【課題】露光時の剥れが抑制される感光性レジストパターンの形成方法、及びそれを利用した半導体装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】ドライエッチングが施されたシリコン基板の表面に対して、酸溶液又はアルカリ溶液によりウエットエッチング処理を施す工程と、ウエットエッチング処理が施されたシリコン基板の表面に対して、水酸基で終端させる表面処理を施す工程と、水酸基で終端させる表面処理が施されたシリコン基板の表面に対して、水酸基の水素原子を有機珪素化合物基で置換させる表面処理を施す工程と、水酸基の水素原子を有機珪素化合物基で置換させる表面処理が施されたシリコン基板の表面に対して、感光性レジストパターンを形成する工程と、を有する感光性レジストパターンの形成方法である。 （もっと読む）

【課題】検版性に優れ、かつ火膨れ耐性が良好な水なし平版印刷版原版を提供すること。
【解決手段】基板上に、少なくとも感熱層と、有色顔料を含むシリコーンゴム層とを有する水なし平版印刷版原版であって、前記有色顔料の粒度分布が、少なくとも４００ｎｍ以上の領域および１５０ｎｍ以下の領域にそれぞれ極大値を有することを特徴とする水なし平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】４００ｎｍ〜９００ｎｍの波長範囲のレーザー光露光に対して高感度であり、特に感光性組成物を支持体上に塗布するための塗布液の経時安定性が改良された感光性組成物、および耐刷性と地汚れが改善された感光性平版印刷版材料を与えること。
【解決手段】（Ａ）一般式Ｉで示される有機ホウ素塩、（Ｂ）トリハロアルキル置換化合物、（Ｃ）４００ｎｍ〜９００ｎｍの波長範囲に吸収を有するシアニン系色素、および（Ｄ）重合性二重結合基を有する化合物を含んでなる感光性組成物。
【化１】
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【課題】基板表面に形成されたパターンの倒壊をより確実に防止することができる基板処理方法および基板処理装置を提供する。
【解決手段】キャリアから搬出された基板には、処理ユニットまでの搬送系路途中にてオゾンガスが吹き付けられて有機物汚染の除去処理が行われる。表面から有機物汚染が除去された基板が処理ユニットに搬入されて薬液表面処理が行われるため、基板の全面に対して均一な表面処理を行うことができる。薬液処理が終了した基板には純水リンス処理が行われ、その後基板の表面に疎水化剤としてのＨＭＤＳが供給されて疎水化処理が行われる。これにより、基板表面のパターン内に残留している液滴の毛管力はゼロに近くなり、乾燥処理時のパターン倒壊を防止することができる。疎水化された基板はキャリアに戻る搬送系路途中にて再度オゾンガスが吹き付けられて疎水化状態が解除される。 （もっと読む）

【課題】薬液の気化効率が高く、高濃度の疎水化ガスを基板に供給することができ、さらに薬液の劣化を抑えることができる疎水化処理装置を提供すること。
【解決手段】気化室内にその表面が位置する気化面形成部と、この気化面形成部を加熱するための気化面加熱手段と、前記気化面形成部の表面に疎水化処理用の薬液を供給するための薬液供給ポートと、前記気化面形成部に広げられた薬液を気化するキャリアガスを前記気化室内に導入するためのガス導入ポートと、疎水化ガスを取り出すための取り出しポートと、前記取り出しポートから供給された疎水化ガスを基板に供給する処理容器と、を備えるように疎水化処理装置を構成する。この構成によって基板に高濃度の疎水化ガスを供給することができ、処理を行わないときには貯留された薬液がキャリアガスに接触することがないので、薬液の劣化が抑えられる。 （もっと読む）

【課題】樹脂パターンや被エッチングパターンのパターン倒れを効果的に防止することが可能な表面処理方法、及びその表面処理方法で用いられる表面処理液を提供する。
【解決手段】本発明に係る表面処理方法は、基板上に設けられた樹脂パターン、又はエッチングにより基板に形成された被エッチングパターンの表面を、シリル化剤及び溶剤を含有する表面処理液で処理する工程と、表面処理液による処理後の樹脂パターン又は被エッチングパターンを洗浄する工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】レーザーによる画像記録が可能であり、充分な耐刷性を維持しつつ良好な汚れ性、現像性が得られる平版印刷版原版、及び平版印刷版の製版方法を提供する。
【解決手段】支持体上に、スルホンアミド基を有するポリマーを含有する中間層と、ラジカル重合開始剤、増感色素及び重合性化合物を含有する画像記録層とを順次積層して有することを特徴とする平版印刷版原版；支持体上に、スルホンアミド基を有するポリマーを含有する中間層と、ラジカル重合開始剤、増感色素、重合性化合物及びバインダーポリマーを含有する画像記録層とを順次積層して有する平版印刷版原版を用いた平版印刷版の製版方法。 （もっと読む）

【課題】レーザーによる画像記録が可能であり、充分な耐刷性を維持しつつ良好な汚れ性、現像性が得られる平版印刷版原版および製版方法を提供する。
【解決手段】支持体上に、ラジカル重合開始剤、増感色素、重合性化合物、および側鎖にスルホンアミド基を介して末端にエチレン性不飽和基を有しているバインダーポリマーを含有する画像形成層を有することを特徴とする、平版印刷版原版；上記平版印刷版原版を用いた平版印刷版の製版方法。 （もっと読む）

【課題】細線抜け性及び耐刷性に優れた平版印刷版原版、並びに、平版印刷版の製版方法を提供すること。
【解決手段】支持体上に、（Ａ）増感色素、（Ｂ）重合開始剤、（Ｃ）重合性化合物、（Ｄ）バインダーポリマー、及び、（Ｅ）フェノチアジン系化合物を含有する感光層を有することを特徴とする平版印刷版原版、並びに、前記平版印刷版原版を画像露光する露光工程、及び、現像液の存在下で非露光部の感光層を除去する現像工程を含むことを特徴とする平版印刷版の製版方法。 （もっと読む）

【課題】良好な耐刷性と優れた検版性を実現する機上現像型平版印刷版原版および製版方法を提供する。
【解決手段】支持体上に、（Ａ）赤外線吸収剤を含有する感光層、ならびに（ａ）熱発泡性微粒子および（ｂ）親水性バインダーを含有する発色層をこの順に有することを特徴とする平版印刷版原版、および赤外レーザー露光を含む該平版印刷版原版の製版方法。 （もっと読む）

【課題】レーザーによる画像記録が可能であり、充分な耐刷性を有し、かつ平版印刷版原版作製後に経時した場合においても機上現像性が良好な平版印刷版原版、およびその製版方法を提供する。
【解決手段】支持体上に、（Ａ）赤外線吸収剤と、（Ｂ）ラジカル重合開始剤と、（Ｃ）重合性化合物と、さらに（Ｄ）分子量１０００以下のエポキシ化合物を含有する画像記録層を有することを特徴とする平版印刷版原版、および機上現像による製版方法。 （もっと読む）

【課題】反応性に優れ、さらに得られた硬化性高分子化合物の反応液中での安定性に優れる硬化性高分子化合物の製造方法、ならびに、その製造方法により得られた硬化性高分子化合物を含む、組成物および平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】エチレン性不飽和基を有するエポキシ化合物を高分子化合物中に存在する酸基に付加させる硬化性高分子化合物の製造方法であって、触媒として分子内にカウンターアニオンを有するオニウム塩を用いることを特徴とする硬化性高分子化合物の製造方法、ならびに、その製造方法により得られた硬化性高分子化合物を含む、組成物および平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】赤外線レーザ露光により高感度で硬化するとともに、プレヒート処理における加熱ラチチュードが広く、低温でプレヒート処理した場合においても、耐刷性に優れた画像が形成でき、且つ非画像部における残膜の発生が抑制されたネガ型平版印刷版原版及びその製版方法を提供する。
【解決手段】支持体上に、（Ａ）光又は熱により分解して酸を発生する化合物、（Ｂ−１）下記一般式（Ｉ）で表される部分構造を有し、分子量が２０００以下である架橋剤、（Ｂ−２）レゾール樹脂、（Ｃ）バインダーポリマー、及び（Ｄ）赤外線吸収剤を含有する画像記録層を有することを特徴とするネガ型平版印刷版原版。一般式（Ｉ）中、Ｒ^１は、炭素数１〜２０の炭化水素基、アルコキシ基、又はハロゲン原子を表し、Ｒ^２は、水素原子又は炭素数１〜２０の炭化水素基を表し、ｍ_１は、１〜３の整数を表し、ｎ_１は、０〜３の整数を表し、ｎ_２は、１〜３の整数を表す。
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【課題】反応性に優れ、さらに得られた硬化性高分子化合物の反応液中での安定性に優れる硬化性高分子化合物の製造方法、ならびに、その製造方法により得られた硬化性高分子化合物を含む、組成物および平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】エチレン性不飽和基を有するエポキシ化合物を高分子化合物中に存在する酸基に付加させる硬化性高分子化合物の製造方法であって、触媒として、ｐＫａが３．０以下であるカルボン酸の塩を用いることを特徴とする硬化性高分子化合物の製造方法、ならびに、その製造方法により得られた硬化性高分子化合物を含む、組成物および平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】良好な現像性を維持しつつ、現像除去成分の版面再付着を抑制し、かつ良好な細線再現性を得るのに適した平版印刷版の作製方法を提供する。
【解決手段】支持体上に、側鎖にポリアルキレンオキサイドセグメントを有する繰り返し単位と側鎖にシアノ基を有する繰り返し単位を含有するポリマー微粒子を含む画像形成層を有する平版印刷版原版を画像様に露光する工程、及び露光済みの平版印刷版原版を炭酸イオン及び炭酸水素イオンを含有するｐＨ８．５〜１０．５の水溶液で現像する工程を含む平版印刷版の作製方法。 （もっと読む）

【課題】赤外線レーザ露光により高感度で硬化するとともに、プレヒート処理における加熱ラチチュードが広く、低温でプレヒート処理した場合においても、支持体との密着性、画像部の強度に優れ、耐刷性が良好な画像部を形成しうるとともに、非画像部における残膜の発生が抑制されたネガ型平版印刷版原版及びその製版方法を提供する。
【解決手段】支持体上に、一般式（Ｉ）で示される化合物を含有する中間層と、（Ａ）光又は熱により分解して酸を発生する化合物、（Ｂ）架橋剤、（Ｃ）バインダーポリマー、及び、（Ｄ）赤外線吸収剤を含有する画像記録層と、を順次備えるネガ型平版印刷版原版。下記一般式（Ｉ）中、Ｒ^１は、炭素数１〜１０のｎ価の炭化水素基を表す。Ｌ^１、Ｌ^２はそれぞれ独立に炭素数１〜６の２価の炭化水素基を表す。Ｍはそれぞれ独立に水素原子、金属原子又はアンモニウム基を表す。ｎは１〜５の整数を表す。
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【課題】レーザーによる画像記録が可能であり、インキ着肉性が良好な平版印刷版原版および製版方法を提供する。
【解決手段】支持体上に、画像記録層および保護層をこの順に有する平版印刷版原版であって、アジニウム塩を保護層に含有することを特徴とする平版印刷版原版。アジニウム塩が下記一般式（Ｉ）または一般式（ＩＩ）で表されることが好ましい。また、平版印刷版原版は機上現像可能であることが好ましい。


式中、Ｒ^１は１価の有機基を、Ｒ^２〜Ｒ^６は水素原子等を、Ｘ⁻はアニオンを、Ｗは２価の有機連結基を表す。 （もっと読む）

【課題】微粒子パターンを単層で、かつ位置選択的に形成可能な微粒子パターンの形成方法および基板の加工方法を提供する。
【解決手段】基板上に光開裂によりラジカル重合を開始しうる重合開始部位を有するシランカップリング剤（Ｂ１）を成膜してシランカップリング剤層を形成する工程、前記シランカップリング剤層上に表面がラジカル重合性官能基で修飾された微粒子（Ａ１）からなる微粒子層を形成する工程、前記微粒子層にマスクを通して露光し、露光部位の最下部の微粒子（Ａ１）を光ラジカル重合によりシランカップリング剤（Ｂ１）と結合させて基板上に固定する工程、前記微粒子層の基板に固定されていない微粒子を除去する工程を有する微粒子パターンの形成方法。上記の方法を用いて形成された微粒子パターンをエッチングマスクとして、下地基板を加工するする基板の加工方法。 （もっと読む）

【課題】ｐＨ３〜１０程度の現像液を用いても、十分な耐刷性を維持でき、かつ充分な検版性を発揮できる、平版印刷版の製版方法を提供する。
【解決手段】粗面化処理されたアルミニウム支持体上に、赤外線吸収色素、重合開始剤、少なくとも２つのエチレン性不飽和基を含有するラジカル重合性化合物、及び酸性色素と相互作用する有機高分子化合物を含有する画像形成層を設けた平版印刷版原版を、画像様に露光した後、界面活性剤及び酸性色素を含有するｐＨ３〜１０の水溶液により現像することを特徴とする、平版印刷版の製版方法。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、大版での高生産性に対応した耐傷性を有し、ｐＨが低い又は疲労した活性の低い現像液に対しての感度、現像ラチテュードに優れ、保存安定性に優れた平版印刷版材料とそれに使用する印刷版材料用樹脂組成物を提供することにある。
【解決手段】下記一般式１で表される化合物を含有することを特徴とする印刷版材料用樹脂組成物。
【化１】
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