油性を有する平版印刷版の処理装置を用いる。 （もっと読む）

【課題】 合紙を用いずに積層した場合であっても、輸送等による擦れ傷が記録層に生じず、且つ、耐薬品性、耐溶剤性、及び、耐熱性に優れた赤外線感光性ポジ型平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】 支持体の片面に、水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂と、赤外線吸収剤と、を含み、赤外線照射により画像を形成し得る記録層を有し、前記支持体の記録層を有する面とは反対側の面に、エポキシ樹脂およびレゾール樹脂から選ばれる少なくとも一種の有機ポリマーと、架橋剤と、を含む溶液を塗布、乾燥することで形成される有機ポリマー層を有することを特徴とする赤外線感光性平版印刷版原版である。 （もっと読む）

【課題】 塗布時にアルミウェブのカール量を抑える平版印刷版原版の製造方法を得る。
【解決手段】 塗布工程２０の直前に平面化処理工程１８を設け、アルミニウム板１２を平面化させることで、アルミニウム板１２と塗布液を貯留するためのコータの、アルミニウム板１２の搬送方向上流側に位置する側壁の先端面とのクリアランスを一定にすることができるため、塗布不良を防止すると共に、塗布層の肉厚のバラツキを抑え、塗布性能を向上させることができる。つまり、塗布エッジ部の厚塗り変動、塗布ムラの発生を防止することができる。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、耐刷性に優れ、印刷時の汚れ防止性に優れる感光性平版印刷版材料並びにそれを与える支持体及びその製版方法を提供することである。
【解決手段】 アルミニウム板を粗面化処理及び陽極酸化処理した後、ポリビニルホスホン酸を含む水溶液で処理する工程を有する感光性平版印刷版材料用アルミニウム板支持体の製造方法であって、該ポリビニルホスホン酸を含む水溶液で処理する工程が、ポリビニルホスホン酸を含む水溶液で処理する、第一工程及び第二工程を有し、該第一工程におけるポリビニルホスホン酸の平均分子量が第二工程におけるポリビニルホスホン酸の平均分子量より大きいことを特徴とする感光性平版印刷版材料用アルミニウム板支持体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】半導体製造時洗浄工程において、ウェハー表面上のフォトレジスト残留物、他の残留物及び不純物が完全に除去されない場合がある。
【解決手段】システムは超臨界処理チャンバーに連結されたメトロロジーモジュールを含み、本願の方法はメトロロジーチャンバー内の基板ホルダ上に基板を配置し、基板の少なくとも一つのフィーチャー内の残留物を測定し、測定された残留物に基づき超臨界洗浄プロセス処方を決定し、メトロロジーチャンバーに連結された超臨界処理チャンバー内の基板ホルダ上に基板を配置し、決定された超臨界洗浄プロセス処方を用いて超臨界流体で基板を洗浄し、超臨界処理チャンバーから基板を取り出すことを含む。前記方法は、メトロロジーチャンバー内での基板の再配置、及び基板の少なくとも一つのフィーチャー内に残存する残留物の測定をさらに含む。 （もっと読む）

【課題】導電性構造物を損傷することなしに、半導体基板および／または導電性構造物上に残留するポリマーを除去することができ、粒子汚染および金属汚染を効果的に抑制しうる手段を提供する。
【解決手段】水酸化アンモニウム化合物およびフッ素含有化合物を含む水溶液８０〜９９．８９９９質量％と、緩衝剤０．１〜５質量％と、腐食防止剤０．０００１〜１５質量％と、を含むことを特徴とする半導体基板用洗浄液組成物、該洗浄液組成物の製造方法、該洗浄液組成物を用いた半導体基板の洗浄方法、および該洗浄方法を含む半導体素子の製造方法である。 （もっと読む）

（ａ）構造式ＶＩを有し、式中、Ｙは、Ｓ、Ｏ、ＮＲ²、（ＨＯＣＨ）_pからなる群から選択され、Ｒ¹は、それぞれ独立してＨ、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基又はハロゲンから選択され、Ｒ²は、それぞれ独立してＨ、ＳＨ、ＣＨ₃、Ｃ₂Ｈ₅及びチオール基を含む直鎖及び分岐鎖Ｃ₁−Ｃ₄アルキル基であり、Ｖ¹及びＶ²は、式中から独立して選択され、ｍは、独立して０〜４の整数であり、ただし、Ｙ＝ｎが１〜５の整数である場合のみｍは＝０となることができ、ｐは、１〜４の整数であり、Ｒ¹は、それぞれ上記に定義されている少なくとも１つの化合物、（ｂ）少なくとも１つの有機溶媒及び場合により、（ｃ）本組成物中に存在する構造式ＶＩの化合物量が、感光性組成物を基板上において被覆し、この被覆基板をその上に画像を形成するよう加工する場合の形成から生じる残留物を抑制する効果がある少なくとも１つの接着促進剤の前処理組成物。
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【課題】粗面化したロールによりアルミニウム板表面に転写される均一な凹凸形状を崩すことなく、ＡＬ小片に由来のキズの発生を防ぐことができる、平版印刷版用支持体の製造方法の提供。
【解決手段】微小隆起部と、算術平均粗さＲ_aが０．５〜１．０μｍの凹凸とを表面に有する、アルミニウム板３０に、少なくとも、前記微小隆起部の一部または全部を除去し、前記凹凸の算術平均粗さＲ_aを低減させる前処理、および、電気化学的粗面化処理をこの順に施し、平版印刷版用支持体を得る、平版印刷版用支持体の製造方法。 （もっと読む）

化学線による露光によりレリーフ・パターンをその上に形成させる基板を処理するための前処理組成物であって、（ａ）少なくとも１つの、構造（ＶＩ）、式中、Ｖは、ＣＨ及びＮから成るグループから選択され；Ｙは、Ｏ及びＮＲ³から成るグループから選択され、ここで、Ｒ³は、Ｈ、ＣＨ₃及びＣ₂Ｈ₅から成るグループから選択され；Ｒ¹及びＲ²は、それぞれ独立に、Ｈ、Ｃ₁−Ｃ₄アルキル基、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ基、シクロペンチル、及びシクロヘキシルから成るグループから選択され；或いは、Ｒ¹及びＲ²は、置換基が電子吸引基ではない場合、縮合して置換又は無置換のベンゼン環を形成することができる；を有する化合物；（ｂ）少なくとも１つの有機溶媒；そして場合により、（ｃ）少なくとも１つの接着促進剤；を含む前処理組成物であって、ここで、組成物中に存在する構造ＶＩの化合物の量は、感光性組成物が基板に塗布され、引き続いて塗布された基板が基板上に画像を形成するように処理された場合、残留物の形成を阻害するのに有効である前処理組成物。基板の前処理の方法及び前処理した基板上にレリーフ画像を形成する方法が開示される。
【化１】

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【課題】 刷り出し性、耐刷性に優れ、更に印刷時の汚れ防止性に優れる感光性平版印刷版材料、並びにその為の感光性平版印刷版材料用アルミニウム板支持体及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】 粗面化処理及び陽極酸化処理した後、親水性処理として珪酸ソーダ処理を施した後にポリビニルホスホン酸を含む水溶液で処理し、その後１５０〜２３０℃で乾燥することを特徴とする感光性平版印刷版材料用アルミニウム板支持体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】塩酸を含有する水溶液中での交流電解を用い、耐汚れ性および耐刷性のいずれにも優れる平版印刷版原版を得ることができる平版印刷版用支持体の製造方法の提供。
【解決手段】アルミニウム板４１６に、少なくとも、塩酸を含有する水溶液４１８，４２６中での交流を用いた電気化学的粗面化処理を施して、平版印刷版用支持体を得る、平版印刷版用支持体の製造方法であって、前記水溶液のアルミニウムイオン濃度が０．１〜３．０ｇ／Ｌである、平版印刷版用支持体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】基板の表面、特に感光性が低い基板表面、あるいは撥液剤、カップリング剤、プラズマ処理等で表面処理を行なった基板表面にパターニングを行うに際して、より短時間での露光パターニングを可能とし、併せて露光パターニングの精度も向上させることができるパターニング方法を提案する。
【解決手段】露光パターニングしようとする基板１の表面にオゾン水２を接触させながら、紫外線３を露光マスク３０を介して基材１の表面に照射して、基材１の表面をパターニングする。 （もっと読む）

【課題】製造中に生じる半導体デバイスの欠陥、特にパターンのつぶれを、スループットを犠牲にすることなく低減するための方法とそのための処理溶液を提供すること。
【解決手段】１種以上の界面活性剤を含む処理溶液を使用して、半導体デバイス製造時の欠陥数を低減する。この処理溶液は、特定の好ましい態様において、パターニングしたホトレジスト層の現像の際又はその後でリンス液として使用すると、パターンのつぶれのような現像後の欠陥を低減することができる。 （もっと読む）

【課題】現像処理工程、印刷工程等における非画像部のキズ付きを抑制し、印刷物インキ汚れの問題を抑制した水なし平版印刷版原版の製造方法を提供する。
【解決手段】支持体上に、少なくとも光熱変換層及びシリコーンゴム層を順次積層してなる湿し水不要平版印刷版原版の製造方法であって、支持体上に０．０１〜０．１２ｋＷ／ｍ²／分のコロナ放電処理を施してから１０分以上１ヶ月以内の経時後、あるいはＸ線光電子分光法（ＥＳＣＡ）で測定した支持体表面の酸素／炭素元素比が０．４１以上となるように支持体表面にコロナ放電処理を施した後に、該コロナ放電処理面上に光熱変換層を直接設けたことを特徴とする湿し水不要平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】 デュアルダマシン構造形成時に、レジストパターンの解像不良を生じる反応阻害物質を除去する。
【解決手段】 露光に伴って発生する酸性物質との反応により、露光部が現像液に可溶（あるいは、不溶）となる化学増幅型レジスト膜の形成面の平坦化を行う平坦化材料、または、前記化学増幅型レジスト膜の直下に塗布される反射防止膜形成材料の少なくとも一方に、光酸発生剤または熱酸発生剤を含有する材料を使用する。前記材料が光酸発生剤を含有する場合は、化学増幅レジスト膜の形成前に全面露光を行い、また、前記材料が熱酸発生剤を含有する場合は、化学増幅レジスト膜の露光前に加熱を行うことで、酸性物質を発生させる。これにより、下層の炭素含有シリコン酸化膜等の低誘電率膜からなる第２の絶縁膜４等の中に存在する窒素に起因した塩基性物質を、当該材料の酸性物質で除去し、化学増幅型レジスト膜に拡散することを防止する。 （もっと読む）

【課題】現像処理工程、印刷工程等における非画像部のキズ付きを抑制し、印刷物インキ汚れの問題を抑制した水なし平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】支持体上に、少なくとも光熱変換層およびシリコーンゴム層を順次積層してなる湿し水不要平版印刷版原版であって、支持体が０．０１〜０．１２ｋＷ／ｍ²／分のコロナ放電処理を施された支持体であり、該支持体上に直接設けた光熱変換層が、ジブチルフタレート（ＤＢＰ）吸油量が１１１ｍｌ／１００ｇ以上のカーボンブラックを含有するか、あるいは１次粒子の平均粒径が２５ｎｍ〜７５ｎｍのカーボンブラックを含有することを特徴とする湿し水不要平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】 短時間で簡単且つ効果的に被処理基板表面の均一性を向上でき、そのため基板と種々の薄膜間の密着性を改善でき、レジスト膜の現像不良の防止やパターン形状の改善を実現できる微細加工方法を提供する。
【解決手段】 被処理基板１３０上に遠紫外から真空紫外領域の波長で半値幅３０ｎｍ以下の単色光１３９を全面照射処理する。単色光は±１５％以内の照度分布で照射するのが好ましい。 （もっと読む）

【課題】転写法により凹凸を付与されたアルミニウム板を用い、費用が安く、環境に対する負荷が小さい、平版印刷版用支持体の製造方法の提供。
【解決手段】表面に凹凸を有する転写ロールにより表面に凹凸を付与されたアルミニウム板に、少なくとも、中性塩水溶液中での直流を用いた陰極電解エッチング処理、および、塩酸を含有する水溶液中での交流を用いた電気化学的粗面化処理をこの順に施して、平版印刷版用支持体を得る、平版印刷版用支持体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】感度ならびに平版印刷版としたときの耐汚れ性および耐刷性のいずれにも優れる平版印刷版原版を得ることができる平版印刷版用支持体の製造方法の提供。
【解決手段】アルミニウム板に、少なくとも、
ブラシと研磨剤を含有するスラリー液とを用いて、平均表面粗さが０．２５μｍ以上０．４０μｍ未満となるように機械的に粗面化する機械的粗面化処理、および、
塩酸を含有する水溶液中で、平均表面粗さが０．４０〜０．５５μｍとなるように電気化学的に粗面化する電気化学的粗面化処理
をこの順に施して、平版印刷版用支持体を得る、平版印刷版用支持体の製造方法。 （もっと読む）