【課題】基板の場所による現像液に曝される現像時間の変動を解消し、基板の面内の寸法バラツキの少ない、均一な厚さ、パターン形状が安定した再現性の優れた現像処理するカラーフィルタの製造に用いる現像装置及びこれを用いたカラーフィルタの製造方法を提供することである。
【解決手段】基板搬送方向と直交する水平面に対して直交方向に並列して配置するコンベアーロール面を傾斜させ、コンベアーロール上に載置した基板が水平方向に基板搬送されながら、傾斜させた基板面の、直上で、平行して配置した複数のスプレーノズルから基板面上へ現像液が供給されて、基板が水平移動しながら現像処理をするカラーフィルタの製造に用いる現像装置であって、前記傾斜させたコンベアーロールのうち、傾斜面の高い側に追加スプレーノズルを設けたことを特徴とする現像装置。 （もっと読む）

【課題】基板検査ユニットを組み込むにあたって占有面積が狭く、不利なレイアウトを避けることができる塗布、現像装置を提供すること。
【解決手段】液処理ユニット及び加熱ユニットを含む塗布膜形成用のブロック及び加熱ユニット及び現像液を基板に塗布する処理ユニットを現像処理用のブロックを関そうして処理ブロックを形成し、キャリアブロックと処理ブロックとの間に、各ブロックの搬送手段との間で基板の受け渡しを行なうための棚状の受け渡しステージ群と、各受け渡しステージに対して基板の受け渡しを行う昇降自在な上下搬送手段と、を設け、前記塗布膜形成用のブロック、現像処理用のブロックの少なくともいずれか一方に各ブロックの基板搬送手段により搬送される基板の検査を行う基板検査ユニットが設けられるように塗布、現像装置を構成する。 （もっと読む）

【課題】高感度で、セーフライト適性に優れた平版印刷版原版をｐＨ２．０〜１０．０の水性現像液で現像する製版方法、およびこの方法に用いる平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】支持体上に少なくとも感光層を有する平版印刷版原版に、３６０ｎｍ〜４５０ｎｍの範囲に発振波長を有する光源を搭載した露光装置を用いて露光した後、擦り部材を備えた自動処理機により、ｐＨが２〜１０の現像液の存在下、擦り部材で版面を擦ることにより、非露光部の感光層を除去する方式の平版印刷版原版において、前記感光層が、（Ａ）３６０ｎｍ〜４５０ｎｍの光を吸収する増感色素、（Ｂ）重合開始剤、（Ｃ）重合性化合物、及び（Ｄ）バインダーポリマーを含有する感光性組成物により形成されており、前記（Ｄ）が親水性基としてイオン結合性基を含有する樹脂であることを特徴とする平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】処理後に得られる平板印刷板の品質を下げることなく、平版印刷版の現像処理における処理薬品の使用を大幅に削減し又、現像後に使用される水洗水の量を抑制することができる平版印刷版の処理方法及び現像装置を提供すること。
【解決手段】支持体上に感光層又は感熱層を有する平版印刷版を露光した後、現像処理する平版印刷版の処理方法及び現像装置であって、露光後の平版印刷版の露光面に粒状のドライアイスを圧縮気体で吹き付け、感光層又は感熱層の未露光部又は露光部の内の支持体との密着が弱い方を除去する。 （もっと読む）

【課題】安価な短波半導体レーザの発振波長に対し高感度であり、保存安定性及びセーフライト適性にも優れた走査露光用平版印刷版原版をｐＨ２．０〜１０．０の水性現像液で現像する平版印刷版の作成方法を提供する。
【解決手段】親水性支持体上に、（Ａ）特定の構造を有する増感色素、（Ｂ）開始剤化合物、（Ｃ）重合性化合物、及び（Ｄ）酸価が０．３meq/g以下の疎水性バインダーポリマーを含有する感光層と、保護層とをこの順に有する平版印刷版原版を、波長が３５０〜４５０ｎｍのレーザーで露光した後、擦り部材を備えた自動処理機により、ｐＨが２〜１０の現像液の存在下、擦り部材で版面を擦ることにより、保護層および非露光部の感光層を除去することを特徴とする平版印刷版の作製方法。 （もっと読む）

【課題】安価な短波半導体レーザの発振波長に対し高感度であり、保存安定性及びセーフライト適性にも優れた走査露光用平版印刷版原版をｐＨ２．０〜１０．０の水性現像液で現像する平版印刷版の作成方法を提供する。
【解決手段】親水性支持体上に、（Ａ）特定の構造を有する増感色素、（Ｂ）開始剤化合物、（Ｃ）重合性化合物、及び（Ｄ）酸価が０．３meq/g以下の疎水性バインダーポリマーを含有する感光層と、保護層とをこの順に有する平版印刷版原版を、波長が３５０〜４５０ｎｍのレーザーで露光した後、擦り部材を備えた自動処理機により、ｐＨが２〜１０の現像液の存在下、擦り部材で版面を擦ることにより、保護層および非露光部の感光層を除去することを特徴とする平版印刷版の作製方法。 （もっと読む）

【課題】レジスト膜が形成された基板の上に撥水性の保護膜を形成し、その表面に液層を形成して液浸露光した後の基板に現像処理を行うにあたって、現像欠陥を低減させると共にパターンの線幅の制御性を向上させること。
【解決手段】先ずレジスト膜の表面に液層を形成した状態で露光した後の基板から保護膜を除去する。次に基板を加熱処理した後、基板の現像処理を行う。この態様において、前記保護膜を除去する前に露光後の基板の表面を洗浄液により洗浄するか、あるいは前記保護膜を除去した後、基板を加熱処理する前に、基板の表面を洗浄液により洗浄する。 （もっと読む）

【課題】高感度で、セーフライト適性に優れた平版印刷版原版をｐＨ２．０〜１０．０の水性現像液で現像する製版方法、およびこの方法に用いる平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定の増感色素、（Ｂ）開始剤化合物、（Ｃ）重合性化合物、（Ｄ）酸価０．３meq/g以下の疎水性バインダーポリマーを含有する感光層と、保護層とをこの順に有する平版印刷版原版を、３５０〜４５０ｎｍのレーザー露光した後、擦り部材を備えた自動処理機により、ｐＨが２〜１０の現像液の存在下、擦り部材で版面を擦ることにより、保護層および非露光部の感光層を除去することを特徴とする平版印刷版の作製方法およびこの方法に用いる平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】露光された感光性樹脂膜を有する半導体基板を静止した状態で、この基板の直径に対応した大きさを有する棒状現像液吐出ノズルを走査させるようにした現像装置を用いる現像方法において、基板の一端付近と他端付近の現像パターン寸法が現像液供給の時間差でばらつくのを防止する。
【解決手段】基板の一端Ｐ１から吐出速度ＷＬで吐出を開始し、吐出速度を次第に速くして基板の他端Ｐ２での吐出速度をＷＬにする。このようすれば、基板のＰ１の付近で最も早く現像が開始されるが、この部分では現像液の吐出速度がＷＬと低いため、すなわちこの部分に局所的に塗布される現像液の量が少なくなるので、余分なレジストを溶解するのに液が消費され、したがって現像速度は遅くなり、基板の両端Ｐ１、Ｐ２での現像速度差が短縮される。 （もっと読む）

【課題】ｐＨ２〜１０のマイルドな現像処理または水溶性高分子を含む水溶液処理が可能であって、耐刷性を良好に維持でき、非常に良好な生保存性を有する平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】支持体上に少なくとも感光層を有する平版印刷版原版に、３６０ｎｍ〜４５０ｎｍの範囲に発振波長を有する光源を搭載した露光装置を用いて露光した後、擦り部材を備えた自動処理機により、ｐＨが２〜１０の現像液の存在下、または水溶性高分子を含む水溶液の存在下、擦り部材で版面を擦ることにより、非露光部の感光層を除去する方式の平版印刷版原版において、前記感光層が、（Ａ）３６０ｎｍ〜４５０ｎｍの光を吸収する増感色素、（Ｂ）重合開始剤、（Ｃ）重合性化合物および（Ｄ）が親水性基を有するユニットを有する特定のポリウレタン樹脂であることを特徴とする平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】露光された感光性樹脂膜を有する半導体基板を静止した状態で、この基板の直径に対応した大きさを有する棒状現像液吐出ノズルを走査させるようにした現像装置を用いる現像方法において、基板の一端付近と他端付近の現像パターン寸法が現像液供給の時間差でばらつくのを防止する。
【解決手段】基板を静止させた状態で、基板上に棒状ノズルから現像液を吐出させながらノズルを移動するに際して、基板の一端Ｐ１から基板の他端Ｐ２までノズルを移動させ、その後、基板の一端Ｐ２から基板の他端Ｐ１までノズルを移動させてノズルを往復移動させる。このようすれば、基板に対する現像液の塗布状態は対称になるから、当然現像時間はＰ１部とＰ２部とでほぼ同じになり、現像の均一性は向上し、現像パターン寸法ばらつきは減少する。 （もっと読む）

【課題】露光された感光性樹脂膜を有する半導体基板を静止した状態で、この基板の直径に対応した大きさを有する棒状現像液吐出ノズルを走査させるようにした現像装置を用いる現像方法において、基板の一端付近と他端付近の現像パターン寸法が現像液供給の時間差でばらつくのを防止する。
【解決手段】基板を静止させた状態で、基板上に棒状ノズルから現像液を吐出させながらノズルを移動するに際して、基板の一端Ｐ１から基板からの高さがＨＨの状態で移動を開始し、ノズルの高さを次第に低くして基板の他端Ｐ２で基板からの高さをＨＬにする。このようすれば、基板のＰ１部では最も早く現像が始まるが、現像液吐出ノズルの吐出の高さを随時低くさせることにより、基板の両端Ｐ１、Ｐ２での現像が始まる時間差が短縮される。 （もっと読む）

【課題】高感度で、セーフライト適性に優れた平版印刷版原版をｐＨ２．０〜１０．０の水性現像液で現像する製版方法を提供する。
【解決手段】親水性支持体上に、（Ａ）３５０〜４５０ｎｍの波長域に極大吸収を有する増感色素、（Ｂ）ボレート化合物、（Ｃ）重合性化合物、および（Ｄ）酸価が０．３ｍｅｑ／ｇ以下である疎水性バインダーポリマーを含有する感光層と、保護層とをこの順に有する平版印刷版原版を、３５０〜４５０ｎｍのレーザー露光した後、擦り部材を備えた自動処理機により、ｐＨが２〜１０の現像液の存在下、擦り部材で版面を擦ることにより、保護層および非露光部の感光層を除去することを特徴とする平版印刷版の作製方法。 （もっと読む）

【課題】液晶基板やプリント基板の現像プロセスから回収された現像液のアルカリ濃度および樹脂濃度を管理すると共に、一定濃度に再調製した現像液を現像プロセスに供給する現像液の供給装置を提供する。
【解決手段】現像液の供給装置は、現像液原液を供給する機構および新たな現像液または希釈水を供給する機構が付設された調整槽（１）、使用済現像液を調整槽（１）に送液する回収流路（２２）、再調製された現像液を現像プロセス（８）に送液する供給流路（２１）とを備え、回収流路（２２）には、現像プロセス（８）から送液される使用済現像液を装置外に排出する排出流路（２３）が設けられる。そして、調整槽（１）に回収された使用済現像液の量が再調整に必要な使用量を超えた場合に排出流路（２３）から使用済現像液を排出する様に構成される。 （もっと読む）

【課題】 飛散した処理液が固化して被処理物に再付着することを防止した処理装置を提供する。
【解決手段】 配管室１２の一端には、調圧装置３７が接続される。調圧装置３７は、配管室１２に空気を送り込んで配管室１２内を過給気状態にすることで、隔壁１５を介して隣接する処理室１１よりも配管室１２の内圧が高くなるように保つ。隔壁１５には開口３１，３１‥が形成されているが、隔壁１５全体の表面積に対しては開口３１，３１‥全体のの面積は充分に小さいので、処理室１１より配管室１２の内圧を高く保つことができる。 （もっと読む）

【課題】フォトレジスト現像液を用いて現像を行う現像装置における炭酸ガスの問題を根源的に解決し、かつ、現像対象の大型化に対しても初期コスト、運転コストを極力低く抑えることができる炭酸ガス除去システムを提供する。
【解決手段】現像装置ＤＰが設置されたクリーンルーム内の空気を吸い込む吸引手段１と、この吸引手段１からの空気に含まれる炭酸ガスを炭酸ガス吸収液を用いて除去するガス除去手段２と、このガス除去手段２で炭酸ガスが除去された空気中の炭酸ガス吸収液のミストなどを除去して清浄化する空気清浄手段３とを備え、この空気清浄手段３で清浄化された空気を清浄空気戻し室５を介して現像装置ＤＰへ戻すようにした。 （もっと読む）

【課題】現像により樹脂層が除去されて形成された光反射膜の露出領域において、光反射率を測定することにより、現像液の交換時期を適切に判断して、樹脂層の現像不良の発生を防止することができる電気光学装置の製造方法、電気光学装置の検査方法を提供する。
【解決手段】基板上に樹脂膜を備えた電気光学装置の製造方法において、基板上に光反射膜を形成するための光反射膜形成工程と、光反射膜上に重なるように感光性樹脂材料を塗布して樹脂層を形成する塗布工程と、樹脂層に対して、パターン露光をする露光工程と、樹脂層に対して、現像液を適用して所定形状の樹脂膜を形成し、少なくとも光反射膜の一部を露出させる現像工程と、を含み、更に、光反射膜が露出した領域における光反射率を測定するための光反射率測定工程を含む。 （もっと読む）

【課題】本発明は、微小欠陥の発生を低減できる微細パターン形成体の製造方法を提供することを主目的とするものである。
【解決手段】本発明は、基板上に感光性レジストを塗布しレジスト層を形成するレジスト層形成工程と、上記レジスト層を露光する露光工程と、上記露光工程後のレジスト層を現像液で現像する現像工程と、上記現像工程後のレジスト層をリンス液でリンスするリンス工程と、を有する微細パターン形成体の製造方法であって、上記リンス工程の際に、上記基板を鉛直軸周りに水平に回転させ、上記現像工程後のレジスト層に対して、上記リンス液をスリットノズルにより帯状に吐出し、かつ、上記スリットノズルの吐出口から吐出される上記リンス液の流速が、０．６５×１０^４〜３×１０^４ｃｍ／ｍｉｎの範囲内であることを特徴とする微細パターン形成体の製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】 各感応基板の大気雰囲気内に置かれた時から現像処理開始時までの時間を一定にすることができる現像装置を提供する。
【解決手段】 減圧雰囲気内で露光された感応基板Ｗを現像する現像装置２において、現像処理を開始するまで露光処理を終えた前記感応基板Ｗを待機させる基板待機部２６と、前記感応基板Ｗの露光処理終了時から現像処理開始時までの時間と他の感応基板の露光処理終了時から現像処理開始時までの時間とを一定にするために、前記基板待機部２６に前記感応基板Ｗを待機させる待機時間を制御する制御部とを備える。 （もっと読む）

【課題】レジスト膜の上に形成されたカバー膜を確実に除去して現像欠陥を防止することができる基板現像技術を提供する。
【解決手段】露光処理後の基板を回転させつつＳ１、その表面に希釈現像液を供給するＳ２。希釈現像液とはレジスト膜の現像処理に使用する現像液よりも濃度の低い現像液である。レジスト膜の上に形成されたカバー膜は比較的低濃度の希釈現像液であっても溶解し、剥離する。また、希釈現像液であればレジスト膜の実質的な現像処理は進行しない。続いて、基板表面に純水を供給して希釈現像液および剥離したカバー膜を洗い流すＳ３。その後、基板の表面に通常の現像液を供給して現像処理を行うＳ５。 （もっと読む）